技術(shù)編號：9577988
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。 用于集成芯片生產(chǎn)的光刻技術(shù)的分辨率受限于所用光刻光源的波長。使用較短波 長的光刻光源在提高光刻分辨率的同時，還有利于進(jìn)一步減小芯片的尺寸。光刻機(jī)光源的 波長從365nm發(fā)展至248nm，進(jìn)一步發(fā)展至193nm，光刻分辨率也提高到了 16nm節(jié)點(diǎn)。中心 波長在13. 5nm的極紫外光源的采用，已將光刻分辨率提高至14腹，且荷蘭的ASML公司即將 使用該種極紫外光源的光刻機(jī)投入量產(chǎn)。為進(jìn)一步提高光刻機(jī)分辨率，對光刻光源的研究 轉(zhuǎn)入了波長在6.Xnm的極紫外光...
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