技術編號：9377975
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。集成電路(IC)尤其是超大規(guī)模集成電路中的主要器件是金屬氧化物半導體場效應晶體管(MOS)，隨著半導體集成電路工業(yè)技術日益的成熟，超大規(guī)模的集成電路的迅速發(fā)展，具有更高性能和更強功能的集成電路要求更大的元件密度，而且各個部件、元件之間或各個元件自身的尺寸、大小和空間也需要進一步縮小。對于具有更先進的技術節(jié)點的CMOS而言，后高K/金屬柵極(high-k and metal gate last)技術已經(jīng)廣泛地應用于CMOS器件中，以避免高溫處理工藝對器件的損...
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