技術特征：

技術總結
本發(fā)明涉及用于X射線相襯斷層合成成像的X射線探測器布置(10)，用于X射線相襯斷層合成成像的線探測器(1)，用于X射線相襯斷層合成成像的成像系統(tǒng)(24)，用于X射線相襯斷層合成成像的方法，以及用于控制這種布置的計算機程序元件和存儲了這種計算機程序元件的計算機可讀介質。所述X射線探測器布置(10)包括若干線探測器(1)。每個線探測器(1)被配置為在撞擊這種線探測器(1)的X射線束(2)的至少一部分中探測莫爾圖樣。每個線探測器(1)包括若干探測器線(11)，其中，每個線探測器(1)的寬度W等于莫爾圖樣的一個周期或整數(shù)倍的周期。

技術研發(fā)人員：E·勒斯爾
受保護的技術使用者：皇家飛利浦有限公司
技術研發(fā)日：2015.11.17
技術公布日：2017.08.01