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      一種鐵皮石斛的栽培方法及栽培裝置與流程

      文檔序號:11667807閱讀:342來源:國知局

      本發(fā)明涉及植物栽培技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種鐵皮石斛的栽培方法及栽培裝置。



      背景技術(shù):

      鐵皮石斛,又稱鐵皮楓斗,是一種名貴的中藥材,有很多的功效,藥用植物界稱其為“藥界大熊貓”,被民間稱作“救命仙草”。它具有提高人體免疫能力、增強(qiáng)記憶力、補(bǔ)五臟虛勞、抗衰老、抑制腫瘤、生津養(yǎng)胃、滋陰清熱、潤肺益腎、明目強(qiáng)腰等作用。鐵皮石斛是一種附生植物。而附生植物是一類不跟土壤接觸,根群附著在其他活體植物上生長,以雨露、空氣中的水汽及腐爛的枯枝殘葉、動物排泄物等有限的腐殖質(zhì)為生的植物。鐵皮石斛在自然條件下主要生長于一些高大喬木陰濕的樹干或石灰?guī)r上,因而在人工繁育栽培條件下也可模擬自然環(huán)境條件進(jìn)行栽植,根據(jù)附主的特性不同,可將鐵皮石斛的人工附主栽植分為貼石栽種法、貼樹栽種法和蔭棚栽種法3種形式。但是無論哪種方式,目前都是采用長時(shí)間噴霧的方式來保持鐵皮石斛根系的濕度,需要消耗大量水資源和能耗,對鐵皮石斛的生長并沒有促進(jìn)作用。



      技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

      本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種鐵皮石斛的栽培方法及栽培裝置。

      本發(fā)明所采取的技術(shù)方案是:

      一種鐵皮石斛的栽培方法,包括以下步驟:將鐵皮石斛放入容器中,每日使用營養(yǎng)液對鐵皮石斛進(jìn)行1-2次沖淋,每次沖淋的時(shí)間為0.5-2分鐘,保持鐵皮石斛不被浸泡,保持照射到鐵皮石斛的光照強(qiáng)度為150-2500lux,保持照射到鐵皮石斛的光量子通量密度為5-110μmol/m2·s。

      在一些優(yōu)選的實(shí)施方式中,所述容器具有側(cè)壁和底部,可以減緩鐵皮石斛根系表面的水分蒸發(fā)。

      在一些優(yōu)選的實(shí)施方式中,每日使用營養(yǎng)液對鐵皮石斛進(jìn)行1次沖淋,每次沖淋的時(shí)間為1分鐘。

      在一些優(yōu)選的實(shí)施方式中,保持照射到鐵皮石斛的光照強(qiáng)度為500-2000lux。

      在一些優(yōu)選的實(shí)施方式中,保持照射到鐵皮石斛的光量子通量密度為30-80μmol/m2·s。

      在一些優(yōu)選的實(shí)施方式中,所述營養(yǎng)液含有植物生長所需的大量元素和微量元素,其中大量元素包括c、h、o、n、s、p、ca、mg和k,所述微量元素包括fe、mn、b、zn、mo和cu。

      在一些優(yōu)選的實(shí)施方式中,栽培過程中周圍環(huán)境空氣濕度為20-80%。

      本發(fā)明還提供了一種用于實(shí)施如上所述的鐵皮石斛的栽培方法的栽培裝置,包括容器、對應(yīng)容器設(shè)置的用于懸掛鐵皮石斛的懸掛結(jié)構(gòu)、水循環(huán)裝置,所述水循環(huán)裝置設(shè)于所述容器中,用于將容器內(nèi)營養(yǎng)液抽往高處再沖淋到鐵皮石斛上。

      在一些優(yōu)選的實(shí)施方式中,所述容器包括上下多層設(shè)置的多個(gè)種植杯,所述多個(gè)種植杯上方均設(shè)有懸掛結(jié)構(gòu)。

      在一些優(yōu)選的實(shí)施方式中,所述栽培裝置還包括補(bǔ)光裝置,所述補(bǔ)光裝置設(shè)于所述懸掛結(jié)構(gòu)的上方。

      本發(fā)明的有益效果是:

      目前的鐵皮石斛的栽培方法都沒能掌握鐵皮石斛的生長習(xí)性,了解到鐵皮石斛喜歡在潮濕的環(huán)境下生長,就長時(shí)間或者一天24小時(shí)給鐵皮石斛噴霧供水,以保持鐵皮石斛的濕度,那是因?yàn)榇蠹覍﹁F皮石斛的生長特性了解太少,本發(fā)明提供了一種鐵皮石斛的栽培方法,包括以下步驟:將鐵皮石斛放入容器中,每日使用營養(yǎng)液對鐵皮石斛進(jìn)行1-2次沖淋,每次沖淋的時(shí)間為0.5-2分鐘,保持鐵皮石斛不被浸泡,保持照射到鐵皮石斛的光照強(qiáng)度為150-2500lux,保持照射到鐵皮石斛的光量子通量密度為5-110μmol/m2·s,將營養(yǎng)物質(zhì)溶于營養(yǎng)液中,每日僅需對鐵皮石斛沖淋一到兩次營養(yǎng)液,每次時(shí)間也只需0.5-2分鐘,對鐵皮石斛的供水耗能非常低,然后利用容器對周邊空氣的流通起一定限制作用,降低鐵皮石斛根系表面的水份蒸發(fā)速度,即可滿足鐵皮石斛的生長需求,通過對比試驗(yàn)發(fā)現(xiàn),采用本發(fā)明所述方法進(jìn)行鐵皮石斛栽培,鐵皮石斛的生長速度較普通的附生噴霧栽培方法快很多,且鐵皮石斛的生長狀態(tài)液明顯優(yōu)于普通的噴霧保濕方法。此外,本發(fā)明還提供了一種栽培裝置,包括容器、對應(yīng)容器設(shè)置的用于懸掛鐵皮石斛的懸掛結(jié)構(gòu)、水循環(huán)裝置,所述水循環(huán)裝置設(shè)于所述容器中,用于將容器內(nèi)營養(yǎng)液抽往高處再沖淋到鐵皮石斛上,可以通過營養(yǎng)液沖淋到鐵皮石斛后,從鐵皮石斛上滴落,流到容器內(nèi),下一次沖淋時(shí)又可以再通過水循環(huán)裝置將容器內(nèi)的營養(yǎng)液沖淋到鐵皮石斛上,營養(yǎng)液可以循環(huán)使用。

      附圖說明

      圖1為鐵皮石斛的栽培裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

      具體實(shí)施方式

      實(shí)施例1:

      參照圖1,本發(fā)明提供了一種鐵皮石斛的栽培裝置,包括容器、設(shè)于容器上方的用于懸掛鐵皮石斛的懸掛結(jié)構(gòu)1、水循環(huán)裝置,所述水循環(huán)裝置設(shè)于所述容器中,用于將容器內(nèi)營養(yǎng)液抽往高處再沖淋到鐵皮石斛上。在優(yōu)選的實(shí)施例中,所述栽培裝置還包括具有多層結(jié)構(gòu)的支撐架2,所述容器包括放置于所述支撐架2上的多個(gè)種植杯3,為了方便顯示結(jié)構(gòu),圖中種植杯3為透明狀態(tài),所述多個(gè)種植杯3上方設(shè)有用于懸掛鐵皮石斛的懸掛結(jié)構(gòu)1。如果用于室內(nèi)栽培鐵皮石斛,所述栽培裝置還包括補(bǔ)光裝置4,所述補(bǔ)光裝置4設(shè)于所述懸掛結(jié)構(gòu)1的上方。在本實(shí)施例中,所述補(bǔ)光裝置4設(shè)于最上層的種植杯3對應(yīng)的懸掛結(jié)構(gòu)1上方。

      將鐵皮石斛通過懸掛結(jié)構(gòu)1懸掛于容器上方,開啟補(bǔ)光裝置4,保持照射到鐵皮石斛的光照強(qiáng)度(e,單位為lux)為150-2500lux,保持照射到鐵皮石斛的光量子通量密度為5-110μmol/m2·s,通過測試可以得到從上而下第一層到第十層種植杯的對應(yīng)的a、b、c、d、e五個(gè)位置的光照強(qiáng)度(e,單位為lux)和光量子通量密度(ppfd,單位為μmol/m2·s)如表1中所示。然后每日使用營養(yǎng)液對鐵皮石斛進(jìn)行1次沖淋,所述營養(yǎng)液含有植物生長所需的大量元素和微量元素,其中大量元素包括c、h、o、n、s、p、ca、mg和k,所述微量元素包括fe、mn、b、zn、mo和cu,每次沖淋時(shí)間為1分鐘,保持鐵皮石斛不被浸泡,保持鐵皮石斛的根系的位置低于容器的側(cè)壁的高度,這樣容器側(cè)壁可以阻擋空氣流通,減緩鐵皮石斛根系表面的水分蒸發(fā)。采用本發(fā)明所述栽培方法對鐵皮石斛進(jìn)行栽培,對周圍環(huán)境的空氣濕度沒有要求,栽培過程中周圍環(huán)境空氣濕度為20-80%均可。

      表1各層種植杯五個(gè)位置的光照強(qiáng)度和光量子通量密度測量結(jié)果

      本發(fā)明所述栽培方法與相同光照強(qiáng)度、光量子通量密度條件下,采用普通種植方法相比較,本發(fā)明所述栽培方法栽培的鐵皮石斛的生長速度提升3-5倍,其生長狀態(tài)明顯優(yōu)于常規(guī)種植方法。

      實(shí)施例2:

      本實(shí)施例與實(shí)施例1基本相同,不同之處在于:每日使用營養(yǎng)液對鐵皮石斛進(jìn)行2次沖淋,每次沖淋的時(shí)間為0.5分鐘,除最下層種植杯以外各層種植杯底部設(shè)于漏水結(jié)構(gòu),上層種植杯中的營養(yǎng)液流向下層種植杯,最下層種植杯內(nèi)設(shè)有水循環(huán)裝置,將最下層種植杯內(nèi)的營養(yǎng)液通往最上層的種植杯,營養(yǎng)液通過漏水結(jié)夠沖淋到各層種植別內(nèi)的各株種鐵皮石斛上,最終收集在最下層種植杯內(nèi)。

      實(shí)施例3:

      本實(shí)施例與實(shí)施例1基本相同,不同之處在于:每日使用營養(yǎng)液對鐵皮石斛進(jìn)行1次沖淋,每次沖淋的時(shí)間為2分鐘。

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