技術(shù)編號(hào)：8543025
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。在半導(dǎo)體器件的制造過程中，通常都需要經(jīng)過多次光刻工藝。一般情況下，都會(huì)使用到兩種光刻機(jī)掃描式光刻機(jī)(scanner)和步進(jìn)式光刻機(jī)(stepper),分別執(zhí)行不同的光刻步驟。光刻機(jī)的曝光場(exposure field)是指光刻機(jī)一次成像(shot)所覆蓋的區(qū)域。掃描式光刻機(jī)的曝光場的最大尺寸一般比步進(jìn)式光刻機(jī)的曝光場的最大尺寸要大，例如掃描式光刻機(jī)的最大曝光場的尺寸為26X32mm2、步進(jìn)式光刻機(jī)的最大曝光場的尺寸為22 X 22mm2 或 18.5 X...
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