技術(shù)編號:8944606
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。功率半導(dǎo)體器件在電力電子領(lǐng)域有著廣闊的應(yīng)用前景,可以提高設(shè)備效率,更加節(jié)能,同時可以提高集成度,減小設(shè)備體積。常用的功率半導(dǎo)體器件如GaAs、GaN, SiC等材質(zhì)的器件,耐壓各有不同。通過對功率半導(dǎo)體器件工作原理分析,柵極與漏極之間電壓差較大,器件在高電壓下?lián)舸┑奈恢猛ǔT跂艠O根部、靠近漏極的位置半導(dǎo)體層擊穿,通常擊穿電壓在100V以下。而半導(dǎo)體層的材料,以GaN為例,耐壓理論值為3.3X 106V/cm,以柵極、漏極間距1um來計算,器件耐壓理論值也在...
注意:該技術(shù)已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。