相關(guān)申請(qǐng)的交叉引用

本申請(qǐng)要求2012年1月3日提交的美國(guó)臨時(shí)專(zhuān)利申請(qǐng)?zhí)?1/582,778的利益和優(yōu)先權(quán)，其通過(guò)引用被完整合并于此。

本技術(shù)涉及維生素d的光療，并且更具體地涉及光療裝置進(jìn)行聚焦的紫外線輻射和維生素d的合成以及相關(guān)的系統(tǒng)和方法。

背景技術(shù)：

維生素d是指一組人體可以通過(guò)充分的暴露于陽(yáng)光下合成的脂溶性開(kāi)環(huán)類(lèi)固醇(secosteriods)。更具體地，維生素d3是在當(dāng)7-脫氫膽固醇與紫外線b(“uvb”)的光進(jìn)行反應(yīng)時(shí)在皮膚中被制作的。維生素d也可以從不同的食物來(lái)源，如富含脂肪的魚(yú)(如鮭魚(yú)和金槍魚(yú))、維生素d強(qiáng)化食品(如乳制品和果汁產(chǎn)品)以及維生素d補(bǔ)充劑，進(jìn)行吸收。一旦被吸收，維生素d通過(guò)血流進(jìn)到肝臟并在那里被轉(zhuǎn)換成激素原骨化二醇。繼而，骨化二醇通過(guò)腎臟或在免疫系統(tǒng)中的單核-巨噬細(xì)胞被轉(zhuǎn)化為骨化三醇(維生素d的激素活性形式)。當(dāng)由單核-巨噬細(xì)胞進(jìn)行合成時(shí)，骨化三醇局部地充當(dāng)細(xì)胞因子以保護(hù)機(jī)體抵抗微生物入侵。腎臟合成的骨化三醇在體內(nèi)循環(huán)，以調(diào)節(jié)在血流中的鈣和磷的濃度，并從而促進(jìn)骨頭的足夠的礦化、增長(zhǎng)和重建。因此，維生素d水平的不足，(典型以在小于20-40ng/m2的血液中的骨化二醇濃度為特征)可引起各種骨軟化病，如小兒佝僂病和成人骨軟化癥。維生素d缺乏也被鏈接到許多其它疾病和病癥，例如抑郁癥、心臟疾病、痛風(fēng)、自身免疫性疾病，以及各種不同的癌癥。

最近，維生素d缺乏已成為突出的狀況，這至少在某種程度上是由于越來(lái)越多的大都市人口和由此產(chǎn)生的抑制足夠的日常暴露于用于維生素d的生成的陽(yáng)光的室內(nèi)生活方式所導(dǎo)致的。對(duì)皮膚癌的認(rèn)識(shí)以及阻止uvb射線的防曬保護(hù)的越加重視也可能增加了維生素d缺乏的蔓延。此外，各種環(huán)境因素，如地理緯度，季節(jié)和煙霧，進(jìn)一步阻礙了足夠的維生素d生產(chǎn)。

醫(yī)生們推薦維生素d補(bǔ)充劑作為一種預(yù)防性措施，以增加維生素d的水平。例如，美國(guó)醫(yī)學(xué)研究院推薦那些年齡在1-70歲的每天飲食中攝入600個(gè)國(guó)際單位(iu)的維生素d，以及年齡在71歲及以上的每天飲食中攝入800個(gè)iu的維生素d。其他機(jī)構(gòu)也建議更高和更低的每日維生素d的劑量。每日劑量的限制也反映了防止攝入過(guò)多的維生素d的努力，過(guò)多的維生素d可能最終變得有毒。相反，人的生理已經(jīng)適應(yīng)了來(lái)自太陽(yáng)光的顯著更高的日劑量的維生素d(例如4,000-20,000iu/天或更多)。由于維生素d可不費(fèi)力的從暴露在陽(yáng)光下而被生成，以及人體的抑制過(guò)度的通過(guò)皮膚攝入維生素d的自然能力，uvb輻射已被確定為更理想的維生素d的來(lái)源。

附圖說(shuō)明

本公開(kāi)內(nèi)容的許多方面可參照下面的附圖被更好地理解。附圖中的部件不一定是按比例進(jìn)行繪制。相反，重點(diǎn)應(yīng)放在說(shuō)明本發(fā)明的原理。

圖1a和1b是根據(jù)本技術(shù)的實(shí)施例分別配置的在打開(kāi)位置和關(guān)閉位置中聚焦的uvb輻射的光療裝置的等軸視圖。

圖1c是圖1a和1b的光療裝置的俯視圖。

圖1d是根據(jù)本技術(shù)的實(shí)施例配置的圖1a-1c的光療裝置的聚焦的uvb輻射組件的放大的側(cè)視圖。

圖2a和2b是分別根據(jù)本技術(shù)的實(shí)施例的在uvb過(guò)濾前后的uv光源的相對(duì)光譜功率的示例性圖形表示。

圖3a-3c示出了根據(jù)本技術(shù)的實(shí)施例配置的聚焦的uvb輻射的光療裝置的顯示頁(yè)。

圖4是根據(jù)本技術(shù)的實(shí)施例示出了提供維生素d的合成的聚焦的uvb輻射的方法的框圖。

圖5a是根據(jù)本技術(shù)的另一實(shí)施例配置的聚焦的uv輻射的光療裝置的等距視圖。

圖5b是根據(jù)本技術(shù)的實(shí)施例配置的圖5a的光療裝置的聚焦的uvb輻射組件的放大的局部示意性側(cè)視圖。

圖5c是根據(jù)本技術(shù)的另一實(shí)施例配置的圖5a的光療裝置的聚焦的uvb輻射組件的放大的局部示意性側(cè)視圖。

圖6是根據(jù)相比于太陽(yáng)的相對(duì)輻射強(qiáng)度的本發(fā)明的技術(shù)進(jìn)行配置的具有金屬鹵化物uv源的聚焦的uvb輻射組件的相對(duì)輻射強(qiáng)度的示例性圖形表示。

圖7是根據(jù)本技術(shù)的又一實(shí)施例配置的光療裝置的的聚焦的uvb輻射組件的正視圖。

圖8是根據(jù)相比于太陽(yáng)的相對(duì)輻射強(qiáng)度的本發(fā)明的技術(shù)進(jìn)行配置的具有脈沖氙氣uv源的聚焦的uvb輻射組件的相對(duì)輻射強(qiáng)度的示例性圖形表示。

具體實(shí)施例

本技術(shù)涉及用于為維生素d合成提供聚焦的uvb輻射的裝置、系統(tǒng)和方法。該技術(shù)的一些實(shí)施例的具體細(xì)節(jié)參考圖1a-8被描述如下。雖然與用于促進(jìn)在皮膚中維生素d的生產(chǎn)的光療系統(tǒng)、裝置和方法有關(guān)的許多實(shí)施例被描述如下，但除了那些在此描述的實(shí)施例之外的其他應(yīng)用(例如，皮膚病的光療治療)和其他實(shí)施例也都是在本技術(shù)的范圍之內(nèi)。此外，本技術(shù)的一些其他實(shí)施例可以有除了本文描述的那些的不同的構(gòu)造、部件或過(guò)程。因此，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員將相應(yīng)地理解，本技術(shù)可以有帶有附加元素的其他的實(shí)施例，或者本技術(shù)可以有不帶有參照?qǐng)D1a-8被顯示和描述如下的一些特征的其它實(shí)施例。

圖1a和1b是根據(jù)本技術(shù)的實(shí)施例分別配置的在打開(kāi)位置和關(guān)閉位置中聚焦的uvb輻射的光療裝置100(“裝置100”)的等軸視圖，以及圖1c是圖1a和1b的光療裝置100的俯視圖。參照?qǐng)D1a-1c一起，裝置100可包括具有一個(gè)或多個(gè)側(cè)壁104以及門(mén)108的罩體102，一個(gè)或多個(gè)側(cè)壁104以及門(mén)108限定被配置為容納一個(gè)用戶(hù)(例如，患者)的腔室或內(nèi)部空間106。罩體102可承載多個(gè)聚焦的uvb輻射組件110，其引導(dǎo)聚焦的uvb輻射大體上朝向用戶(hù)可以在其中被暴露于聚焦的uvb輻射的內(nèi)部空間106或輻照區(qū)。聚焦的uvb輻射組件110可以生成在預(yù)定的光譜范圍內(nèi)的uvb輻射，以促進(jìn)在人類(lèi)皮膚中的維生素d的生產(chǎn)。例如，預(yù)定的光譜可具有聚焦在大約297納米(即約293-301納米)處的約8納米的帶寬，這通常被認(rèn)為是維生素d的合成的峰值波長(zhǎng)。在其它實(shí)施例中，輻射的預(yù)定光譜可具有更寬或更窄的帶寬(例如，約6-10納米)，可以圍繞適于維生素d的生產(chǎn)的其它波長(zhǎng)(例如，296納米、300納米、302納米，等)被聚集。由裝置100提供的濃縮uvb輻射可以輸送大劑量的維生素d(例如，每周一劑，每月一劑，等)至在相比于產(chǎn)生相同量的維生素d所需的暴光的長(zhǎng)度的相對(duì)短的光療會(huì)話中(例如，小于10分鐘，小于5分鐘后，不超過(guò)2分鐘，在不到1分鐘等)的用戶(hù)。在其它實(shí)施例中，聚焦的uvb輻射組件110可以圍繞為皮膚疾病(如牛皮癬)或其它病癥(例如濕疹)提供治療效果的其他uvb波長(zhǎng)被聚焦。

罩體102的尺寸被制作為可允許用戶(hù)(例如，成年人)在光療會(huì)話期間完全站立在內(nèi)部空間106之內(nèi)。例如，用戶(hù)可樞轉(zhuǎn)、滑動(dòng)和/或以其它方式打開(kāi)門(mén)108(例如，如圖1a所示)，以進(jìn)入內(nèi)部空間106并關(guān)閉門(mén)108(例如，如圖1b所示)，以至少部分地包圍在罩體102內(nèi)的用戶(hù)。在各種實(shí)施例中，罩體102可以具有約90-100英寸(228.6-254厘米)的高度和大約40至50英寸(101.6-127厘米)的外徑，如從iso意大利美國(guó)俄亥俄州克利夫蘭可得的maxterv19er垂直日光浴床。在其它實(shí)施例中，罩體102可以具有其它合適的尺寸和/或取向以容納在內(nèi)部空間106內(nèi)的用戶(hù)。例如，罩體102可以被水平地配置以允許用戶(hù)在光療會(huì)話期間躺下。由罩體102提供的全身外殼可使用戶(hù)皮膚的一大部分暴露在內(nèi)部空間106中產(chǎn)生的聚焦的uv輻射，并因此在光療會(huì)話期間經(jīng)由用戶(hù)皮膚促進(jìn)大量維生素d的生產(chǎn)。在其它實(shí)施例中，罩體102可以是更小的和/或被配置為僅容納身體的一部分，例如面部或上半身。

如在圖1a和圖1c中所示，多個(gè)聚焦的uvb輻射組件110可以被定位在保護(hù)蓋或面板111后面的罩體102的側(cè)壁104和/或門(mén)108的上面或者之中并被引導(dǎo)朝向內(nèi)部空間106，以使得聚焦的uvb輻射組件110至少部分地圍繞所述內(nèi)部空間106。在圖示的實(shí)施例中，聚焦的uvb輻射組件110被布置在圍繞內(nèi)部空間106的周邊的四個(gè)柱狀物之中。在其它實(shí)施例中，聚焦的uvb輻射組件110可以布置在更多或更少的柱狀物之中，或以其它方式被定位為至少部分地圍繞內(nèi)部空間106。

如圖1c所示，裝置100還可以包括一個(gè)或多個(gè)冷卻風(fēng)扇118或被引導(dǎo)通常朝向聚焦uvb輻射組件110和/或罩體102的內(nèi)部空間106以至少降低uvb輻射組件110的工作溫度的其他冷卻特征。風(fēng)扇118也可以被配置為在操作之前和/或之后冷卻uvb輻射組件110。在選定的實(shí)施例中，裝置100可以被配置為在uvb輻射組件110被打開(kāi)后激活風(fēng)扇118，以允許組件110來(lái)迅速提高到操作溫度(例如，允許uvb輻射組件110產(chǎn)生uvb輻射的溫度)，而無(wú)需來(lái)自風(fēng)扇118的干擾。組件110的激活的和風(fēng)扇的啟動(dòng)之間的延遲的持續(xù)時(shí)間可以是，例如，小于一分鐘(如10-15秒、3-5秒，等等)。風(fēng)扇延遲可以通過(guò)減小uvb輻射組件110開(kāi)始產(chǎn)生聚焦的uvb輻射所消耗的時(shí)間來(lái)降低整個(gè)光療時(shí)間(例如，30秒、2分鐘、5分鐘，等等)。在其它實(shí)施例中，風(fēng)扇118可以設(shè)置在相對(duì)較低的強(qiáng)度和/或速度(例如，相比于典型的日光浴床風(fēng)扇)，以減少與uvb輻射組件110的迅速提高時(shí)間的干擾。在進(jìn)一步的實(shí)施例中，裝置100可以被配置為防止用戶(hù)進(jìn)入內(nèi)部空間106，直到uvb輻射組件110都達(dá)到或接近它們的操作溫度，以使得迅速提高時(shí)間不會(huì)增加整體光療的時(shí)間。

圖1d是根據(jù)本技術(shù)的實(shí)施例配置的單個(gè)聚焦的uvb組件110的放大的側(cè)視圖。聚焦uvb組件110可以包括uv輻射源112和uv輻射源112之上或上方的過(guò)濾器116，其至少基本上阻擋有利于合成維生素d的預(yù)定光譜之外的uv輻射。例如，在某些實(shí)施例中，過(guò)濾器116可以基本上阻擋在范圍從大約292納米到約302納米(即，集中在約297納米)的預(yù)定10納米的光譜外的uv輻射。在其它實(shí)施例中，過(guò)濾器116可以被配置為阻擋預(yù)定光譜外的uv輻射，該預(yù)定光譜具有更寬或更窄的帶寬(例如，5納米的擴(kuò)散、6納米的括散、8納米的擴(kuò)散、20納米的擴(kuò)散)和/或集中在較高或較低的波長(zhǎng)(例如，296納米、300納米、302納米，等等)的周?chē)?/p>

在選定的實(shí)施例中，uv輻射源112包括一個(gè)或多個(gè)高強(qiáng)度放電(“hid”)光源，例如通過(guò)產(chǎn)生電弧穿過(guò)在電極113和弧管115之間的氣體混合物來(lái)生成光的金屬鹵化物光源。如下面進(jìn)一步詳細(xì)地說(shuō)明，在某些實(shí)施例中，金屬鹵化物輻射源112可以被摻雜有化學(xué)品，以增加由輻射源112放射的能量的uvb含量。在其它實(shí)施例中，uv輻射源112可以包括其他類(lèi)型的hid光源，具有更高或更低的電燈泡(例如，160瓦、200瓦、500瓦、650瓦、700瓦、800瓦，等等)的光源，和/或其他合適的uv輻射源。例如，輻射源112可以包括可以在一個(gè)或多個(gè)預(yù)定波長(zhǎng)放射光的多個(gè)發(fā)光二極管(led)(例如，可得自南卡羅來(lái)納州哥倫布的sensorelectronictechnology，inc.的led)，可在窄的光譜范圍內(nèi)放射光的準(zhǔn)分子光源(例如，可得自加州的ushioofcypress的準(zhǔn)分子光源)，和/或脈沖氙光源(例如，如在下面參考圖7進(jìn)行地更詳細(xì)的描述)。

在各種實(shí)施例中，每個(gè)uv輻射源112可以具有相同的強(qiáng)度，以基本上提供均勻的uvb暴露到內(nèi)部腔室106之內(nèi)的用戶(hù)。在其它實(shí)施例中，uv輻射源112可以根據(jù)不同的功率程度被布置。例如，一個(gè)或多個(gè)具有較高功率的hid光源(例如，650-800w)的uv輻射源112以可以被定位在裝置100的上部(圖1a和1c)靠近面部區(qū)域，以及一個(gè)或多個(gè)低功率的hid光源(例如，500-600w光源)可以被定位在裝置100的下部。在其它實(shí)施例中，uv輻射源112可以設(shè)置在其它適當(dāng)?shù)臉?gòu)造中，以發(fā)射uv輻射朝向裝置100的內(nèi)部空間106。

在圖1d所示的實(shí)施例中，過(guò)濾器116是經(jīng)涂覆的圓柱形管或套筒119，其在uv輻射源112的長(zhǎng)度(例如，4英寸)的上延伸，并由在過(guò)濾器116的每個(gè)端部處的多個(gè)支柱114從uv輻射源112被偏移。例如，支柱114，可以在uv輻射源112和過(guò)濾器116之間創(chuàng)建1英寸(25.4毫米)的空間。套筒119還可以提供在uv輻射源112上方的絕緣外殼，其允許輻射源112快速提高到其操作溫度。在其它實(shí)施例中，支柱114可以更長(zhǎng)或者更短，和/或過(guò)濾器116可以使用其他合適的裝置與uv輻射源112分離。在進(jìn)一步的實(shí)施例中，過(guò)濾器116可以具有覆蓋uv輻射源112的至少一部分的其它合適的形狀。

該套筒119可由涂覆有uv或其它光學(xué)過(guò)濾材料，如二氧化鉿、氧化鋅、碳酸銫、二氧化鈦和/或各種其他光學(xué)過(guò)濾材料，的襯底(例如，石英玻璃，有機(jī)玻璃等)制成。一個(gè)或多個(gè)涂層可被應(yīng)用到襯底以濾除低于預(yù)定光譜的較低閾值的uv輻射(例如，波長(zhǎng)小于100納米、285納米、287納米、294納米，等等)，以及附加的涂層可以應(yīng)用于襯底以濾除高于該預(yù)定光譜的上限閾值的uv輻射(例如，波長(zhǎng)大于300納米、302納米、310納米，等等)。例如，過(guò)濾器116可以包括二氧化鈦涂層以阻止小于185納米的波長(zhǎng)并防止臭氧的形成，并且可以包括附加的涂層以阻止在該預(yù)定光譜之外的其他波長(zhǎng)。在其它實(shí)施例中，襯底可以包括被配置成至少基本上阻擋預(yù)定光譜以外的uv輻射的單一涂層。在進(jìn)一步的實(shí)施例中，襯底本身可以作為吸附過(guò)濾器以阻擋具有低于預(yù)定光譜的波長(zhǎng)的至少一些能量，以及干涉涂層可以應(yīng)用到襯底以阻止具有高于預(yù)定光譜的波長(zhǎng)的能量。

涂層可使用化學(xué)氣相沉積(cvd)、物理氣相沉積(pvd)、其它沉積工藝，和/或其他合適的過(guò)濾器涂覆方法被應(yīng)用到套筒119。在其它實(shí)施例中，一個(gè)或多個(gè)涂層可直接應(yīng)用到uv輻射源112之上以阻擋當(dāng)uv輻射離開(kāi)源112時(shí)的至少一些的uv輻射。在進(jìn)一步的實(shí)施例中，過(guò)濾器涂層可被應(yīng)用到uv輻射源112和罩體102的內(nèi)部腔室106之間的裝置100的其它部分。例如，過(guò)濾器涂層可以被應(yīng)用到uvb輻射組件110的前方的保護(hù)蓋111(圖1a和1c)。在更進(jìn)一步的實(shí)施例中，套筒119和/或uv輻射源112的一部分可以用過(guò)濾材料進(jìn)行摻雜而不是被涂覆。

在選定的實(shí)施例中，uv輻射源112可以包括燈絲，其產(chǎn)生至少部分地集中在預(yù)定光譜內(nèi)的輻射。例如，基于水銀的光源可以具有相對(duì)較強(qiáng)的大約297納米的uvb輻射的濃度，因此可以與過(guò)濾器116配合使用或代替過(guò)濾器116，以發(fā)射適合于維生素d的合成的聚焦的uvb輻射。在其它實(shí)施例中，uv輻射源112可以包括降低預(yù)定光譜以外的uv輻射的其他合適的燈絲和/或特征。

圖2a和2b是在使用過(guò)濾器聚焦uvb輻射之前和之后的uv輻射源112的相對(duì)光譜功率的示例性圖形表示，如圖2a中所示，uv輻射源112可以產(chǎn)生在波長(zhǎng)的廣譜(例如，約260-400納米(即可見(jiàn)光)之間)中的uv光。然而，如圖2b所示，將濾波器116(例如，涂覆或摻雜的套筒119，在uv輻射源112上的涂層，等等)應(yīng)用至uv輻射源112可以至少基本上阻止低于約290納米和大于約310納米的uv輻射。因此，過(guò)濾器116可以集中由圍繞與維生素d的生產(chǎn)相關(guān)聯(lián)的波長(zhǎng)(例如，297納米、300納米、302納米，等等)的uv輻射源112所放射的uv輻射，從而提供足夠的uvb輻射以在相對(duì)短的時(shí)間內(nèi)(例如，少于1分鐘，小于5分鐘，等)。引發(fā)高水平的維生素d的生成(例如，約40,000iu、約70,000iu、約100,000iu，等等)。

在光療會(huì)話期間，裝置100可以將用戶(hù)暴露至在預(yù)定輻射光譜之內(nèi)的聚焦的uvb輻射，以相對(duì)較短的暴光時(shí)間內(nèi)輸送一劑量的維生素d。例如，在一個(gè)實(shí)施例中，裝置100可以在兩分鐘之內(nèi)輸送一劑量的維生素d。一劑量的維生素d相當(dāng)于用戶(hù)每周所需的維生素d劑量。例如，如果用戶(hù)所需的來(lái)自太陽(yáng)光的每日維生素d的劑量為約10,000iu，則裝置100可在光療會(huì)話期間輸送約70,000iu的維生素d的劑量。在其它實(shí)施例中，裝置100可以被配置為提供更大或更小的日常維生素d的劑量(例如，6000iu/天，20,000iu/天，等等)，和/或維生素d的劑量可以對(duì)應(yīng)于較短或較長(zhǎng)的時(shí)間段的維生素d的需求(例如，兩天的劑量，兩個(gè)星期的劑量，每月的劑量，等等)。

維生素d劑量中的維生素d的量可以根據(jù)用戶(hù)的具體特點(diǎn)，如皮膚類(lèi)型(例如，如由菲茨帕特里克標(biāo)尺(fitzpatrickscale)或其各種改型所確定的)、年齡、體重、平均太陽(yáng)暴光，和/或可能影響維生素d的合成和需要的其它參數(shù)而被改變。例如，淺膚色的用戶(hù)通常要求較短的uvb暴光時(shí)間和/或較低的uvb強(qiáng)度，以獲得比較深膚色的用戶(hù)更足夠的維生素d的劑量。年老用戶(hù)比年輕用戶(hù)從相同量的uvb暴光中產(chǎn)生較少的維生素d，因此通常需要比年輕用戶(hù)更長(zhǎng)的暴光時(shí)間和/或更高的uvb強(qiáng)度。裝置100因此可以被配置為通過(guò)調(diào)節(jié)光療會(huì)話的持續(xù)時(shí)間和/或聚焦的uvb輻射的強(qiáng)度來(lái)提供不同水平的維生素d。在其它實(shí)施例中，裝置100不調(diào)整為用戶(hù)特定的特征，而是對(duì)所有用戶(hù)執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)化的光療會(huì)話。不被理論所束縛，可以認(rèn)為，當(dāng)用戶(hù)被暴光到超過(guò)必要的uvb輻射的時(shí)候，人體將固有地防止在皮膚中產(chǎn)生的有毒性的維生素d水平。因此，相比會(huì)繞過(guò)身體的內(nèi)置保護(hù)的以膳食補(bǔ)充劑的形式獲取的維生素d而言，該裝置100是至少不太可能產(chǎn)生有毒性的維生素d水平，其。

可以基于各種操作參數(shù)使用本地控制器121(圖1a和1b，示意性地示出)和/或經(jīng)由通信鏈路(例如，因特網(wǎng)，內(nèi)部網(wǎng)，等)被耦合到其上的遠(yuǎn)程服務(wù)器調(diào)整裝置100以用于改變維生素d的劑量。例如，控制器121可以通過(guò)增加光療會(huì)話的長(zhǎng)度(即，暴光時(shí)間)來(lái)增加在光療會(huì)話期間所提供的維生素d的劑量，因?yàn)橛脩?hù)在更長(zhǎng)的暴光時(shí)間內(nèi)會(huì)獲得更多的uvb輻射。維生素d的劑量還可以通過(guò)增加與維生素d合成相關(guān)的被過(guò)濾的uvb射線的濃度(例如，通過(guò)過(guò)濾器116)而被增加。在選定實(shí)施例中，裝置100可以放射為用戶(hù)提供在短的暴光時(shí)間(例如少于5分鐘、3分鐘、2分鐘、1分鐘、30秒，等)內(nèi)的每周劑量的維生素d的uvb輻射的濃縮的水平。

在各種實(shí)施例中，裝置100可以被配置為基于最小紅斑劑量(“med”)限制維生素d的劑量，med是產(chǎn)生皮膚紅斑(即，暴露24小時(shí)后可見(jiàn)的發(fā)紅)的uvb輻射的閾劑量。med取決于用戶(hù)的皮膚類(lèi)型，但測(cè)量已被標(biāo)準(zhǔn)化(在fitzpatrick皮膚類(lèi)型標(biāo)尺上使用于不受保護(hù)的、未曬黑的皮膚類(lèi)型2)以比較和控制在日光浴床上的uv暴光。例如，某些規(guī)則禁止日光浴床每次暴光超過(guò)4標(biāo)準(zhǔn)的med。因此，該裝置100還可以被配置為將光療會(huì)話限制在4標(biāo)準(zhǔn)化的med。在其它實(shí)施例中，裝置100可以將光療會(huì)話限制為小于4標(biāo)準(zhǔn)化的med值，同時(shí)仍然向用戶(hù)提供相對(duì)高的維生素d的劑量，因?yàn)橛蓇vb輻射組件110產(chǎn)生的窄帶寬的輻射限制用戶(hù)的對(duì)與維生素d的合成有關(guān)的聚焦的光譜uvb的uvb暴光。例如，在一個(gè)實(shí)施例中，裝置100可以限制光療會(huì)話至約1標(biāo)準(zhǔn)化的med。在其它實(shí)施例中，裝置100可以基于與用戶(hù)的皮膚類(lèi)型相關(guān)聯(lián)的med(例如，用戶(hù)的med的75％，用戶(hù)的med的50％，等等)來(lái)調(diào)整光療會(huì)話。因此，裝置100可至少減少u(mài)vb暴光導(dǎo)致的皮膚發(fā)紅的可能性，同時(shí)還提供足夠水平的聚集的uvb輻射以誘導(dǎo)光療法會(huì)議期間維生素d的產(chǎn)生。因此，裝置100可以被配置為抑制通常與日光浴床和/或過(guò)度的日曬有關(guān)的負(fù)面影響(例如，曬斑和皮膚癌)。

如圖1a和1b進(jìn)一步所示，裝置100還可以包括用戶(hù)接口120，其允許裝置100通過(guò)視覺(jué)和/或聽(tīng)覺(jué)信號(hào)，(例如，文字的指示，可聽(tīng)指令，動(dòng)畫(huà)等)與接收光療的個(gè)體(例如，用戶(hù))和/或施用光療的個(gè)體(例如，醫(yī)生或經(jīng)過(guò)培訓(xùn)的技術(shù)人員)進(jìn)行可操作地接口。例如，用戶(hù)接口120可以包括觸摸屏、顯示屏、鍵盤(pán)、鼠標(biāo)、刷卡、pin鍵盤(pán)，和/或可接收信息和/或以其他方式與用戶(hù)進(jìn)行通信的其他合適裝置。在圖示的實(shí)施例中，用戶(hù)接口120被定位在罩體102的外部。然而，在其它實(shí)施例中，用戶(hù)接口120可以被定位在裝置100上的其他地方(例如，內(nèi)部空間106內(nèi))，或者可以遠(yuǎn)程耦合到裝置100(例如，通過(guò)因特網(wǎng)，安全的內(nèi)聯(lián)網(wǎng)，和/或其他合適的連接)。

用戶(hù)接口120可以提供與裝置100相關(guān)的指令給用戶(hù)，和/或問(wèn)詢(xún)用戶(hù)有關(guān)可能影響由裝置100提供的uvb暴光的參數(shù)的各種用戶(hù)特定特征。例如，用戶(hù)接口120可以指示或提示用戶(hù)回答關(guān)系到他或她的皮膚類(lèi)型的問(wèn)題(例如，使用fitzpatrick皮膚測(cè)試和/或及其改型)，并且裝置100可以使用該回答來(lái)識(shí)別用戶(hù)的皮膚類(lèi)型(例如，經(jīng)由控制器或通信地耦合到裝置100的遠(yuǎn)程計(jì)算機(jī))。用戶(hù)接口120也可以被配置為接收有關(guān)用戶(hù)的年齡，體重，最近的暴光，飲食，和/或可能影響用戶(hù)的維生素d需要其它合適的因素的信息。這個(gè)用戶(hù)特定的信息可以被用于推導(dǎo)出光療會(huì)話參數(shù)，例如暴光時(shí)間。

在選定的實(shí)施例中，用戶(hù)接口120也可以被配置成接收與先前的光療會(huì)話相關(guān)的反饋。例如，用戶(hù)可以指示他或她是否經(jīng)歷由前一個(gè)光療會(huì)話引起的任何發(fā)紅(即，超出了用戶(hù)的med的光療會(huì)話)，并且裝置100可以調(diào)節(jié)隨后的光療會(huì)話的參數(shù)，以減少或防止將來(lái)發(fā)紅。

用戶(hù)接口120也可以被配置為創(chuàng)建用戶(hù)帳戶(hù)，該用戶(hù)帳號(hào)將用戶(hù)與由裝置100和/或在相同的網(wǎng)絡(luò)中通信地鏈接到裝置100的其他光療裝置所執(zhí)行的光療會(huì)話進(jìn)行關(guān)聯(lián)。例如，圖3a-3c，分別示出了在用戶(hù)接口120上的顯示頁(yè)350a-c，其可以被用于注冊(cè)和登錄到用戶(hù)帳號(hào)。在其它實(shí)施例中，顯示頁(yè)350a-c可以在裝置100的其它部分(例如，額外的顯示器)和/或通信地耦合至其的遠(yuǎn)程裝置之上被顯示，例如，通過(guò)因特網(wǎng)或其他合適的通信鏈路耦合到裝置100的家庭計(jì)算機(jī)或移動(dòng)電話通信地。

首先參照?qǐng)D3a，顯示頁(yè)350a可以包括各種按鈕或圖標(biāo)，其允許用戶(hù)輸入用戶(hù)識(shí)別信息以登錄或創(chuàng)建用戶(hù)帳戶(hù)。在圖示的實(shí)施例中，顯示頁(yè)350a包括框352，其要求用戶(hù)使用顯示頁(yè)350a上顯示的鍵盤(pán)354來(lái)輸入他或她的電話號(hào)碼。顯示頁(yè)350a還包括用以編輯在框352中鍵入的數(shù)字的“刪除”按鈕356和用以在顯示頁(yè)之間進(jìn)行導(dǎo)航的按鈕，例如，用以返回到先前的頁(yè)面的“返回”按鈕358，用于返回到主頁(yè)的“主”按鈕360，和/或其它合適的按鈕。在其他實(shí)施例中，顯示頁(yè)350a可以被配置為接收其他形式的用戶(hù)標(biāo)識(shí)信息以創(chuàng)建用戶(hù)帳戶(hù)，包括電子郵件地址和信用卡信息(例如，通過(guò)刷卡鍵入)。

一旦用戶(hù)已經(jīng)輸入他或她的標(biāo)識(shí)信息，用戶(hù)可以選擇“下一個(gè)”按鈕362來(lái)導(dǎo)航以顯示如圖3b所示的頁(yè)面350b。顯示頁(yè)350b允許用戶(hù)登錄到他或她的用戶(hù)帳戶(hù)。新用戶(hù)可以在初始登錄階段通過(guò)顯示頁(yè)364上的指紋掃描框364掃描他的或她的指紋，并且裝置100可以在數(shù)據(jù)庫(kù)上本地或遠(yuǎn)程地存儲(chǔ)該信息，以允許用戶(hù)在后續(xù)的光療會(huì)話期間通過(guò)指紋識(shí)別登錄到他或她的用戶(hù)帳戶(hù)。在其它實(shí)施例中，指紋掃描可由位于裝置100上的任何地方的裝置來(lái)執(zhí)行。如果用戶(hù)不希望在登錄時(shí)使用他或她的指紋，用戶(hù)可以選擇“手動(dòng)登錄”按鈕366，以通過(guò)輸入用戶(hù)名，密碼和/或與他或她的用戶(hù)帳戶(hù)相關(guān)聯(lián)的用戶(hù)的其他信息手動(dòng)訪問(wèn)用戶(hù)的帳戶(hù)。在進(jìn)一步的實(shí)施例中，用戶(hù)接口120可以包括面部識(shí)別軟件，其允許裝置100通過(guò)掃描他的或她的面部來(lái)識(shí)別用戶(hù)。這個(gè)面部識(shí)別掃描還可以被配置為允許用戶(hù)接口120確定使用者的皮膚類(lèi)型并相應(yīng)地調(diào)整光療會(huì)話的參數(shù)。在又一實(shí)施例中，用戶(hù)接口120和/或裝置100的其它部分可以包括生物特征識(shí)別的其他合適的形式以識(shí)別用戶(hù)。

一旦用戶(hù)登錄到他或她的帳戶(hù)，用戶(hù)接口120可以導(dǎo)航到如圖3c所示的顯示頁(yè)350c，其可以作為用戶(hù)的主頁(yè)。顯示頁(yè)350c可以包括多個(gè)選擇按鈕368，其導(dǎo)航用戶(hù)接口120至各種其它的顯示頁(yè)。例如，選擇“定時(shí)器控制”按鈕368可以將用戶(hù)接口120導(dǎo)航到允許用戶(hù)選擇或輸入他或她的光療會(huì)話的持續(xù)時(shí)間的顯示頁(yè)。用戶(hù)可以選擇“你的帳戶(hù)”按鈕368以查看和/或編輯有關(guān)他或她的用戶(hù)帳戶(hù)的信息(例如，用戶(hù)的地址、病史、與用戶(hù)帳戶(hù)相關(guān)的信用卡，等等)，以及用戶(hù)可以選擇“設(shè)置”按鈕368以將用戶(hù)接口120導(dǎo)航至一顯示頁(yè)，在該顯示頁(yè)中用戶(hù)可以查看和/或編輯與裝置100、用戶(hù)偏好和/或其他用戶(hù)特定的設(shè)置(例如，皮膚類(lèi)型、年齡，等等)相關(guān)聯(lián)的設(shè)置。在各種實(shí)施例中，用戶(hù)可以選擇“設(shè)置”按鈕368和/或顯示頁(yè)350c的其他按鈕上，以輸入相關(guān)于之前光療會(huì)話的反饋，并且裝置100可以相應(yīng)地修改后續(xù)的光療會(huì)話?！皥?bào)告”按鈕368可以被選擇以說(shuō)明相關(guān)于用戶(hù)以前的光療會(huì)話的數(shù)據(jù)。例如，以前的維生素d的劑量可以以圖表和/或圖形的形式被顯示給用戶(hù)?！皥?bào)告”按鈕368也可以被配置為顯示與用戶(hù)以前的光療會(huì)話相關(guān)的其它類(lèi)型的摘要。在各種實(shí)施例中，用戶(hù)可以選擇“購(gòu)買(mǎi)”按鈕368以購(gòu)買(mǎi)光療會(huì)話包(例如，基于每分鐘和/或每個(gè)會(huì)話的)和/或相關(guān)產(chǎn)品?！靶畔ⅰ卑粹o368可以被選擇以顯示通常與裝置100相關(guān)的信息(例如，技術(shù)說(shuō)明)，維生素d相關(guān)的信息(例如，每日劑量建議，維生素d缺乏的影響，涉及維生素d的文章，等)，和/或其它合適的信息?！靶畔ⅰ卑粹o也可以被用來(lái)訪問(wèn)在線資源(例如，醫(yī)學(xué)期刊)，當(dāng)裝置100被連接到因特網(wǎng)和/或受保護(hù)的內(nèi)部網(wǎng)時(shí)。當(dāng)裝置100連接到因特網(wǎng)和/或內(nèi)部網(wǎng)時(shí)，選擇按鈕368可以用來(lái)訪問(wèn)在線資源(如醫(yī)學(xué)期刊)。

如在圖3c中進(jìn)一步所示，顯示頁(yè)350c還可以包括啟動(dòng)按鈕370(標(biāo)記為“使用dshot”)，其允許用戶(hù)開(kāi)始光療會(huì)話。在各種實(shí)施例中，啟動(dòng)按鈕370可導(dǎo)航顯示頁(yè)350c到要求用戶(hù)補(bǔ)充可能影響光療會(huì)話的參數(shù)的信息的顯示頁(yè)。在另一個(gè)實(shí)施例中，啟動(dòng)按鈕370可開(kāi)始光療會(huì)話的開(kāi)始的倒計(jì)時(shí)。本實(shí)施例中可包含uvb輻射源112的迅速提高的時(shí)間和/或裝置100的其他特征。另外，如圖3c所示，顯示頁(yè)350c可以包括在任何時(shí)間進(jìn)行注銷(xiāo)他的或她的用戶(hù)帳戶(hù)的“退出”按鈕372。

圖4是根據(jù)本技術(shù)的實(shí)施例示出了為維生素d的合成產(chǎn)生聚焦的uvb輻射的方法400的方框圖。在各種實(shí)施例中，方法400可以由光療裝置來(lái)執(zhí)行，該光療裝置包括大體類(lèi)似于上述參考圖1a-3c的裝置100的特征的特征。方法400可任選地包括在維生素d光療會(huì)話之前接收用戶(hù)特定的信息(方框410)。用戶(hù)特定的信息可能包括皮膚類(lèi)型(例如，由fitzpatrick標(biāo)尺所表示的特征)、年齡、體重、目前的維生素d水平，與先前的維生素d光療會(huì)話相關(guān)的反饋，和/或可能會(huì)影響使用者的維生素d劑量和/或光療裝置的操作參數(shù)的其他信息。在選定的實(shí)施例中，經(jīng)歷了維生素d的光療的人(即，用戶(hù))就可以通過(guò)用戶(hù)接口和/或通信地耦合到所述光療裝置的其他合適的裝置(例如，通過(guò)網(wǎng)站和/或智能手機(jī)應(yīng)用)輸入他或她的用戶(hù)特定信息。在其它實(shí)施例中，個(gè)體施用的光療會(huì)話(例如，醫(yī)生，護(hù)士等)可以經(jīng)由用戶(hù)接口、通信地耦合到所述光療裝置的遠(yuǎn)程計(jì)算機(jī)和/或其他合適的輸入裝置輸入用戶(hù)特定的信息。本實(shí)施例允許光療由專(zhuān)業(yè)人士進(jìn)行控制，并避免由未經(jīng)訓(xùn)練用戶(hù)進(jìn)行的不當(dāng)使用。

方法400可通過(guò)經(jīng)由本地控制器和/或與其耦合的的遠(yuǎn)程服務(wù)器確定光療會(huì)話的性能參數(shù)來(lái)繼續(xù)(方框420)。例如，算法可以使用用戶(hù)特定的信息，以確定由該裝置提供的適當(dāng)?shù)木S生素d的劑量、光療會(huì)話的持續(xù)時(shí)間，和/或用于光療會(huì)話的聚焦的uvb暴光的強(qiáng)度。在其它實(shí)施例中，用戶(hù)可以選擇光療會(huì)話的操作參數(shù)(例如，暴光時(shí)間)而無(wú)需輸入用戶(hù)特定的信息，和/或覆蓋由算法所提供的建議的參數(shù)。在進(jìn)一步的實(shí)施例中，該方法可以繞過(guò)框420，并為光療會(huì)話使用非用戶(hù)特定的暴光參數(shù)。例如，在一個(gè)實(shí)施例中，每個(gè)光療會(huì)話可以在少于一分鐘的聚焦的uvb暴光之內(nèi)輸送約50,000iu的維生素d到典型的用戶(hù)。在其它實(shí)施例中，光療會(huì)話的參數(shù)可能不同。

如圖4中進(jìn)一步所示，方法400示出可以包括產(chǎn)生在預(yù)定光譜內(nèi)聚焦的uvb射線(方框430)。例如，過(guò)濾器和/或合適的uv輻射源能夠在窄帶寬(例如，約6-10納米的帶寬)內(nèi)放射uvb輻射，該窄寬帶通常集中在有助于通過(guò)皮膚的維生素d的生產(chǎn)效率的波長(zhǎng)(例如，297納米，302納米，等等)。在一個(gè)實(shí)施例中，所述預(yù)定光譜范圍從大約290納米到約310納米。在其它實(shí)施例中，所述預(yù)定光譜可以更寬或更窄。

過(guò)濾和/或以其他方式產(chǎn)生的聚焦uvb射線可以以時(shí)間(方框440)相對(duì)短的交付量的維生素d的劑量給用戶(hù)。例如，方法400可以在2分鐘內(nèi)輸送每周劑量的維生素d(例如，700,000iu)。由該裝置所提供的維生素d的劑量可以由預(yù)先提供的用戶(hù)特定的特征和裝置的操作參數(shù)來(lái)近似。例如，為獲得不同的維生素d的劑量，方法400可以包括增加在預(yù)定光譜內(nèi)uvb射線的強(qiáng)度和/或更緊密地聚焦預(yù)定的光譜朝向與維生素d的合成相關(guān)的波長(zhǎng)。暴光時(shí)間也可以被調(diào)整，以改變維生素d的劑量。在進(jìn)一步的實(shí)施例中，方法400還可以包括調(diào)節(jié)光療會(huì)話的參數(shù)以限制用戶(hù)被暴露至的med和/或其它與提供維生素d的光療相關(guān)的合適的步驟。

圖5a是根據(jù)另一本技術(shù)的實(shí)施例配置的用于聚焦的uvb輻射的光療裝置500(“裝置500”)的等軸視圖。裝置500包括多種特征，其通常類(lèi)似于上述相對(duì)于圖1a-1d中的裝置的特征。例如，該裝置包括：多個(gè)聚焦的uvb輻射裝置或組件510a(“輻射組件510a”)，其在預(yù)定的波長(zhǎng)光譜(例如，約293-301納米，298-306納米，等)內(nèi)放射能量。在圖示的實(shí)施例中，輻射組件510a由兩個(gè)罩體，臂狀物或柱狀物(分別被視為第一柱狀物530a和第二柱狀物530b，并統(tǒng)稱(chēng)為柱狀物530)進(jìn)行承載，其安裝于或以其它方式連接到基架或基座532，以及輻射組件510a被通常定向向內(nèi)朝向基座532的中央部534?；?32和柱狀物530一起限定輻照區(qū)域，該輻照區(qū)域中的患者可被暴露于由輻射組件510a放射的聚焦的uvb能量。當(dāng)用戶(hù)(例如，患者)站立在或以其他方式定位在底座532的中央部534中時(shí)，輻射組件510a可以照射用戶(hù)的皮膚以在光療會(huì)話期間刺激皮膚中的維生素d的產(chǎn)生。在各種實(shí)施例中，基座532和/或柱狀物530的中央部534可相對(duì)于彼此旋轉(zhuǎn)(例如，柱狀物530可圍繞中央部534轉(zhuǎn)動(dòng))，以將用戶(hù)的身體的各個(gè)側(cè)面暴露于由輻射組件510a放射的能量。

在圖5a所示的實(shí)施例中，裝置500在每一柱狀物530中包括八個(gè)輻射組件510a，該柱狀物530在基本上類(lèi)似的波長(zhǎng)和類(lèi)似的強(qiáng)度處放射能量。在某些實(shí)施例中，在第一柱狀物530a中的輻射組件510a可從第二柱狀物530b的輻射組件510a進(jìn)行垂直偏移，以防止來(lái)自第一柱狀物530a的輻射組件510a的輻照直接重疊來(lái)自第二柱狀物530b的輻射組件510a的輻照。例如，在第一柱狀物530a中的輻射組件510a可以以大約單個(gè)輻射組件510a的半徑從在第二柱狀物530b的輻射組件510a被進(jìn)行偏移。輻射組件510a的交錯(cuò)安排能提供沿著柱狀物530的長(zhǎng)度的更均勻的輻照強(qiáng)度，并防止用戶(hù)的皮膚的某些區(qū)域被暴露于比其他區(qū)域更多的輻照。在其它實(shí)施例中，裝置500可包括具有少于或多于八個(gè)輻射組件510a的柱狀物530，輻射組件510a的單個(gè)柱狀物530，輻射組件510a的兩個(gè)以上的柱狀物530(例如，4個(gè)柱狀物，6個(gè)柱狀物，等)，和/或輻射組件510a可以設(shè)置在其它適當(dāng)?shù)呐渲?。例如，輻射組件510a可以由罩體(例如，圖1a-1c的罩體102)承載，并通常向內(nèi)朝向由所述罩體限定的封閉的空間。

類(lèi)似于上述參照?qǐng)D1a-1d所討論的裝置500，圖5a的裝置500可以放射高強(qiáng)度聚焦的uvb輻射，以在相對(duì)短的光療會(huì)話期間在皮膚中促進(jìn)維生素d的生產(chǎn)。例如，裝置500可以在一分鐘的光療會(huì)話期間提供足夠的輻照量以刺激產(chǎn)生每周或每月劑量的維生素d。每個(gè)光療會(huì)話的暴光時(shí)間可以基于用戶(hù)的皮膚類(lèi)型(例如，由fitzpatrick標(biāo)尺所定義)和輻射組件510a的強(qiáng)度被選擇。例如，用戶(hù)的膚色越淺，則在用戶(hù)的皮膚中獲得維生素d的合成的期望水平所需的暴光時(shí)間就越少。作為另一個(gè)示例，由裝置500提供的輻照強(qiáng)度越高，則獲得維生素d的生成的期望水平所需的暴光時(shí)間就越少。在各種實(shí)施例中，光療會(huì)話的持續(xù)時(shí)間也可以被選擇，以至少減少在光療會(huì)話之后，用戶(hù)經(jīng)歷曬傷的可能性。例如，uvb輻照的暴光時(shí)間可以被限制到用戶(hù)特定的1.0或更小的med(例如，0.75med)。在其它實(shí)施例中，裝置500的暴光時(shí)間可以使用uvb輻照和/或維生素d的合成的其它合適的參數(shù)來(lái)被確定。

如圖5a所示，每個(gè)輻射組件510a可以包括輻射源512、部分地圍繞輻射源512的反射器536和輻射源512前鋒的光學(xué)過(guò)濾器538。圖5b是根據(jù)本技術(shù)的實(shí)施例配置的圖5a的輻射組件510a的側(cè)視圖的放大的局部示意圖。如圖5b所示，輻射源512可以放射能量(例如，uv光，由實(shí)線所示)，且至少一些能量可以在排出輻射組件510a之前接觸反射器536(例如，鏡像襯底或涂層)。反射器536可以轉(zhuǎn)向或以其他方式引導(dǎo)光向前(例如，由實(shí)線表示)朝向過(guò)濾器538，其中在預(yù)定帶寬(例如，約292-302納米)中的光可以排出輻射組件510a(例如，如用虛線所表示的)。在圖示的實(shí)施例中，反射器536圍繞輻射源512彎曲，以使得由所述輻射源512放射的光在與反射器536的接觸上共層疊。共層疊的光束然后可以向前行進(jìn)朝向過(guò)濾器538，并以相同的入射角(例如，0°)穿過(guò)該過(guò)濾器538，以提供光的基本上均勻的過(guò)濾。

在圖5b中所示的實(shí)施例中，輻射源512是金屬鹵化物光源，其是一種類(lèi)型的hid氣體放電光源，hid氣體放電光源是通過(guò)產(chǎn)生穿過(guò)在弧形管或封套515中的兩個(gè)電極513之間的氣體的混合物的電弧型來(lái)生成光的。金屬鹵化物光源的弧長(zhǎng)(即，大約在電極513之間的距離)作為一個(gè)整體相對(duì)于輻射組件510a可以是相對(duì)小的，以使得金屬鹵化物光源的作用類(lèi)似于點(diǎn)源，以有助于光的共層疊。例如，在某些實(shí)施例中，電極513可以彼此分開(kāi)，以使的金屬鹵化物光源有大約10-12毫米(例如，約11毫米，約11.5毫米，等等)的弧長(zhǎng)。在其它實(shí)施例中，金屬鹵化物光源可以具有更大或更小的弧長(zhǎng)度，這取決于金屬鹵化物光源的結(jié)構(gòu)和輻射組件510a(例如，反射器536)的其它部件的尺寸。金屬鹵化物光源通常具有迅速提高的期間以升溫至操作溫度。因此，在某些實(shí)施例中，輻射組件510a可包括百葉窗或其它覆蓋物(未示出)，其在一時(shí)間段(例如，約2分鐘，約1分鐘，等等)暫時(shí)包圍或絕緣輻射源512，以允許金屬鹵化物光源迅速提高達(dá)到其操作溫度。

在各種實(shí)施例中，在電弧管515中的氣體混合物可以被選擇以增加金屬鹵化物光源的放射物的uvb含量。例如，相比于具有在uvb范圍內(nèi)的約6％的它們的放射物的常規(guī)日光浴床，氣體混合物可被摻雜以生成在uvb范圍(例如，約280-315納米)內(nèi)的約1％的總放射物。增加的uvb含量的合適的氣體混合物可得自紐約的普萊恩維尤的heraeusnobelight。放射物的增加的uvb含量可以增加由輻射裝組件510a所放射的uvb的強(qiáng)度，并因此可以降低達(dá)到期望的維生素d的劑量所需的總的暴光時(shí)間。

如圖5b所示，輻射組件510a還可以包括輻射源512和過(guò)濾器538之間的可選的覆蓋物或屏蔽540，以至少基本上防止光推出所述輻射組件510a，而不是首先傳播至反射器538。例如，在圖示的實(shí)施例中，屏蔽540是從輻射源512隔開(kāi)來(lái)的管狀體(例如，使用類(lèi)似于圖1d的支柱114的支柱)并被定位圍繞在電弧管515的正向的輻射源512的一部分。屏蔽540可以阻止從弧形管513正向傳播的光，以使得在排出輻射組件510a之前光首先接觸反射鏡538。在這種方式中，屏蔽540可以在光接觸過(guò)濾器538之前通過(guò)反射器536促進(jìn)光的共層疊。在其它實(shí)施例中，屏蔽540可以具有防止光直接傳播向前或通過(guò)過(guò)濾器538的其它合適的形狀或結(jié)構(gòu)。

過(guò)濾器538可以是窄通過(guò)濾器，其可以防止預(yù)定帶寬外的uvb輻射通過(guò)過(guò)濾器538。例如，過(guò)濾器538可以至少基本上阻擋集中在約297納米(即約292-302納米)的10納米的光譜外的uvb輻射。在其它實(shí)施例中，過(guò)濾器538可以至少基本上阻擋在較窄的帶寬(例如，6納米光譜、8納米光譜，等)、較寬的帶寬(例如，12納米譜)和/或可以繞另一合適的uvb波長(zhǎng)(例如，298納米、300納米、302納米，等)被集中的光譜之外的uvb輻射。

如圖5b所示，過(guò)濾器538可以包括襯底542(例如，玻璃，塑料等)和至少一種應(yīng)用到襯底542的干擾涂層544。例如，涂層544可以被噴涂到襯底542之上和/或以其他方式使用本領(lǐng)域技術(shù)人員已知的方法被布置在襯底542之上。在某些實(shí)施例中，襯底542可以由阻擋至少一些的輻射源512所放射的uv光的材料(如玻璃)所制成。例如，襯底542可以由阻擋例如大約290納米一下的uvb輻射的吸收玻璃制成。涂層544(例如，一個(gè)或多個(gè)光學(xué)涂層)可以被應(yīng)用到襯底542，以提供預(yù)定帶寬外的能量的附加過(guò)濾。例如，涂層544可以提供比由基板542所提供的在過(guò)濾預(yù)定光譜外的能量中的更高的精確度，以使得襯底542與涂層544一起形成窄通過(guò)濾器。例如，在某些實(shí)施例中，第一涂層可被應(yīng)用到襯底542以阻擋具有波長(zhǎng)小于預(yù)定光譜的最小波長(zhǎng)的光，以及第二涂層可以被應(yīng)用到襯底542以阻擋具有波長(zhǎng)大于預(yù)定光譜的最大波長(zhǎng)的光。在其它實(shí)施例中，襯底542或涂層544可以單獨(dú)提供預(yù)定光譜之外的光的合適的過(guò)濾。提供預(yù)定光譜外的uv輻射的至少一些過(guò)濾的襯底542和涂層544可得自紐約的schottofelmsford。

在各種實(shí)施例中，輻射組件510a的其它部分可以包括干涉涂層，其阻止至少一些的期望的波長(zhǎng)光譜外的輻射。例如，該金屬鹵化物光源的外燈泡517可包括干涉涂層，其阻止至少一些的uvb光譜外的uv輻射排出金屬鹵化物光源。例如，一種涂層可以被應(yīng)用到外燈泡517以阻止在uvc范圍(例如，約100-280納米)內(nèi)的放射物，并抑制形成臭氧。在本實(shí)施例中，輻射源512將暴露于過(guò)濾器538的光的光譜變窄，因此過(guò)濾器538只需要被涉及進(jìn)一步縮小被允許通過(guò)過(guò)濾器538的光的帶寬。

圖5c是根據(jù)本技術(shù)的另一實(shí)施例配置的聚焦的uvb輻射組件510b的放大的局部示意性側(cè)視圖。輻射組件510b可包括通常類(lèi)似于上述有關(guān)圖5b的輻射組件500a的特征。例如，輻射組件510b包括uv輻射源512，至少部分地圍繞輻射源512的反射器536，過(guò)濾器538，和在輻射源512和過(guò)濾器538之間的屏蔽540。輻射源512可以是一種金屬鹵化物光源，其起到基本上相對(duì)于輻射組件510b的點(diǎn)源的作用，而徑向向外放射能量(例如，如圖5c中的實(shí)線所示)。屏蔽540可以偏轉(zhuǎn)或以其他方式重新定向從輻射源512放射的能量向后朝向反射器536，以使得反射器536可以在通過(guò)過(guò)濾器538之前至少基本上共層疊光。在圖5c示出的實(shí)施例中，屏蔽540具有大致半球形狀，并被連接到金屬鹵化物光源的基座部分546，金屬鹵化物光源具有支柱548(例如，桿，棒等)，其從基座546延伸到屏蔽540。在其它實(shí)施例中，屏蔽540可具有其它合適的配置，以阻擋從輻射組件510b排出的能量而不先接觸共層疊的反射器536。

圖6是相比于太陽(yáng)的相對(duì)輻射強(qiáng)度的具有金屬鹵化物uv源的聚焦的uvb輻射組件(例如，上述關(guān)于圖5a-5c的輻射組件510a和510b)的相對(duì)輻射強(qiáng)度的示例性圖形表示。更具體地說(shuō)，曲線601(示為虛線)代表金屬鹵化物輻射組件的強(qiáng)度，曲線603(示為實(shí)線)代表在澳大利亞墨爾本的夏季期間在大約中午被測(cè)量的陽(yáng)光的強(qiáng)度，以及曲線605代表已知為促進(jìn)在皮膚中的維生素d的生產(chǎn)的uv輻射的作用光譜。如圖6所示，金屬鹵化物輻射組件放射主要在約292-302納米(例如，集中在約297納米)之間的uv光，因此大部分的放射物是在維生素d的生產(chǎn)的作用光譜605之內(nèi)的。相反地，盡管是在陽(yáng)光峰值能量的時(shí)間和地點(diǎn)之一處被測(cè)量，太陽(yáng)能具有在uvb光譜(即，約280-315納米)內(nèi)的uv光的相對(duì)低的強(qiáng)度，并具有在uva光譜(即約315-400納米)中的uv光的相對(duì)高的強(qiáng)度。例如，來(lái)自金屬鹵化物輻射組件的uv99.7％放射物可以在聚焦的uv范圍內(nèi)，而只有大約3.4％的太陽(yáng)能放射物是在聚焦的uvb范圍內(nèi)。因此，包括在圖6中示出的金屬鹵化物輻射組件的光療裝置可放射具有比正常的陽(yáng)光暴光更高的uvb含量和強(qiáng)度的uv能量。集中的uvb輻射可用于促進(jìn)在皮膚中的維生素d的生產(chǎn)，并且在比由太陽(yáng)所提供的更短的暴光時(shí)間內(nèi)這樣做。例如，在某些實(shí)施例中，由約38分鐘的陽(yáng)光暴露(在高峰時(shí)間)提供的uvb輻照可以由小于一分鐘(例如58秒)的暴露于金屬鹵化物輻射組件所提供。此外，由金屬鹵化物輻射組件提供的uvb輻射的高強(qiáng)度可以比由太陽(yáng)所提供的低強(qiáng)度uvb輻射顯著促進(jìn)在皮膚中的更多的維生素d合成。在某些實(shí)施例中，例如，金屬鹵化物輻射組件可提供比從太陽(yáng)中所獲得的在皮膚中的至少3倍的維生素d的產(chǎn)量(例如，相較于通過(guò)太陽(yáng)能同等物獲得的20,000iu，通過(guò)聚焦的uvb輻射獲得的74,500iu)。此外，盡管uvb輻射的濃度高，在光療會(huì)話期間，聚焦的uvb輻射組件使受試者(例如，人類(lèi)患者)暴露在相比太陽(yáng)暴光較少的總體uv能量(例如，比太陽(yáng)少62倍的uv能量)，這是因?yàn)榫劢沟膗vb照射組件(例如，經(jīng)由圖5a-5c的過(guò)濾器538)過(guò)濾掉了預(yù)定光譜外的許多uv輻射。因此，聚焦uvb輻射組件提供了一種實(shí)質(zhì)上比太陽(yáng)更高效的用于在皮膚中產(chǎn)生維生素d的方式，而且沒(méi)有太陽(yáng)暴光的地理和氣候相關(guān)的初始條件。

圖7是根據(jù)本技術(shù)的又一實(shí)施例配置的光療裝置的的聚焦的uvb輻射組件710(“輻射組件710”)的正視圖。輻射組件710可以包括多個(gè)大致類(lèi)似上述關(guān)于圖1d、5b和5c的輻射組件110、510a和510b的特征。例如，輻射組件710可以包括uv輻射源712，位于輻射源712后面和部分地圍繞輻射源712的反射器736，和輻射源712正向的過(guò)濾器738。在圖示的實(shí)施例中，輻射源712是氙氣光源750，其通過(guò)在高壓下使電通過(guò)電離的氙氣來(lái)產(chǎn)生在管中的脈沖或連續(xù)光束752。氙氣光源750可以耦合到電源(例如，16千瓦的電源，未示出)，以及加壓空氣可從輻射組件710的一端或兩端被提供以用于冷卻。氙氣光源本身散發(fā)出的能量具有高的uvb含量，從而促進(jìn)由輻射組件710提供的聚焦的uvb照射。輻射組件710的適合的氙氣光源(例如，線性脈沖氙燈)可得自德國(guó)的heraeusnobelightgmbhofhanau。

如圖7所示，氙氣光源750可以是細(xì)長(zhǎng)結(jié)構(gòu)，其放射線性u(píng)v光束752，例如，氙氣光源750可以有約8毫米的直徑和大約165毫米的長(zhǎng)度，以使得可以沿光療裝置的高度或長(zhǎng)度延伸(例如，圖1a和圖5a的光療裝置100和500)。在其它實(shí)施例中，氙氣光源可以有更長(zhǎng)或者更短的長(zhǎng)度和/或具有更小或更大的直徑。反射器736(例如，桶反射器)也可以是細(xì)長(zhǎng)的結(jié)構(gòu)，其沿著所述氙氣光源750的長(zhǎng)度延伸，以向正向引導(dǎo)光朝向過(guò)濾器738，其中過(guò)濾的uvb光離開(kāi)輻射組件。過(guò)濾器738可以包括阻擋某一波長(zhǎng)(例如，低于約290納米)的吸收玻璃或其他類(lèi)型的襯墊，以及干擾涂層可以阻擋具有較高波長(zhǎng)(例如，高于約306納米)的能量。

具有氙氣光源750輻射組件710可與結(jié)合使用或代替在光療的金屬鹵化物燈被用于裝置100和500上面的描述。例如，輻射組件710可以由柱狀物(例如，圖5a的光療裝置的柱狀物530)承載，并且氙氣光源750可以被配置為產(chǎn)生光束，其基本上沿柱狀物的長(zhǎng)度方向延伸。在操作過(guò)程中，一個(gè)或多個(gè)的輻射組件710可被基座(例如，圖5a中的基座532的中央部534)圍繞，以提供聚焦的uvb輻射給站在基座上的受試者(例如，人類(lèi)患者)。在其它實(shí)施例中，一個(gè)或多個(gè)輻射組件710可以被結(jié)合到罩體(例如，圖1a的罩體102)并被配置為引導(dǎo)放射物朝向由罩體提供的封閉的空間。

圖8是相比于太陽(yáng)的相對(duì)輻射強(qiáng)度的具有脈沖氙氣uv源的聚焦的uvb輻射組件(例如，圖7的輻射組件710)的相對(duì)輻射強(qiáng)度的示例性圖形表示。曲線801(示為虛線)代表氙氣光源輻射組件的強(qiáng)度，曲線803(示為實(shí)線)代表在澳大利亞墨爾本的夏季期間在大約中午被測(cè)量的太陽(yáng)能的強(qiáng)度，以及曲線805在皮膚中的維生素d的生產(chǎn)的作用光譜。如圖8所示，太陽(yáng)能光譜(曲線803之下的區(qū)域所界定的)具有在維生素d的作用光譜805之內(nèi)的非常小的輸出(例如，約3.4％)。相反，氙氣光源輻射組件的幾乎所有的輸出(例如，超過(guò)98％的)都是在維生素d的作用光譜805之內(nèi)，另外，由氙氣光源輻射組件提供的uvb輻射的強(qiáng)度比由太陽(yáng)能提供的要高得多。因此，氙氣光源輻射組件可以提供在維生素d作用光譜805之內(nèi)的聚焦的uvb輻射，其促進(jìn)在比由太陽(yáng)能提供的顯著更短的暴光時(shí)間內(nèi)的在皮膚中的維生素d合成。例如，在小于一分鐘(例如57秒)中由氙氣光源輻射組件所提供的uvb輻射相當(dāng)于超過(guò)30分鐘的陽(yáng)光暴露(例如，38分鐘)。

在各種實(shí)施例中，上述的光療裝置100和500可以包括其它類(lèi)型的uv輻射源(例如，圖1d、5b、5c和7的輻射源112、512和712)，在與可選的過(guò)濾器組合中，其可以提供在預(yù)定光譜內(nèi)的聚集的uvb輻照。例如，uv輻射源可以包括多個(gè)led(例如，成千上萬(wàn)的leds)，其在特定波長(zhǎng)(例如，295納米、297納米、300納米，等等)放射光。合適的led是可得自，例如，南卡羅來(lái)納州的哥倫布的傳感器電子技術(shù)公司。在某些實(shí)施例中，一個(gè)或多個(gè)led可被布置在單個(gè)輻射組件(例如，類(lèi)似于圖5a-5c的金屬鹵化物光源)中。在其它實(shí)施例中，led可以被布置在細(xì)長(zhǎng)的行和/或沿著光療裝置(例如，類(lèi)似于圖7的氙氣光源)的長(zhǎng)度方向延伸的列中。led的基本上單色的輸出可限制提供預(yù)定光譜內(nèi)的uvb輻射所需的過(guò)濾的量。此外，led具有相對(duì)較低的功耗(例如，相較于hid光源)，因此，本質(zhì)上提供了功率節(jié)省。在進(jìn)一步的實(shí)施例中，uv輻射源可以由準(zhǔn)分子光源和/或能夠被為聚集的uvb輻射進(jìn)行操縱的其它合適的uvb輻射源組成，準(zhǔn)分子光源可以放射在窄光譜范圍的光(例如，可得自加利福尼亞的ushioofcypress的準(zhǔn)分子光源)。

示例

下列例子用于說(shuō)明本技術(shù)的若干實(shí)施例。

1.一種光療裝置，包括：

罩體，至少部分地限定輻照區(qū)域，其中所述輻照區(qū)域被配置為容納患者的至少一部分；

由所述罩體承載的紫外線(uv)輻射源；以及

所述uv輻射源和所述輻照區(qū)域之間的過(guò)濾器，所述過(guò)濾器被配置成至少基本上除去預(yù)定光譜的外側(cè)的uv輻射，其中所述預(yù)定光譜具有至多10納米的帶寬并且在約297納米處被集中。

2.如示例1所述的光療裝置，其中：

所述罩體包括側(cè)壁，其至少部分包圍所述輻照區(qū)域；

所述uv輻射源包括多個(gè)高強(qiáng)度放電光源；

所述濾波器包括多個(gè)涂覆的石英玻璃管，其至少部分地覆蓋對(duì)應(yīng)的所述多個(gè)高強(qiáng)度放電光源；

所述過(guò)濾器的所述預(yù)定光譜為約292-302納米；以及

所述光療裝置被配置為經(jīng)由所述患者的皮膚刺激維生素d的產(chǎn)生。

3.如示例1所述的光療裝置，其中：

所述罩體包括至少一個(gè)被定向至輻照區(qū)域的柱形物；

所述uv輻射源包括多個(gè)金屬鹵化物光源；以及

所述光療裝置還包括部分地圍繞相應(yīng)的所述多個(gè)金屬鹵化物光源的多個(gè)反射器，其中所述反射器被配置為將由單個(gè)的所述金屬鹵化物光源放射的uv能量朝向所述過(guò)濾器引導(dǎo)。

4.如示例1所述的光療裝置，其中所述過(guò)濾器的預(yù)定光譜是具有至多為8納米的帶寬。

5.如示例1所述的光療裝置，其中所述uv輻射源和所述過(guò)濾器被配置為在2分鐘或更少的暴光期內(nèi)輸送小于1的皮膚類(lèi)型調(diào)整的最低紅斑劑量(med)。

6.如示例1所述的光療裝置，其中所述uv輻射源包括多個(gè)金屬鹵化物光源。

7.如示例1所述的光療裝置，其中所述uv輻射源包括氙氣光源。

8.如示例1所述的光療裝置，其中所述uv輻射源包括多個(gè)具有約295-302納米的波長(zhǎng)的led。

9.如示例1所述的光療裝置，其中所述uv輻射源和所述過(guò)濾器定義聚焦uvb輻射組件，以及其中所述聚焦的紫外線輻射組件還包括至少部分地包圍所述uv輻射源且被配置為引導(dǎo)uv輻射源放射的uv能量朝向所述過(guò)濾器的反射器。

10.如示例9所述的光療裝置，其中所述反射器被配置成在所述uv輻射源接觸所述過(guò)濾器之前，至少基本上共層疊(collaminate)由所述uv輻射源放射的uv能量。

11.如示例10所述的光療裝置，其中所述聚焦的uv輻射組件進(jìn)一步包括在所述uv輻射源和所述過(guò)濾器之間的屏蔽，并且其中所述屏蔽被配置為在接觸所述過(guò)濾器之前將由所述uv輻射源放射的至少一些uv能量朝向所述反射器引導(dǎo)。

12.如示例1所述的光療裝置，其中所述過(guò)濾器包括涂覆的玻璃襯底。

13.如示例12所述的光療裝置，其中所述涂覆的玻璃襯底是在所述uv輻射源之上的套筒。

14.如示例1所述的光療裝置，還包括被配置為接收有關(guān)可影響所述患者的維生素d的合成的參數(shù)的用戶(hù)輸入的用戶(hù)接口。

15.如示例14所述的光療裝置，其中所述用戶(hù)接口被配置為從用戶(hù)接收關(guān)于由所述光療裝置或與其通信地耦合的遠(yuǎn)程光療裝置提供的以前的光療會(huì)話的反饋。

16.一種光療裝置，包括：

罩體，其至少部分地包圍一空間，其中所述空間被配置為容納人體的至少一部分；以及

大致被引導(dǎo)朝向所述空間的聚焦的紫外線b(uvb)輻射組件，其中所述聚焦的uvb輻射組件被配置為輸送通常在約297納米處聚焦的uvb輻射，以及其中所述uvb輻射組件被配置為在不到2分鐘的暴光期間刺激在人類(lèi)皮膚中的至少20,000iu的維生素d的生產(chǎn)。

17.如示例16所述的光療裝置，其中所述聚焦的uvb輻射組件包括用于至少基本上阻擋預(yù)定光譜外的uv輻射的裝置，其中所述預(yù)定光譜是在大約292-302納米之內(nèi)。

18.如示例16所述的光療裝置，其中所述聚焦的uvb輻射組件包括：

多個(gè)金屬鹵化物光源；以及

在所述金屬鹵化物光源和所述空間之間間隔開(kāi)的多個(gè)過(guò)濾器。

19.如示例18所述的光療裝置，其中所述過(guò)濾器被配置為至少基本上除去大約292-302納米的聚焦的光譜外的uv輻射。

20.如示例19所述的光療裝置，其中所述uvb輻射組件還包括至少部分地包圍所述多個(gè)金屬鹵化物光源的多個(gè)共層疊的反射器。

21.如示例16所述的光療裝置，其中所述聚焦的uv輻射組件被配置為將人體暴露于至多90％的1med，其中所述med針對(duì)所述人體的所述皮膚類(lèi)型被調(diào)整。

22.如示例16所述的光療裝置，還包括被配置為接收關(guān)于皮膚類(lèi)型或維生素d要求中的至少一個(gè)的用戶(hù)輸入的用戶(hù)接口。

23.一種使用光療裝置輸送聚焦的紫外線輻射的方法，該方法包括以下步驟：

發(fā)射通常朝向由罩體所限定的輻照區(qū)域的紫外射線；

至少基本上濾除預(yù)定光譜外的所述紫外射線，其中所述預(yù)定光譜集中在約297納米；以及

在5分鐘或更短的時(shí)間之后終止紫外射線的發(fā)射。

24.如示例23所述的方法，還包括：

通過(guò)用戶(hù)接口接收用戶(hù)輸入，其中所述用戶(hù)輸入相關(guān)于皮膚類(lèi)型或維生素d劑量中的至少一個(gè)；以及

輸送一劑量的維生素d給至少部分在所述輻照區(qū)域之內(nèi)的用戶(hù)，其中所述一劑量的維生素d與用戶(hù)輸入有關(guān)。

25.如示例24所述的方法，還包括：從所述用戶(hù)接收與由所述光療裝置或與其耦合的遠(yuǎn)程光療裝置所輸送的之前的一劑量的維生素d相關(guān)的反饋。

26.一種提供維生素d光療的方法，該方法包括：

提供具有輻照區(qū)域的光療裝置，所述輻照區(qū)域具有被引導(dǎo)朝向所述輻照區(qū)域的聚焦的紫外線b(uvb)輻射組件；

產(chǎn)生經(jīng)由所述聚焦的uvb輻射組件至少基本上在預(yù)定光譜內(nèi)聚焦的uv射線，其中所述預(yù)定光譜是在大約290-306納米之內(nèi)；以及

在預(yù)定暴光時(shí)間內(nèi)向在所述輻照區(qū)域內(nèi)的患者輸送一劑量的維生素d，其中所述維生素d是在所述患者的皮膚的部分被產(chǎn)生。

27.如示例26所述的方法，其中產(chǎn)生至少基本上在所述預(yù)定光譜內(nèi)聚焦的uv射線包括：

發(fā)射來(lái)自至少一個(gè)高強(qiáng)度放電光源的uv輻射；以及

使用在所述至少一個(gè)高強(qiáng)度放電光源和內(nèi)部腔室之間的涂覆的襯底，至少基本上過(guò)濾所述預(yù)定光譜外的uv輻射。

28.如示例26所述的方法，其中其中產(chǎn)生至少基本上在所述預(yù)定光譜內(nèi)聚焦的uv射線包括產(chǎn)生具有一波長(zhǎng)的至少基本上在約297納米被集中的至多10納米的光譜內(nèi)聚焦的uv射線。

29.如示例26所述的方法，其中輸送所述一劑量的維生素d給所述用戶(hù)包括在至多3分鐘之內(nèi)終止uvb輻射。

30.如示例26所述的方法，其中輸送所述一劑量的維生素d給所述用戶(hù)包括暴露所述用戶(hù)至小于1的皮膚類(lèi)型調(diào)整的med。

31.如示例26所述的方法，進(jìn)一步包括自動(dòng)地在3分鐘后終止所述uv射線。

32.如示例26所述的方法，還包括：

接收與維生素d劑量或皮膚類(lèi)型中的至少一個(gè)相關(guān)的用戶(hù)輸入；以及

基于所述用戶(hù)輸入選擇所述一劑量的維生素d的預(yù)定時(shí)間段。

33.一種用于控制光療裝置的計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)，所述計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)具有用于使所述光療裝置執(zhí)行一種方法的指令，所述方法包括：

經(jīng)由被引導(dǎo)朝向所述光療裝置的輻照區(qū)域的uv輻射源，產(chǎn)生至少基本上在預(yù)定光譜內(nèi)聚焦的uv射線，其中所述預(yù)定光譜通常被聚焦在約297納米處；以及

在預(yù)定時(shí)間段之內(nèi)，輸送一劑量的維生素d至在腔室中的用戶(hù)。

34.如示例33所述的計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)，其中用于產(chǎn)生至少基本上在所述預(yù)定光譜內(nèi)聚焦的uv射線的所述指令包括使用大約290納米和大約305納米之間的波長(zhǎng)產(chǎn)生uv能量。

35.如示例33所述的計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)，其中所述指令還包括當(dāng)所述用戶(hù)暴露于至多2標(biāo)準(zhǔn)的med時(shí)，終止所述uv輻射。

36.如示例33所述的計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)，其中在所述預(yù)定時(shí)間段之內(nèi)，輸送所述一劑量的維生素d至所述用戶(hù)的指令包括在至多3分鐘后終止所述uv輻射。

結(jié)論

根據(jù)前述內(nèi)容，可以理解的是本技術(shù)的特定的實(shí)施例在此被描述以用于說(shuō)明的目的，但在不脫離本發(fā)明偏的情況下可以作出各種修改。例如，本文公開(kāi)的各種實(shí)施例包括過(guò)濾器，其集中297納米周?chē)膗vb輻射。然而，在其它實(shí)施例中，過(guò)濾器可以集中其它波長(zhǎng)周?chē)膗vb輻射，該其他波長(zhǎng)可促使在皮膚中的維生素d的生產(chǎn)和/或提供經(jīng)由皮膚治療的其他疾病或病癥(例如銀屑病，濕疹等)的治療效果。具體實(shí)施例的上下文中所描述的新技術(shù)的某些方面可以在其他實(shí)施例中被組合或取消。例如，在圖5a-5c所描述的氙氣uv源和/或圖7中所描述的金屬鹵化物uv源可以代替圖1a-1c的光療裝置的uv輻射源或與圖1a-1c的光療裝置uv輻射源一起使用。另外，雖然與新技術(shù)的某些實(shí)施例相關(guān)聯(lián)的優(yōu)點(diǎn)已經(jīng)在那些實(shí)施例的上下文中進(jìn)行了描述，其他實(shí)施例也顯示出這樣的優(yōu)點(diǎn)，而不是所有實(shí)施例需要一定表現(xiàn)出這樣的優(yōu)點(diǎn)以落入本技術(shù)的范圍內(nèi)的。因此，本公開(kāi)和相關(guān)聯(lián)的技術(shù)可包括未在此明確示出或在此被描述的其它實(shí)施例。