技術(shù)編號(hào)：9230550
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本公開涉及襯底處理系統(tǒng)，更具體地涉及在襯底處理系統(tǒng)中批量(bulk)汽化前體的系統(tǒng)和方法。背景技術(shù)這里提供的背景描述是為了總體上描述本公開的背景的目的。當(dāng)前列明的發(fā)明人的在該背景技術(shù)部分中描述的工作以及說明書中的在提交時(shí)不能作為現(xiàn)有技術(shù)的方面既不明確也不暗示性地承認(rèn)其作為針對(duì)本公開的現(xiàn)有技術(shù)。襯底處理系統(tǒng)用于沉積和/或蝕刻諸如半導(dǎo)體晶片之類的襯底上的膜。例如，襯底處理系統(tǒng)可以執(zhí)行化學(xué)氣相沉積(CVD)、等離子體增強(qiáng)(PE)CVD、原子層沉積(ALD)、PE...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。