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      包含聚乙烯亞胺的化學(xué)機(jī)械拋光組合物的制作方法技術(shù)資料下載

      技術(shù)編號(hào):9475730

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      本發(fā)明設(shè)及一種化學(xué)機(jī)械拋光組合物,其包含在范圍介于2至6的抑值下具 有-15mV或-15mVW下的負(fù)C電位的表面改性二氧化娃粒子及聚乙締亞胺,W及關(guān)于聚乙 締亞胺作為化學(xué)機(jī)械拋光(CM巧組合物的添加劑的用途。本發(fā)明還設(shè)及用于制造半導(dǎo)體裝 置的方法,包括在化學(xué)機(jī)械拋光(CM巧組合物存在下化學(xué)機(jī)械拋光基材或?qū)印?現(xiàn)有技術(shù) 在半導(dǎo)體工業(yè)中,化學(xué)機(jī)械拋光為在制造高級(jí)光子、微機(jī)電及微電子材料及裝置 (如半導(dǎo)體晶圓)時(shí)所應(yīng)用的熟知技術(shù)。 在用于半導(dǎo)體工業(yè)的材料及裝置...
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