本發(fā)明涉及一種視鏡系統(tǒng)，具體是一種彎曲狀態(tài)的鉛玻璃視鏡系統(tǒng)。

背景技術(shù)：

輻射指的是由場源出的電磁能量中一部分脫離場源向遠(yuǎn)處傳播，而后再返回場源的現(xiàn)象，能量以電磁波或粒子（如阿爾法粒子、貝塔粒子等）的形式向外擴(kuò)散。自然界中的一切物體，只要溫度在絕對(duì)溫度零度以上，都以電磁波和粒子的形式時(shí)刻不停地向外傳送熱量，這種傳送能量的方式被稱為輻射。在輻射防護(hù)領(lǐng)域，已知安裝視鏡鉛玻璃的門窗、機(jī)房、設(shè)備、容器等全部使用平板式的外形，有些或方或圓形的，但垂直觀看的玻璃棉都是有屏障的，這必然對(duì)視窗對(duì)面的視角有局限性。比利時(shí)的leuven大學(xué)和法國Bordeaux大學(xué)分別研究的電生理輻射防護(hù)艙房，使用的視鏡有傾斜角度，減少了視角的局限性。但是這種傾角視鏡遠(yuǎn)遠(yuǎn)沒有徹底解決輻射防護(hù)狀態(tài)下工作人員清洗視物和靈活操作的需要。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種彎曲狀態(tài)的鉛玻璃視鏡系統(tǒng)，以解決上述背景技術(shù)中提出的問題。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：

一種彎曲狀態(tài)的鉛玻璃視鏡系統(tǒng)，包括輻射源、視鏡和工作臺(tái)，所述輻射源位于工作臺(tái)的正上方，視鏡位于工作臺(tái)的一側(cè)，視鏡上端與上部墻壁之間的夾角為α，視鏡下端與下部墻壁之間的夾角為β，α+β=270°，視鏡采用鉛玻璃材質(zhì)制作。

作為本發(fā)明進(jìn)一步的方案：α的度數(shù)為140-160度。

作為本發(fā)明進(jìn)一步的方案：工作臺(tái)的另一側(cè)設(shè)置有顯示屏。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果是：本發(fā)明設(shè)計(jì)合理，結(jié)構(gòu)簡單，將平板鉛玻璃的平面彎曲成各種凹凸面，從而使得操作人員貼近又清晰的觀察要解決問題的目標(biāo)，便于靈活操作，從而達(dá)到優(yōu)質(zhì)的工作效果。

附圖說明

圖1為彎曲狀態(tài)的鉛玻璃視鏡系統(tǒng)中實(shí)施例1的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2為彎曲狀態(tài)的鉛玻璃視鏡系統(tǒng)中實(shí)施例2的結(jié)構(gòu)示意圖。

其中：1-輻射源，2-工作臺(tái)，3-視鏡，4-顯示屏，5-上部墻壁，6-下部墻壁，7-α，8-β。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合具體實(shí)施方式對(duì)本專利的技術(shù)方案作進(jìn)一步詳細(xì)地說明。

實(shí)施例1

請(qǐng)參閱圖1，一種彎曲狀態(tài)的鉛玻璃視鏡系統(tǒng)，包括輻射源1、視鏡3和工作臺(tái)2，所述輻射源1位于工作臺(tái)2的正上方，視鏡3位于工作臺(tái)2的一側(cè)，視鏡3上端與上部墻壁5之間的夾角為α7，視鏡3下端與下部墻壁6之間的夾角為β8，α+β=270°，視鏡3采用鉛玻璃材質(zhì)制作，α7的度數(shù)為140-160度。

將目標(biāo)物放置在工作臺(tái)2上，操作者低頭工作時(shí)，視線穿過視鏡3到達(dá)工作臺(tái)2的目標(biāo)物，操作者即可工作。

實(shí)施例2

請(qǐng)參閱圖2，一種彎曲狀態(tài)的鉛玻璃視鏡系統(tǒng)，包括輻射源1、視鏡3、顯示屏4和工作臺(tái)2，所述輻射源1位于工作臺(tái)2的正上方，視鏡3位于工作臺(tái)2的一側(cè)，視鏡3上端與上部墻壁5之間的夾角為α7，視鏡3下端與下部墻壁6之間的夾角為β8，α+β=270°，視鏡3采用鉛玻璃材質(zhì)制作，α7的度數(shù)為140-160度，工作臺(tái)2的另一側(cè)設(shè)置有顯示屏4。

將目標(biāo)物放置在工作臺(tái)2上，操作者低頭工作時(shí)，視線穿過視鏡3到達(dá)工作臺(tái)2的目標(biāo)物，操作者即可工作；操作者也可以抬頭穿過視鏡3看顯示屏4，顯示屏4上顯示的是目標(biāo)物的內(nèi)部結(jié)構(gòu)，可以引導(dǎo)操作者進(jìn)行微創(chuàng)手術(shù)等操作，滿足使用者不同的需求。

上面對(duì)本專利的較佳實(shí)施方式作了詳細(xì)說明，但是本專利并不限于上述實(shí)施方式，在本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員所具備的知識(shí)范圍內(nèi)，還可以在不脫離本專利宗旨的前提下做出各種變化。