技術(shù)編號：9374294
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。MEEF (Mask Error Enhancement Factor，掩模誤差增強(qiáng)因子)通常作為衡量光刻工藝制程的標(biāo)準(zhǔn)之一。MEEF的定義為MEEF = AOT硅片/ Δ (⑶光罩/M)，⑶為CriticalDimens1n (臨界尺寸)的簡稱。其中，M為光罩的放大倍數(shù)，通常情況下M為4，CD光罩為4倍光罩⑶，⑶光罩/M為I倍光罩⑶，Δ (⑶光罩/M)為I倍光罩上⑶的變化量，Δ⑶硅片為硅片上⑶的變化量)。MEFF也可以理解為I倍光罩⑶變化lnm，硅片上⑶...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。