技術(shù)編號(hào)：9752682
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。 本發(fā)明涉及集成電路制造領(lǐng)域，特別涉及一種半導(dǎo)體器件及關(guān)鍵尺寸的測量方 法。背景技術(shù) 集成電路的快速發(fā)展，對(duì)光刻工藝的要求越來越高，其中，關(guān)鍵尺寸是一個(gè)非常重 要的參數(shù)。 現(xiàn)有技術(shù)中，采用SEM(Scanning Electron Microscope,掃描電子顯微鏡）測量關(guān) 鍵尺寸，SEM設(shè)備精密，分辨率高，放大倍率在10000倍以上，而且景深大，適合觀察表面起 伏的芯片。其測量原理是SEM介質(zhì)為電子束，通過電子束與芯片發(fā)生作用，可將傳導(dǎo)能帶 的電子轟擊...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。