本申請(qǐng)屬于醫(yī)療設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，涉及一種醫(yī)療設(shè)備模體的支撐定位裝置。

背景技術(shù)：

計(jì)算機(jī)X射線斷層成像(computed tomography，CT)機(jī)或X光機(jī)或MRI(Magnetic Resonance Imaging，磁共振成像)等作為醫(yī)療設(shè)備廣泛應(yīng)用于醫(yī)療衛(wèi)生領(lǐng)域以協(xié)助醫(yī)生診斷疾病。

為了保證CT機(jī)或X光機(jī)或MRI等的成像穩(wěn)定性及圖像的數(shù)據(jù)準(zhǔn)確性，需要在出廠前及日常使用中利用各種模體對(duì)醫(yī)療設(shè)備進(jìn)行校正，也稱為模體校正。需要進(jìn)行模體校正的場(chǎng)合主要有出廠前的統(tǒng)調(diào)及日常的診斷工具測(cè)試和質(zhì)量檢測(cè)等。通常用到的模體主要有水模、層厚模、高分辨率模體和劑量模體等。

以水模校正MRI系統(tǒng)為例，MRI水模常用于MRI系統(tǒng)中與成像質(zhì)量相關(guān)的一些指標(biāo)測(cè)試，如信噪比、均勻度、渦流等，水模測(cè)試數(shù)據(jù)不僅可用來(lái)評(píng)價(jià)系統(tǒng)的成像質(zhì)量，也是作為對(duì)相關(guān)指標(biāo)進(jìn)行校正及提高成像質(zhì)量的依據(jù)。

MRI水膜通過(guò)放置在床板上的支撐定位裝置，對(duì)其進(jìn)行支撐及定位，由于需要將水模調(diào)節(jié)到MRI系統(tǒng)的磁體中心，在調(diào)節(jié)過(guò)程中支撐定位裝置的尺寸高度由水膜與床板之間的相對(duì)位置確定?，F(xiàn)場(chǎng)安裝環(huán)境的不同及使用條件的限制，致使每臺(tái)MRI系統(tǒng)的磁體中心與床板之間的距離都存在一定的差異，即每臺(tái)MRI系統(tǒng)的支撐定位裝置在支撐水膜高度方向的尺寸是不同的。

現(xiàn)有的支撐定位裝置調(diào)節(jié)方位小，需要在支撐定位裝置的下方通過(guò)鋪墊若干墊塊進(jìn)行粗調(diào)，再經(jīng)過(guò)支撐定位裝置細(xì)調(diào)使水模與MRI系統(tǒng)的磁體中心重合，調(diào)節(jié)效率低，同時(shí)，墊塊之間容易移動(dòng)或不平整等，調(diào)節(jié)困難。

又由于需在不同的MRI系統(tǒng)之間使用，其調(diào)節(jié)的操作空間有較大差異，而水模的中心不能超過(guò)MRI系統(tǒng)的磁體中心，支撐定位裝置的整體高度受到限制，當(dāng)支撐定位裝置完全采用螺紋調(diào)節(jié)結(jié)構(gòu)，螺紋的調(diào)節(jié)部分和自身與螺紋底座的連接部分之和，無(wú)法完全滿足水模的中心不能超過(guò)MRI系統(tǒng)的磁體中心的條件，因此，完全采用螺紋調(diào)節(jié)結(jié)構(gòu)僅能適用于部分特定的MRI系統(tǒng)，在調(diào)節(jié)范圍大的不同MRI系統(tǒng)之間使用時(shí)，需要通過(guò)在支撐定位裝置下方鋪墊墊塊調(diào)節(jié)，不能實(shí)現(xiàn)一個(gè)支撐定位裝置在不同MRI系統(tǒng)之間使用的要求。因此現(xiàn)有的支撐定位裝置在較小高度范圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)達(dá)到較大的調(diào)節(jié)范圍。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

有鑒于此，本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N醫(yī)療設(shè)備模體的支撐定位裝置。它具有調(diào)節(jié)精度高，高度調(diào)節(jié)范圍廣的特點(diǎn)。

具體地，本申請(qǐng)是通過(guò)如下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的：一種醫(yī)療設(shè)備模體的支撐定位裝置，包括：

底座，設(shè)有至少兩組分布在底座上的定位齒；

粗調(diào)節(jié)座，設(shè)有至少兩個(gè)凹陷部，所述凹陷部與定位齒的位置相匹配，每一凹陷部?jī)?nèi)均設(shè)有呈階梯狀分布的若干臺(tái)肩面；

細(xì)調(diào)節(jié)座，插設(shè)在粗調(diào)節(jié)座上；

所述粗調(diào)節(jié)座安裝至底座，使其中一級(jí)臺(tái)肩面貼合連接在定位齒上，所述細(xì)調(diào)節(jié)座沿粗調(diào)節(jié)座的軸線方向移動(dòng)并固定。

可選的，所述底座上設(shè)有定位孔，所述定位齒設(shè)置在定位孔的內(nèi)側(cè)面上且朝向定位孔的中心方向凸出，所述粗調(diào)節(jié)座插入定位孔并抵靠在定位齒上。

可選的，所述定位齒的厚度小于底座的厚度。

可選的，所述粗調(diào)節(jié)座的外側(cè)表面上設(shè)有定位面，所述粗調(diào)節(jié)座插入底座，所述定位面與定位孔共線。

可選的，每一凹陷部?jī)?nèi)相鄰臺(tái)肩面距離粗調(diào)節(jié)座底面的高度逐級(jí)遞增，在相鄰或間隔的凹陷部上，同一級(jí)臺(tái)肩面處于同一平面上。

可選的，每一凹陷部?jī)?nèi)相鄰臺(tái)肩面的高度差相同。

可選的，所述臺(tái)肩面呈扇環(huán)形，每一臺(tái)肩面的圓心角的角度相同。

可選的，所述細(xì)調(diào)節(jié)座與粗調(diào)節(jié)座通過(guò)螺紋連接。

可選的，所述細(xì)調(diào)節(jié)座上安裝有鎖緊螺母。

可選的，所述細(xì)調(diào)節(jié)座包括支撐部和設(shè)置在支撐部一側(cè)的螺紋部，所述螺紋部連接在粗調(diào)節(jié)座上，在支撐部的另一側(cè)設(shè)置有支撐面。

可選的，所述支撐面為自表面凹陷形成球形曲面或沉孔。

可選的，所述支撐面為平面。

可選的，所述底座、粗調(diào)節(jié)座和細(xì)調(diào)節(jié)座均由非金屬材料制成。

可選的，所述底座上設(shè)置有指針，所述粗調(diào)節(jié)座上刻制有若干刻度，所述指針指向其中一刻度。

本申請(qǐng)?zhí)峁┑膶?shí)施例公開(kāi)的技術(shù)方案可以具有以下有益效果：

采用粗調(diào)節(jié)座上不同高度的臺(tái)肩面與底座上的定位齒之間的配合，實(shí)現(xiàn)支撐定位裝置在高度方向上大尺寸粗調(diào)，再通過(guò)細(xì)調(diào)節(jié)座在粗調(diào)節(jié)座上的微調(diào)，實(shí)現(xiàn)模體與醫(yī)療設(shè)備的中心重合，調(diào)節(jié)效率高，在有限的高度內(nèi)調(diào)整范圍大，調(diào)節(jié)精度高，穩(wěn)定性好；在細(xì)調(diào)節(jié)座上設(shè)置與模體相配合的支撐面，通過(guò)更換細(xì)調(diào)節(jié)座，即可實(shí)現(xiàn)不同模體的定位和支撐，操作方便。

附圖說(shuō)明

圖1是本申請(qǐng)一示例性實(shí)施例示出的支撐定位裝置處于低位的使用狀態(tài)圖。

圖2是本申請(qǐng)一示例性實(shí)施例示出的支撐定位裝置處于高位的使用狀態(tài)圖。

圖3是本申請(qǐng)一示例性實(shí)施例示出的支撐定位裝置的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。

圖4是本申請(qǐng)一示例性實(shí)施例示出的支撐定位裝置的爆炸結(jié)構(gòu)示意圖。

圖5是本申請(qǐng)一示例性實(shí)施例示出的一種細(xì)調(diào)節(jié)座的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。

圖6是本申請(qǐng)一示例性實(shí)施例示出的另一種細(xì)調(diào)節(jié)座的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。

圖7是本申請(qǐng)一示例性實(shí)施例示出的支撐定位裝置的使用狀態(tài)圖。

具體實(shí)施方式

這里將詳細(xì)地對(duì)示例性實(shí)施例進(jìn)行說(shuō)明，其示例表示在附圖中。下面的描述涉及附圖時(shí)，除非另有表示，不同附圖中的相同數(shù)字表示相同或相似的要素。以下示例性實(shí)施例中所描述的實(shí)施方式并不代表與本申請(qǐng)相一致的所有實(shí)施方式。相反，它們僅是與如所附權(quán)利要求書(shū)中所詳述的、本申請(qǐng)的一些方面相一致的裝置和方法的例子。

在本申請(qǐng)使用的術(shù)語(yǔ)是僅僅出于描述特定實(shí)施例的目的，而非旨在限制本申請(qǐng)。在本申請(qǐng)和所附權(quán)利要求書(shū)中所使用的單數(shù)形式的“一種”、“所述”和“該”也旨在包括多數(shù)形式，除非上下文清楚地表示其他含義。還應(yīng)當(dāng)理解，本文中使用的術(shù)語(yǔ)“和/或”是指并包含一個(gè)或多個(gè)相關(guān)聯(lián)的列出項(xiàng)目的任何或所有可能組合。

如圖1、圖2和圖4所示，根據(jù)一示例性實(shí)施例示出的一種醫(yī)療設(shè)備模體的支撐定位裝置，包括：底座10、粗調(diào)節(jié)座20和細(xì)調(diào)節(jié)座30，在底座10上設(shè)有至少兩組分布在底座10上的定位齒11，粗調(diào)節(jié)座20設(shè)有至少兩個(gè)凹陷部21，凹陷部21與定位齒11的位置相匹配，每一凹陷部21內(nèi)設(shè)有若干階梯狀的臺(tái)肩面22，臺(tái)肩面22為自粗調(diào)節(jié)座20的底面23向下凹陷形成，即底座10上的定位齒11處于底座10的兩等分位、三等分位、四等分位等均分的等分位上，當(dāng)定位齒11處于三個(gè)及以上時(shí)，也可以使定位齒11不處于等分位上，定位齒11與凹陷部21相互配合，其中凹陷部21所處圓周的圓心與定位齒11所處圓周的圓心共線，細(xì)調(diào)節(jié)座30插設(shè)在粗調(diào)節(jié)座20上，粗調(diào)節(jié)座20安裝至底座10，使其中一臺(tái)肩面22貼合連接在定位齒11上，細(xì)調(diào)節(jié)座30沿粗調(diào)節(jié)座20的軸線方向移動(dòng)并固定。

根據(jù)一示例性實(shí)施例示出的醫(yī)療設(shè)備模體的支撐定位裝置，其中醫(yī)療設(shè)備以MRI系統(tǒng)為例，模體采用MRI水模對(duì)MRI系統(tǒng)進(jìn)行校正。

如圖7所示，將底座10放置在MRI系統(tǒng)4的床板3上，并使底座10處于MRI水模2調(diào)試位置的縱向方向上，將粗調(diào)節(jié)座20放置到底座10上，其中，將粗調(diào)節(jié)座20的底面23或一臺(tái)肩面22貼合在定位齒11上，在細(xì)調(diào)節(jié)座30上安放有MRI水模2，根據(jù)MRI水模2的中心和MRI系統(tǒng)4中磁體的中心之間的高度差調(diào)節(jié)粗調(diào)節(jié)座20上與定位齒11貼合的臺(tái)肩面22，使MRI水模2的中心與MRI系統(tǒng)4中磁體的中心之間的高度差小于設(shè)定值，該設(shè)定值為細(xì)調(diào)節(jié)座30的微調(diào)范圍，對(duì)細(xì)調(diào)節(jié)座30進(jìn)行微調(diào)使MRI水模2的中心和MRI系統(tǒng)4中磁體的中心重合，該支撐定位裝置1通過(guò)粗調(diào)節(jié)座20與底座10之間的粗調(diào)，在經(jīng)過(guò)細(xì)調(diào)節(jié)座30的微調(diào)，使MRI水模2的中心和MRI系統(tǒng)4中磁體的中心快速重合，調(diào)節(jié)效率高。在粗調(diào)節(jié)座20設(shè)置有階梯狀的臺(tái)肩面22，可以進(jìn)行大范圍的調(diào)節(jié)MRI水模2的中心高度，調(diào)節(jié)范圍大，效率高，與細(xì)調(diào)節(jié)座30的微調(diào)配合，可以實(shí)現(xiàn)粗調(diào)結(jié)合微調(diào)的形式，實(shí)現(xiàn)MRI水模2的快速調(diào)節(jié)，應(yīng)用范圍廣。通過(guò)臺(tái)肩面22逐級(jí)調(diào)節(jié)MRI水模2可以實(shí)現(xiàn)在較小轉(zhuǎn)動(dòng)范圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)MRI水模2的高度調(diào)節(jié)，減小支撐定位裝置1的整體尺寸，使MRI水模2能通過(guò)一種支撐定位裝置1在多個(gè)MRI系統(tǒng)4中實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)測(cè)試，實(shí)現(xiàn)MRI水模2在有限空間內(nèi)的多層次調(diào)節(jié)，調(diào)節(jié)效果好。

如圖3和圖4所示，在底座10上設(shè)有定位孔12，定位齒11設(shè)置在定位孔12的內(nèi)側(cè)面上且朝向定位孔12的中心方向凸出，粗調(diào)節(jié)座20插入定位孔12并抵靠在定位齒11上。定位齒11設(shè)置在底座10的定位孔12上，在同一個(gè)圓心的情況下，粗調(diào)節(jié)座20繞底座10轉(zhuǎn)動(dòng)過(guò)程中，間隔設(shè)置的定位齒11之間轉(zhuǎn)動(dòng)的角度相同，使粗調(diào)節(jié)座20的底面23或每一級(jí)的臺(tái)肩面22能貼合在定位齒11上，使MRI水模2的高度在軸線方向變化，而水平方向沒(méi)有變化，結(jié)合細(xì)調(diào)節(jié)座30在軸線方向的調(diào)節(jié)，可以實(shí)現(xiàn)MRI水模2始終處于縱向的高度調(diào)節(jié)，實(shí)現(xiàn)上升和下降，確保MRI水模2調(diào)節(jié)至MRI系統(tǒng)4中磁體的中心。

定位齒11的厚度小于底座10的厚度。定位齒11與底座10之間設(shè)置間距，在粗調(diào)節(jié)座20插入到底座10時(shí)，可以使粗調(diào)節(jié)座20的部分陷入到底座10中，使粗調(diào)節(jié)座20不易跑動(dòng)，限定粗調(diào)節(jié)座20在軸向的移動(dòng)范圍，調(diào)高穩(wěn)定性。

如圖3所示，在粗調(diào)節(jié)座20的外側(cè)表面上設(shè)有定位面27，粗調(diào)節(jié)座20插入底座10，定位面27與定位孔12共線。將粗調(diào)節(jié)座20的定位面27與底座10的定位孔12設(shè)置成共線，可以使粗調(diào)節(jié)座20在底座10上轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)確保粗調(diào)節(jié)座20的軸線不會(huì)偏轉(zhuǎn)，提高M(jìn)RI水模2調(diào)節(jié)的精度，不會(huì)使MRI水模2因支撐定位裝置1在調(diào)節(jié)過(guò)程發(fā)生偏轉(zhuǎn)而影響測(cè)試結(jié)果。將定位面27與定位孔12設(shè)置成間隙配合，方便粗調(diào)節(jié)座20從底座10上取出、插入或轉(zhuǎn)動(dòng)等動(dòng)作調(diào)節(jié)與底座10的相對(duì)位置，同時(shí)，將定位面27與定位孔12設(shè)置成間隙配合，定位齒11與臺(tái)肩面22在徑向的移動(dòng)范圍小，提高定位齒11與臺(tái)肩面22之間的配合準(zhǔn)確度，如粗調(diào)節(jié)座20轉(zhuǎn)動(dòng)的角度一致，能使粗調(diào)節(jié)座20上同一級(jí)的臺(tái)肩面22同時(shí)配合至相應(yīng)的定位齒11。

臺(tái)肩面22距離粗調(diào)節(jié)座20的底面23的高度逐級(jí)順序遞增，每一凹陷部21內(nèi)臺(tái)肩面22的高度遞增方向相同，在相鄰或間隔的凹陷部21上，同一級(jí)臺(tái)肩面22處于同一平面上。即凹陷部21內(nèi)的若干個(gè)臺(tái)肩面22呈階梯狀分布，每一凹陷部21內(nèi)臺(tái)肩面22的深度遞增方向相同，可以是臺(tái)肩面22沿順時(shí)針或逆時(shí)針?lè)较蛑鸺?jí)加深，以提高調(diào)節(jié)的深度和廣度，多個(gè)凹陷部21內(nèi)同一級(jí)的臺(tái)肩面22處于同一平面，以保證粗調(diào)節(jié)座20在轉(zhuǎn)動(dòng)過(guò)程中平穩(wěn)，調(diào)節(jié)的高度一致，而不同級(jí)之間的臺(tái)肩面22的高度差可以相同，也可以設(shè)置成不同。

每一凹陷部21內(nèi)相鄰臺(tái)肩面22的高度差相同。將每一級(jí)臺(tái)肩面22的高度設(shè)置為相同，方便計(jì)算和識(shí)別調(diào)節(jié)MRI水模2調(diào)節(jié)的整體高度，調(diào)節(jié)均勻，結(jié)構(gòu)美觀度高。

臺(tái)肩面22呈扇環(huán)形，沿粗調(diào)節(jié)座20的中心分布在粗調(diào)節(jié)座20上，每一臺(tái)肩面22的圓心角的角度相同。臺(tái)肩面22沿粗調(diào)節(jié)座20的中心分布，在粗調(diào)節(jié)座20繞底座10的軸線轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，其相當(dāng)于繞圓心轉(zhuǎn)動(dòng)一相同角度，運(yùn)動(dòng)平穩(wěn)。

細(xì)調(diào)節(jié)座30與粗調(diào)節(jié)座20通過(guò)螺紋連接。在粗調(diào)節(jié)座20上設(shè)置有凸臺(tái)24，在粗調(diào)節(jié)座20上開(kāi)設(shè)有螺紋孔26，螺紋孔26貫穿凸臺(tái)24和粗調(diào)節(jié)座20，螺紋孔26的軸線與粗調(diào)節(jié)座20的軸線重合，MRI水模2放置在細(xì)調(diào)節(jié)座30上，當(dāng)旋轉(zhuǎn)細(xì)調(diào)節(jié)座30時(shí)，可以實(shí)現(xiàn)MRI水模2在軸線方向的微調(diào)，MRI水模2在粗調(diào)和精調(diào)雙重作用下，實(shí)現(xiàn)位置的精確定位，凸臺(tái)24的設(shè)置可加大細(xì)調(diào)節(jié)座30的調(diào)節(jié)范圍，也可以增加螺紋的有效連接長(zhǎng)度。

如圖1、圖2和圖4所示，細(xì)調(diào)節(jié)座30上安裝有鎖緊螺母40。經(jīng)過(guò)粗調(diào)節(jié)座20和細(xì)調(diào)節(jié)座30的粗調(diào)和精調(diào)過(guò)程，使MRI水模2與MRI系統(tǒng)4中磁體的中心重合，將細(xì)調(diào)節(jié)座30通過(guò)鎖緊螺母40鎖緊至粗調(diào)節(jié)座20，保持細(xì)調(diào)節(jié)座30的位置固定，保持MRI水模2的中心保持不變，鎖定方便。

如圖4、圖5和圖6所示，細(xì)調(diào)節(jié)座30包括支撐部31和設(shè)置在支撐部31一側(cè)的螺紋部32，螺紋部32連接在粗調(diào)節(jié)座20上，在支撐部31的另一側(cè)設(shè)置有支撐面33。鎖緊螺母40安裝在螺紋部32上，螺紋部32與粗調(diào)節(jié)座20連接，在支撐部31的外周面上設(shè)置有滾花，在支撐部31上設(shè)置支撐面33，支撐面33支撐起MRI水模2，使MRI水模2不易跑動(dòng)和移位。可以通過(guò)更換細(xì)調(diào)節(jié)座30完成不同MRI水模2的定位和支撐。例如：

當(dāng)MRI水模2呈球形時(shí)，支撐面33為自表面凹陷形成球形曲面或或沉孔，沉孔即垂直于支撐面33開(kāi)設(shè)限位孔。將支撐面33設(shè)置成凹陷的球形曲面，當(dāng)MRI水模2安裝至支撐面33時(shí)，MRI水模2與支撐面33形成受到限定的接觸面，確保MRI水模2不會(huì)從支撐面33滾出。

當(dāng)MRI水模2呈矩性或柱形時(shí)，支撐面33為平面或垂直于支撐面33開(kāi)設(shè)限位孔?？梢酝ㄟ^(guò)多個(gè)支撐定位裝置1進(jìn)行多點(diǎn)支撐的形式將矩性或柱形的MRI水模2進(jìn)行支撐和定位，定位方便，調(diào)節(jié)簡(jiǎn)單；開(kāi)設(shè)限位孔可以限定球形或具有凸出部位的MRI水模2。

同時(shí)支撐面33也可以根據(jù)需要支撐的MRI水模2的支撐位置的形狀設(shè)置向?qū)?yīng)的形狀進(jìn)行限定，如圓柱形，可以設(shè)置圓弧面限定其轉(zhuǎn)動(dòng)。

底座10、粗調(diào)節(jié)座20和細(xì)調(diào)節(jié)座30均由非金屬材料制成。鎖緊螺母40也由非金屬材料制成，如：有機(jī)玻璃。由于MRI系統(tǒng)4工作環(huán)境決定金屬材料不適用與MRI系統(tǒng)4，因此，在制作時(shí)盡量不采用金屬材料。

在底座10上沿設(shè)置有指針13，在粗調(diào)節(jié)座20上刻制有若干刻度25，指針13指向刻度25。通過(guò)指針13和刻度25的配合，可以直觀的看出粗調(diào)節(jié)座20與底座10之間的配合高度，讀取粗調(diào)節(jié)的高度，直觀的觀察哪一級(jí)臺(tái)肩面22與定位齒11配合，數(shù)據(jù)讀取方便。在使用時(shí)，可以觀察指針13與刻度25的配合情況，確定粗調(diào)節(jié)座20與底座10的貼合面是否匹配到位，操作方便。

以上僅為本申請(qǐng)的較佳實(shí)施例而已，并不用以限制本申請(qǐng)，凡在本申請(qǐng)的精神和原則之內(nèi)，所做的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本申請(qǐng)保護(hù)的范圍之內(nèi)。