技術(shù)編號(hào)：9262137
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及大氣壓低溫等離子體射流加工，具體地，涉及一種六自由度微等離子體射流加工平臺(tái)系統(tǒng)。背景技術(shù)大氣壓低溫等離子體射流是一種新型的等離子體放電技術(shù)，它具有運(yùn)行溫度低、可控性好、操作簡(jiǎn)單等特點(diǎn)?，F(xiàn)階段大氣壓低溫等離子體射流正朝著微型化方向發(fā)展，即等離子體射流尺寸降到微米或納米量級(jí)，主要應(yīng)用于大氣壓下微電子器件及納米器件的刻蝕加工。其中，對(duì)于生物醫(yī)療器件正不斷向微型化和曲面復(fù)雜化方向發(fā)展，這對(duì)大氣壓微等離子體射流加工提出了更高的要求。然而，對(duì)于具有三維結(jié)構(gòu)的...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。