技術(shù)編號：9749269
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。 高純?nèi)闊N，如六氟乙烷、八氟丙烷、八氟環(huán)丁烷等，作為電子器件的清洗劑和 刻蝕劑，應(yīng)用于半導(dǎo)體制造和電子工業(yè)。隨著刻蝕精度要求越來越高，全氟烷烴的純度要求 也越來越高。一般而言，應(yīng)用于大規(guī)模集成電路的高純?nèi)闊N要求純度大于99.999%。 在全氟烷烴的制備過程中，往往涉及氟化或高溫反應(yīng)，放出大量熱量，會發(fā)生碳-碳、碳-氟、碳-氫、碳-氯鍵的斷裂和重構(gòu)，產(chǎn)生大量的碎片、二聚物、多聚物或其它化合物。 全氟烷烴中的雜質(zhì)主要是由碳、氫、氟、氯四種元素組成的化合...
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