技術編號：9859550
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。磁控濺射鍍膜是工業(yè)鍍膜生產(chǎn)中最主要的技術之一，與傳統(tǒng)的鍍膜方法相比，磁控濺射鍍膜具有許多優(yōu)點。例如，膜層和基體的附著力強;在大面積連續(xù)基板上可以制取均勻膜層;容易控制膜的成分，可以制取各種不同成分和配比的合金膜;可以進行反應濺射、制取多種化合物膜，可方便地鍍制多層膜;便于工業(yè)化生產(chǎn)，易于實現(xiàn)連續(xù)化、自動化操作等。鍍膜廠商普遍關心的問題是如何獲得附著力強、致密性好以及均勻度高的膜層。在濺射過程中，真空室溫度的高低，工藝氣體壓強的大小，靶面到基底的距離，濺射電...
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