技術(shù)編號：9750012
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。曝光是微加工過程中一個必不可少的工藝，特別是在顯示行業(yè)，無論是電路的刻蝕，還是彩色濾光片的制作，都與曝光密切相關(guān)。曝光機的有效曝光范圍，是依據(jù)使用的待曝光膜尺寸、掩膜版尺寸、光學鏡組等的匹配設計的，通常曝光區(qū)域無法覆蓋整面待曝光膜，即使覆蓋整面待曝光膜，但由于待曝光膜邊緣的光阻厚度不均勻或烘烤溫度有差異等因素，會導致邊緣出現(xiàn)光阻殘留。殘留的光阻需要通過邊緣曝光機將未曝光或未完全曝光的光阻曝光去除。因此，二次曝光會降低曝光的工作效率。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明提供一種光...
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