技術編號：9917056
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種通過微波電力產(chǎn)生等離子體而對晶片等被處理基板實施使用等離子體的CVD(chemical vapor deposit1n，化學氣相沉積)(化學氣相合成)、蝕刻、灰化(抗蝕劑灰化處理)、等離子體氮化等處理的微波等離子體處理裝置。背景技術近年來，在材料開發(fā)或生產(chǎn)技術等的多個領域中等離子體處理技術成為不可缺少的技術。由于等離子體具有較高的非熱平衡性，并且可產(chǎn)生高密度的自由基，所以在低溫干式制程技術中被廣泛使用。另外，以往作為中間氣壓(I托?100托)...
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