技術(shù)編號(hào)：9434414
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種氣體分配裝置，且更具體而言，涉及一種能夠通過利用雙等離子體來提高基板上的工藝均勻性的氣體分配裝置以及一種包含所述氣體分配裝置的基板加工裝置。背景技術(shù)—般而言，利用半導(dǎo)體工藝來制造半導(dǎo)體元件、顯示元件、發(fā)光二極管或薄膜太陽(yáng)能電池。半導(dǎo)體工藝包括薄膜沉積工藝，用于在基板上沉積特定材料的薄膜；光刻工藝，用于利用光阻劑來暴露出或覆蓋所述薄膜的選定區(qū)；以及蝕刻工藝，用于移除及圖案化選定區(qū)中的所述薄膜。半導(dǎo)體工藝被重復(fù)執(zhí)行多次，以形成所需的多層式結(jié)構(gòu)。此...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。