本發(fā)明涉及腫瘤放射治療技術(shù)領(lǐng)域，更具體地說，本發(fā)明涉及一種3D適形乳腺癌術(shù)后胸壁放療組織補(bǔ)償技術(shù)。
背景技術(shù)：
放射治療是治療惡性腫瘤非常有效的方法之一。局部晚期乳腺癌改良根治術(shù)后常規(guī)需要術(shù)后放療，術(shù)后放療靶區(qū)包括乳腺切除術(shù)后的胸壁區(qū)域。胸壁放療常規(guī)采用電子線垂照方式給予劑量，為提高皮膚表面劑量，放療時(shí)需要墊0.5cm組織補(bǔ)償。但是乳腺癌術(shù)后患者胸壁厚度不均一，傳統(tǒng)放療技術(shù)導(dǎo)致兩個(gè)問題。首先是放療劑量不均勻，胸壁組織內(nèi)高量導(dǎo)致正常組織損傷，低量區(qū)導(dǎo)致劑量不足。此外，胸壁較薄處肺組織受量過高，導(dǎo)致不可逆的放射性肺炎發(fā)生率升高。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
本發(fā)明所要解決的問題是提供一種3D適形乳腺癌術(shù)后胸壁放療組織補(bǔ)償技術(shù)。根據(jù)臨床中遇到的上述問題，結(jié)合三維打印技術(shù)，通過計(jì)算機(jī)技術(shù)實(shí)現(xiàn)三維適形組織補(bǔ)償，使胸壁較薄的區(qū)域有足夠厚度組織補(bǔ)償，從而改善放療區(qū)域劑量均勻性，降低正常肺組織劑量。以達(dá)到療效好，副作用低的治療目的。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采取的技術(shù)方案為：一種3D適形乳腺癌術(shù)后胸壁放療組織補(bǔ)償，其特征在于，包括如下步驟：
(1)讓患者在CT模擬定位機(jī)下定位；
(2)根據(jù)手術(shù)清掃范圍在患者體表標(biāo)記擬放療范圍；
(3)在標(biāo)記處貼細(xì)鉛絲，對患者進(jìn)行CT掃描圖像顯影；
(4)獲得患者標(biāo)記處的CT圖像；
(5)根據(jù)放射治療計(jì)劃系統(tǒng)在計(jì)算機(jī)上利用繪圖軟件勾畫肺組織以及體廓區(qū)域；
(6)根據(jù)肺組織外輪廓和體廓之間的距離自動(dòng)生成不均一厚度組織補(bǔ)償；
(7)將放射治療計(jì)劃系統(tǒng)內(nèi)生成的組織補(bǔ)償圖形在計(jì)算機(jī)中導(dǎo)出生成3D打印文件；
(8)利用3D打印機(jī)打印輸出模體。
有益效果：該3D適形乳腺癌術(shù)后胸壁放療組織補(bǔ)償技術(shù)根據(jù)臨床中遇到的上述問題，結(jié)合三維打印技術(shù)，通過計(jì)算機(jī)技術(shù)實(shí)現(xiàn)三維適形組織補(bǔ)償，使胸壁較薄的區(qū)域有足夠厚度組織補(bǔ)償，從而改善放療區(qū)域劑量均勻性，降低正常肺組織劑量。以達(dá)到療效好，副作用低的治療目的。
具體實(shí)施方式
下面詳細(xì)說明本發(fā)明一種3D適形乳腺癌術(shù)后胸壁放療組織補(bǔ)償技術(shù)的優(yōu)選實(shí)施方式。
該3D適形乳腺癌術(shù)后胸壁放療組織補(bǔ)償技術(shù)包括如下步驟：
(1)讓患者在CT模擬定位機(jī)下定位；
(2)根據(jù)手術(shù)清掃范圍在患者體表標(biāo)記擬放療范圍；
(3)在標(biāo)記處貼細(xì)鉛絲，對患者進(jìn)行CT掃描圖像顯影；
(4)獲得患者標(biāo)記處的CT圖像；
(5)根據(jù)放射治療計(jì)劃系統(tǒng)在計(jì)算機(jī)上利用繪圖軟件勾畫肺組織以及體廓區(qū)域；
(6)根據(jù)肺組織外輪廓和體廓之間的距離自動(dòng)生成不均一厚度組織補(bǔ)償；
(7)將放射治療計(jì)劃系統(tǒng)內(nèi)生成的組織補(bǔ)償圖形在計(jì)算機(jī)中導(dǎo)出生成3D打印文件；
(8)利用3D打印機(jī)打印輸出模體。
該3D適形乳腺癌術(shù)后胸壁放療組織補(bǔ)償技術(shù)根據(jù)臨床中遇到的上述問題，結(jié)合三維打印技術(shù)，通過計(jì)算機(jī)技術(shù)實(shí)現(xiàn)三維適形組織補(bǔ)償，使胸壁較薄的區(qū)域有足夠厚度組織補(bǔ)償，從而改善放療區(qū)域劑量均勻性，降低正常肺組織劑量。以達(dá)到療效好，副作用低的治療目的。
以上所述僅為本發(fā)明的實(shí)施例，并非因此限制本發(fā)明的專利范圍，凡是利用本發(fā)明說明書及實(shí)施方式內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運(yùn)用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本發(fā)明的專利保護(hù)范圍內(nèi)。