技術(shù)編號(hào):9475730
提示:您尚未登錄,請點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。 本發(fā)明設(shè)及一種化學(xué)機(jī)械拋光組合物,其包含在范圍介于2至6的抑值下具 有-15mV或-15mVW下的負(fù)C電位的表面改性二氧化娃粒子及聚乙締亞胺,W及關(guān)于聚乙 締亞胺作為化學(xué)機(jī)械拋光(CM巧組合物的添加劑的用途。本發(fā)明還設(shè)及用于制造半導(dǎo)體裝 置的方法,包括在化學(xué)機(jī)械拋光(CM巧組合物存在下化學(xué)機(jī)械拋光基材或?qū)印?現(xiàn)有技術(shù) 在半導(dǎo)體工業(yè)中,化學(xué)機(jī)械拋光為在制造高級(jí)光子、微機(jī)電及微電子材料及裝置 (如半導(dǎo)體晶圓)時(shí)所應(yīng)用的熟知技術(shù)。 在用于半導(dǎo)體工業(yè)的材料及裝置...
注意:該技術(shù)已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。