技術(shù)編號(hào)：9752585
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。隨著半導(dǎo)體工藝不斷演進(jìn)，越來越小的線寬被采用，可以得到芯片面積更小(有助于減小成本和有利于電子設(shè)備小型化)、速度更快的優(yōu)勢(shì)。各種光散射、衍射等現(xiàn)象日益嚴(yán)重，準(zhǔn)確保證器件各種特性越來越困難。生產(chǎn)的良率成為挑戰(zhàn)。特別是模擬電路，由于精度控制不好，有時(shí)會(huì)犧牲其性能。很多情況下模擬電路對(duì)精度要求很高。因此有必要進(jìn)行改進(jìn)。如果要兼顧良率就會(huì)犧牲模擬電路性能。如果要強(qiáng)調(diào)高性能，則良率會(huì)很低?，F(xiàn)有的工藝生產(chǎn)時(shí)，器件特性可能存在三種情況快工藝角、慢工藝角、典型工藝角。以電...
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