技術(shù)編號：9262136
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。 在對基板上的膜進行蝕刻的等離子體處理裝置中，為了提高形成在基板上的圖案 的面內(nèi)均一性（蝕刻的均一性），設(shè)置包圍基板的聚焦環(huán)（例如，專利文獻1、2)。聚焦環(huán)伴 隨著使用經(jīng)過的時間，由于等離子體被蝕刻消耗，因此，形成在基板上的圖案的面內(nèi)均一性 降低。因此，聚焦環(huán)對應(yīng)著其使用時間需要定期更換。 在先技術(shù)文獻 專利文獻 專利文獻1 日本特開2008-78208號公報 專利文獻2 日本特開2003-229408號公報發(fā)明內(nèi)容 但是，聚焦環(huán)不是通過監(jiān)視聚焦環(huán)的消耗度...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。