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      晶片校準(zhǔn)裝置以及半導(dǎo)體加工設(shè)備的制造方法技術(shù)資料下載

      技術(shù)編號(hào):9377887

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      在半導(dǎo)體的制程工藝中,需要將待處理的晶片從大氣環(huán)境中逐步傳送至真空腔室中進(jìn)行諸如刻蝕、沉積等的工藝。這就需要一個(gè)由一系列的大氣設(shè)備和真空設(shè)備組成的晶片傳輸系統(tǒng)。例如,通常需要借助機(jī)械手進(jìn)行傳輸、取片和放片操作,以實(shí)現(xiàn)晶片的傳輸和裝卸。為了保證工藝的穩(wěn)定性,要求晶片能夠被精確傳輸至指定位置,雖然當(dāng)前機(jī)械手的理論傳輸精度能夠達(dá)到工藝要求,但是在實(shí)際的傳輸過(guò)程中,往往會(huì)因諸如機(jī)械振動(dòng)、安裝精度等的各種不確定的因素而導(dǎo)致晶片相對(duì)于機(jī)械手的手指中心發(fā)生偏移,從而造成...
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