技術(shù)編號：9383193
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。基板處理裝置是在半導(dǎo)體或液晶面板等的制造工序中，將處理液(例如，抗蝕劑剝離液或清洗液等)供給至晶片或液晶基板等基板的表面并對基板表面進(jìn)行處理的裝置。在該基板處理裝置中，一種進(jìn)行自旋(spin)處理的基板處理裝置被提出(例如，參考專利文獻(xiàn)I)，該自旋處理使基板以水平狀態(tài)旋轉(zhuǎn)，將處理液從與此基板表面的中央對置的一個(gè)噴嘴供給至基板表面，通過由旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的離心力使此處理液擴(kuò)散至基板表面?，F(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)I日本特開2002 - 336761號公報(bào)發(fā)明所要...
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