技術(shù)編號：9519642
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)是一種低溫等離子體表面沉積技術(shù)，其主要特點(diǎn)如下僅作用于材料表面，材料表面，常常只有幾個(gè)微米或納米量級，材料主體性能受到的影響極??；相對于傳統(tǒng)的濕式表面處理方法具有清潔環(huán)保，節(jié)省能源等優(yōu)勢；可以獲得一些其他方法所得不到的沉積效果，擴(kuò)大了一些材料的應(yīng)用領(lǐng)域，并提高了其使用價(jià)值。因此，低溫等離子體表面沉積技術(shù)近年來受到越來越多的關(guān)注。PECVD作為一種新型的材料表面功能薄膜沉積技術(shù)具有工藝溫度低、膜層繞鍍性好、薄膜應(yīng)力可控制...
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