技術(shù)編號：8554767
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。為滿足氣相沉積膜設備在沉積時的反應要求，在沉積過程中腔室內(nèi)部需要保持一定的真空。沉積開始前(或結(jié)束后)將襯底送入(或取出)反應腔室時，需要將反應腔室內(nèi)的真空回填到與過渡腔室相近，通過兩腔室連接閥口，使用傳遞裝置將襯底從過渡腔室送入至反應腔室(或?qū)⒁r底從反應腔室取出至過渡腔室)。此時，需要通過向反應腔室通入惰性氣體，使反應腔室內(nèi)與過渡腔室內(nèi)部壓力相近。惰性氣體通過與反應腔室聯(lián)通的一個小孔進入反應腔室，出口位置位于反應腔室內(nèi)與過渡腔室之間的襯底傳遞通道下表面。...
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