技術(shù)編號：9289049
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。 以數(shù)nm~數(shù)百nm的周期規(guī)則排列的微細(xì)結(jié)構(gòu)，能夠應(yīng)用于催化劑、防反射膜、電 路、磁記錄介質(zhì)等各種技術(shù)。要制作那樣的結(jié)構(gòu)的話，可以舉出利用電子束和/或紫外光的 繪圖裝置在抗蝕劑上繪制圖案的方法、利用二嵌段共聚物和/或微粒的自組織化現(xiàn)象的方 法等。 特別是如果將微粒用于圖案形成，則有與使用二嵌段共聚物和/或抗蝕劑不同的 優(yōu)點(diǎn)。由無機(jī)物形成的微粒，具有與有機(jī)物不同的蝕刻耐性，因此通過適當(dāng)選擇形成微粒的 材料，能夠使在接下來的過程中的蝕刻選擇比、生長選擇比成為優(yōu)...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。
該類技術(shù)無源代碼，用于學(xué)習(xí)原理，如您想要源代碼請勿下載。