技術(shù)編號(hào)：8581741
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。低溫等離子體是在常溫下發(fā)生的等離子體(雖然電子的溫度很高)，低溫等離子體可以被用于氧化、變性等表面處理或者在有機(jī)物和無機(jī)物上進(jìn)行沉淀涂層處理?，F(xiàn)有的等離子體反應(yīng)器結(jié)構(gòu)復(fù)雜，價(jià)格高昂，而且操作麻煩，導(dǎo)致企業(yè)、學(xué)校等單位經(jīng)費(fèi)緊張，更要對(duì)操作人員進(jìn)行培訓(xùn)，費(fèi)時(shí)耗力。實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)存在的問題做出改進(jìn)，即本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是提供一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、適用性好的簡(jiǎn)易常壓低溫射頻等離子體反應(yīng)器。為了解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型的技術(shù)方案是一種簡(jiǎn)...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。