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      一種用于晶圓曝光的工件臺的制作方法技術(shù)資料下載

      技術(shù)編號:8885818

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      用于晶圓曝光的精密工件臺,特別是大行程的精密工件臺是集精密機(jī)械、精密測量、運(yùn)動控制等多項技術(shù)于一體的復(fù)雜系統(tǒng),將一個大的曝光面積分解成多個可以在視場范圍內(nèi)曝光的部分,通過控制工件臺對硅片多次曝光實(shí)現(xiàn)大面積的光刻,其定位精度決定著套刻精度,并影響光刻線寬尺寸,其步進(jìn)速度決定了產(chǎn)率。精密定位工件臺必須具有快速步進(jìn)以提高曝光效率、精確定位以實(shí)現(xiàn)高精度的圖形切換和大行程運(yùn)動以實(shí)現(xiàn)大面積曝光適應(yīng)產(chǎn)業(yè)發(fā)展需要,工件臺控制系統(tǒng)及其有效補(bǔ)償是獲得高性能、高產(chǎn)率的重要條件,...
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