技術(shù)編號：9528983
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。 眾所周知在氧化銦中添加了鈰（Ce)的膜的折射率高，且在光學(xué)膜的設(shè)計方面為 有用的材料。 例如，專利文獻(xiàn)1中，揭示了一種含有10質(zhì)量％~40質(zhì)量％的氧化鈰且剩余部分 包含氧化銦的濺鍍靶材，亦即，將Ce相對于In、Ce的合計的原子比即CeAln+Ce)設(shè)定為 0. 082~0. 35的范圍的In-Ce-Ο系濺鍍靶材，使用此種濺鍍靶材，獲得折射率為2. 0以上的 膜（光碟用保護(hù)膜）。 此外，上述派鍍祀材是由In-Ce-Ο系氧化物燒結(jié)體制作而成，所述In-Ce-...
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