發(fā)明背景

1.發(fā)明領域

本發(fā)明一般地涉及紫外線放電燈設備和用于控制殺菌設備操作的系統(tǒng)，具體而言，涉及具有一個或多個反射器的紫外線放電燈設備、操作此類設備的方法和確定殺菌設備的操作參數(shù)和消毒一覽表的系統(tǒng)。

2.相關技術的描述

以下說明和示例并不因其被列入本節(jié)內而被承認是現(xiàn)有技術。

一般而言，殺菌系統(tǒng)被設計成使一個或多個表面和/或物體經受殺菌劑以減活化或殺滅駐留在這(些)表面和/或物體上的微生物。殺菌系統(tǒng)的應用包括但不限于滅菌、物體消毒和房間/區(qū)域去污。滅菌系統(tǒng)的示例是那些用于使外科手術工具、食品或藥品包裝滅菌的系統(tǒng)。區(qū)域/房間去污系統(tǒng)的示例是那些在醫(yī)院房間中用來消毒其表面和物體的系統(tǒng)和那些在農業(yè)操作中使用的系統(tǒng)，例如那些用來培育和/或養(yǎng)殖動物的農業(yè)操作。區(qū)域/房間消毒正變得越來越重要，因為病原微生物已被證明存在于環(huán)境中并造成感染。這尤其重要，因為耐藥性微生物在環(huán)境中更常見而且越來越難以應對。

對于常規(guī)的房間/區(qū)域去污系統(tǒng)的挑戰(zhàn)是以有效的方式使殺菌劑分布到需要消毒的所有表面。特別地，由于成本和尺寸的約束，許多常規(guī)的房間/區(qū)域去污系統(tǒng)在他們所包括的消毒源的數(shù)目上有限制。另外，常規(guī)的房間/區(qū)域去污系統(tǒng)中的殺菌劑的方向性通常是固定的。其結果是，常規(guī)系統(tǒng)通常被配置成投放高劑量的殺菌劑，從而房間或區(qū)域內的大量表面可在同一時間被消毒。殺菌劑的高劑量地毯式分布的問題是房間或區(qū)域的一些部分可能被過度暴露，這實際上是對殺菌劑的浪費且潛在地是對執(zhí)行消毒過程的時間和/或能源的浪費。此外，在一些情形中，房間/區(qū)域的諸部分可能在殺菌劑遍布房間各處地地毯式分布時沒有接收足夠的殺菌劑，尤其那些與消毒源相距相對遠距離和/或和消毒源不在一直線上的表面。在殺菌劑下的暴露不足可在表面或物體留下不期望的大量病原微生物，使隨后與這些表面接觸的人高度易感染。

常規(guī)房間/區(qū)域去污系統(tǒng)的另一問題是在執(zhí)行消毒過程中缺乏對房間中的物體和表面的考慮和先后次序。因此，如果對房間/區(qū)域的消毒過程在分配的時間之前被終止，那么該房間內的很可能被高度污染的物體和/或表面將尚未充分消毒是有可能的。特別地，房間/區(qū)域去污系統(tǒng)的消毒源通常被定位或安裝在房間的中心點的附近(而不是在一個或多個特定物體附近)以使從源到房間/區(qū)域的外圍的殺菌劑暴露在遍布房間/區(qū)域各處是基本上均勻的。類似的，在其中系統(tǒng)包括多個消毒設備的情形中，這些設備通常被均勻地分布遍布房間各處而不是在一個或多個特定的物體附近以力圖在給定的消毒過程中消毒整個房間。

在一些實施例中，房間/區(qū)域去污系統(tǒng)的消毒源可被定位在物體或表面附近，諸如醫(yī)院房間的床，但將消毒源定位在特定物體附近的不滿足在房間/區(qū)域內的很可能被認為是高度污染的其他物體或表面的消毒需要，例如房間中的門把手或燈開關。此外，當消毒源被固定地安裝在房間內的特定的位置時，如果該物體被移動，那么針對該特定物體其位置的效用將會失效。在其中去污系統(tǒng)包括可在房間中自由定位的(諸)消毒源的情形中，定位(諸)消毒源的任務一般是手動完成的，因此是勞力密集的并容易出現(xiàn)擺放錯誤。而且，這些后幾種配置中的任何配置都不涉及為房間中消毒源擺放分析房間的特性(例如，面積、區(qū)域性配置和/或其中物體的相對擺放)。

存在一定數(shù)目的用于消毒表面和物體的不同方法，范圍從化學方法(諸如，漂白)到高級方法(例如紫外線(UV)消毒)。特別地，已知大約200納米和大約320納米之間的光譜中的紫外線輻射在減活化、并且在一些情形中殺滅微生物是有效的，由此給出了使用紫外線光技術來使物品消毒和/或滅菌的理由。一些UV消毒設備利用放電燈來生成紫外光。除了用于消毒和滅菌應用以外，放電燈也被用在各種應用中來生成紫外(UV)光，諸如舉例而言聚合物固化。一般而言，放電燈指代藉由氣體中的電極之間的內部放電來生成光的燈。該放電制造提供輻射光的等離子體。在一些實例中，諸如在汞蒸汽燈中，一旦燈被觸發(fā)，所生成的光是連續(xù)的。通常稱為閃光管或閃光燈的其他放電燈配置生成非常短時長的光。此類放電燈有時用來提供周期性發(fā)生的光脈沖，因此，有時稱為脈沖光源。常用的閃光燈是氙氣閃光管。

盡管不同類型的放電燈已被研究以為不同應用提供UV光，但是很少被完成以改善在具有放電燈的設備中生成的紫外光的效率，特別是關于紫外光的傳播(即，距離和目標物體上的入射角)。此類進展的缺乏的原因是許多具有放電燈的設備(諸如食物滅菌和單個物體消毒設備)被配置成處置與燈緊鄰且直接對齊地放置的物體，因此很少或不能通過變更UV光的傳播來實現(xiàn)對UV光的效率的改善。此外，房間/區(qū)域去污系統(tǒng)被特別設計成將光分散在廣闊的區(qū)域之上，因此，變更來自系統(tǒng)的UV傳播可阻礙此類目標。另外，許多帶有放電燈的設備在應用和通用性上受限。例如，許多食物滅菌和單個物體消毒設備是自包含設備并被配置成處理特定物體，因此，一般不包括改善用于處理其他物體或在其他應用中使用的系統(tǒng)的通用性的特征。此外，一些設備要求耗時和/或繁瑣的規(guī)定以保護使用者免受傷害。例如，脈沖紫外線技術一般利用生成從深紫外光到紅外光(包括非常明亮且強烈的可見光)的廣泛光譜的脈沖的氙氣閃光燈?？梢姽夂妥贤夤獾谋┞犊赡苁怯泻Φ?，因此，可能需要諸如將脈沖光限制在該設備的邊界內或遮住使用房間去污單元的房間的窗戶之類的規(guī)定。

相應地，開發(fā)具有改善其使用性的特征的放電燈設備將是有益的，包括但不限于改善所生成的紫外光的效率、提高設備的通用性、并且減少和/或消除常規(guī)系統(tǒng)所要求的耗時和繁瑣的規(guī)定的特征。此外，開發(fā)比常規(guī)房間/區(qū)域去污系統(tǒng)更有效和更高效的房間/區(qū)域去污系統(tǒng)將是有益的。

發(fā)明概述

以下各種系統(tǒng)實施例的描述不以任何方式解釋為限制所附權利要求的主題內容。

本文中公開的設備的實施例包括配置成發(fā)射紫外光的放電燈、配置成操作該放電燈的功率電路、和配置成重定向從該放電燈發(fā)射的紫外光的反射器系統(tǒng)，并且不存在用于從該放電燈發(fā)射的光產生激光的光學元件。在一些實施例中，設備包括包含功率電路且支承放電燈的支承結構。在此類實施例中的一些實施例中，反射器系統(tǒng)配置成使遠離支承結構而傳播的紫外光重定向至該設備外部的一區(qū)域，該區(qū)域與其中布置該設備的房間的地板相距大約2英尺和大約4英尺之間的距離。在其它實施例中，反射器系統(tǒng)可附加地或替換地配置成將遠離支承結構而傳播的紫外光重定向至包圍該設備的外表面的一區(qū)域并進一步使得在該設備的操作期間被重定向至該包圍區(qū)域的紫外光共同占用該包圍區(qū)域的全部。在任何情形中，本文中公開的設備的反射器系統(tǒng)，在一些實施例中，包括可重定位的反射器。

系統(tǒng)的實施例包括消毒源以及處理子系統(tǒng)，該處理子系統(tǒng)包含處理器和能由該處理器執(zhí)行以接收關于其中布置消毒源的房間的物理屬性數(shù)據(jù)的程序指令。此外，該處理子系統(tǒng)包括程序指令能由處理器執(zhí)行以基于所接收到的數(shù)據(jù)確定房間內的放置消毒源的位置和/或對包括該消毒源的組件的定向的程序指令。

其他系統(tǒng)實施例包括多個消毒源和處理子系統(tǒng)，該處理子系統(tǒng)包括一個或多個處理器和能由這一個或多個處理器執(zhí)行的程序指令。在一些情形中，程序指令能由一個或多個處理器執(zhí)行以接收關于其中布置多個消毒源的房間的特性的數(shù)據(jù)并且基于該數(shù)據(jù)確定這多個消毒源的一個或多個單獨操作參數(shù)。在其他情形中，程序指令能由一個或多個處理器執(zhí)行以為多個消毒源中的每個消毒源辨別其中布置這多個消毒源的房間內的目標位置、區(qū)域、物體或表面，并比較這些目標位置、區(qū)域、物體和/或表面中的兩個或多個目標位置、區(qū)域、物體和/或表面。在此類系統(tǒng)中，程序指令還能由一個或多個處理器執(zhí)行以執(zhí)行一個或多個校正動作以基于檢測到兩個或多個目標位置在彼此的預定距離之內和/或基于檢測到兩個或更多個目標區(qū)域交疊來改變這多個消毒源中的至少一個消毒源的已計劃消毒過程。

附圖簡要描述

在閱讀以下詳細描述并參照其中附圖之后，本發(fā)明的其它目的和優(yōu)勢將變得顯而易見：

圖1是具有水平定位的放電燈的紫外線放電燈設備的橫截面示意圖；

圖2a描繪用于將濾光片容納在圖1所描繪的紫外線放電燈設備中的替換性配置；

圖2b描繪用于將濾光片容納在圖1所描繪的紫外線放電燈設備中的另一替換性配置；

圖2c描繪用于將濾光片容納在圖1所描繪的紫外線放電燈設備中的又一替換性配置；

圖3描繪圖1所描繪的紫外線放電燈設備在該設備的支承結構外部布置有放電燈的替換性配置；

圖4是具有垂直定位的放電燈的紫外線放電燈設備的立體圖；

圖5描繪圖4所描繪的紫外線放電燈設備的放電燈組件的替換性配置；

圖6描繪圖4所描繪的紫外線放電燈設備的濾光片的替換性配置；

圖7描繪圖4所描繪的紫外線放電燈設備的濾光片的另一替換性配置；

圖8描繪包括多個紫外線放電燈設備的系統(tǒng)；

圖9描繪包括一個或多個消毒源和具有用于確定一個或多個消毒源的操作參數(shù)和消毒一覽表的處理器可執(zhí)行程序指令的處理子系統(tǒng)的系統(tǒng)；

圖10描繪概述用于可配置成執(zhí)行圖9所描繪的系統(tǒng)的處理器可執(zhí)行程序指令的方法的流程圖；以及

圖11描繪概述可配置成執(zhí)行圖9所描述的系統(tǒng)的處理器可執(zhí)行程序指令的另一方法的流程圖。

盡管本發(fā)明可受到各種修改和替換形式，但是其具體實施例藉由附圖中的示例示出并且將在本文中詳細描述。然而，應當理解，附圖和對其的詳細描述不旨在將本發(fā)明限制到所公開的特定形式，而是相反，其意圖在于涵蓋落入由所附權利要求所定義的本發(fā)明的精神和范圍內的所有修改、等效物和替換物。

優(yōu)選實施例的詳細描述

轉到附圖，提供了放電燈設備的示例性實施例。具體而言，設備的示例性配置在圖1-3中示為具有與該設備的支承燈的平面縱向水平地布置的放電燈(下文稱為“水平定位燈”)。另外，設備的示例性配置在圖4-7中示為具有與該設備的支承燈的平面縱向垂直地布置的放電燈(下文稱為“垂直定位燈”)。另外，具有兩個放電燈設備的系統(tǒng)在圖8中示出。如以下將更詳細闡述的，本文所描述的設備和特征并不限于附圖中的描述，包括放電燈并不限于“水平”和“垂直”定位。此外，要注意，附圖不一定是按比例繪制的，特定特征可以比其他特征按更大的比例來描繪，以強調其特性。

參照圖1-8描述的設備中的每個設備包括被配置成生成紫外線的放電燈，因此，參照圖1-8描述的設備有時稱為“紫外線放電燈的設備”。在一些實施例中，設備的放電燈還可以配置成生成其它范圍的光，但此類配置將不阻止將本文所描述的設備稱為“紫外線放電燈設備”。在任何情形中，參照圖1-8描述的設備不存在用于從放電燈所發(fā)出的光產生激光的光學元件，因此，在本文一些實施例中這些設備可稱為非激光設備。換言之，參照圖1-8描述的設備被配置成非激光方式傳播從放電燈發(fā)射的光。如以下更詳細地展示，參照圖1-8描述的設備被配置成將區(qū)域和房間以及作為整體的諸物體暴露在紫外光下，因此，這些設備被專門配置成以廣闊方式分布光，而不是產生像由激光所生成的俠窄有限衍射光束。

本文所使用的術語“放電燈”指藉由氣體中的諸電極之間的內部放電來生成光的燈。該術語涵蓋氣體放電燈，其通過穿過離子化氣體(即，等離子體)發(fā)送放電來生成光。該術語還涵蓋表面放電燈，其通過沿著氣體中存在的電介質襯底的表面發(fā)送放電、產生沿著該襯底的表面的等離子體來生成光。由此，可考慮用于本文所描述設備的放電燈包括氣體放電燈以及表面放電燈。放電燈可進一步由采用的(諸)氣體的類型和操作這些放電燈的壓力來表征。可考慮用于本文所描述設備的放電燈可包括低壓、中壓和高強度放電燈。此外，所采用的氣體可包括氦氣、氖氣、氬氣、氪氣、氙氣、氮氣、氧氣、氫氣、水蒸氣、二氧化碳、汞蒸氣、鈉蒸氣及其任何組合。另外，考慮用于本文所描述設備的放電燈可具有任何尺寸和形狀，取決于這些設備的設計規(guī)格。而且，考慮用于本文所描述設備的放電燈可包括生成連續(xù)光的放電燈和生成短時長的光，后者在本文中稱為閃光管或閃光燈。用來提供周期性發(fā)生的光脈沖的閃光管或閃光燈在本文中稱為脈沖光源。

用來產生連續(xù)光的常規(guī)使用氣體放電燈是汞蒸氣燈，其可被考慮用于本文中描述的設備中的一些設備。其發(fā)射253.7納米的強峰值的光，被認為尤其可應用于殺菌消毒，因此，通常被稱為紫外線殺菌輻射(UVGI)?？煽紤]用于本文中描述的設備的常規(guī)使用閃光燈是氙氣閃光管。與汞蒸氣燈相比，氙氣閃光管生成從紫外線到紅外線的寬范圍光譜，由此，提供已知用于殺菌的整個頻譜(即，在大約200納米和大約320納米之間)中的紫外光。另外，氙氣閃光管可提供已知用于最優(yōu)殺菌的頻譜(即，在大約260納米和大約265納米)中的相對足夠的強度。而且，氙氣閃光管生成極大量的熱，這可進一步貢獻于減活化和殺滅微生物。

盡管目前表面放電燈尚不可商用，但如以上所述的，其可考慮用于本文中描述的設備中的一些設備。與氙氣閃光管相似，表面放電燈產生已知用于殺菌的整個頻譜(即，在大約200納米和大約320納米之間)中的紫外光。然而，相比而言，與氙氣閃光燈相比，以每脈沖較高能量水平操作的表面放電燈因此有較高UV效率以及提供較長燈壽命。要注意，對汞蒸氣燈、氙氣閃光燈和表面放電燈的前述描述和比較不以任何方式限制本文中描述的設備包括此類燈。而是，前述描述和比較僅僅給出以提供本領域技術人員可在為紫外線放電燈設備選擇放電燈(尤其取決于設備的目的和應用)時考慮的因素。

如上所述，參照圖1-8描述的設備配置成以寬闊的方式來分配紫外光，從而作為整體的諸物體和/或區(qū)域/房間可被處置。換言之，參照圖1-8描述的設備不被配置成產生如可用于激光應用的針對具體小目標的窄光束。鑒于其以寬闊的方式分配紫外光的配置，參照圖1-8描述的設備尤其可應用于將諸物體作為整體以及對區(qū)域和/或房間消毒、去污和/或滅菌。例如，參照圖1-8描述的設備可用于對醫(yī)院房間消毒或者可用在農業(yè)操作中，包括用來播種和/或養(yǎng)殖動物的那些農業(yè)操作。附加地或替換地，參照圖1-8描述的設備可用于減少植物上的微生物或對諸如外科手術工具、食物或藥物包裝之類的物體滅菌。用于參照圖1-8描述的設備的涉及在紫外光下的廣闊暴露其他應用可以是聚合物固化和醫(yī)藥規(guī)程。

在一些情形中，本文中描述的設備可尤其針對房間消毒。具體而言并如以下更詳細闡述的，參照圖1-8表述的設備所具有的特征中的一些特征(尤其對濾光片的包括、對用于將從設備的支承結構傳播的紫外光重定向的反射器系統(tǒng)的包括、對在操作期間在房間各處移動的適應、和/或包括多個放電燈設備的系統(tǒng))可特別適合于房間消毒設備。出于該原因，參照圖1-8描述的設備中的許多設備針對房間消毒設備。進一步，出于以下所闡釋的原因，參照圖1-8描述的設備中的許多設備專門針對基于地板的獨立式便攜式房間消毒設備。然而，關于參照圖1-8公開的設備描述的特征不一定限于要基于地板、便攜式或獨立式的房間消毒設備或配置。而是，參照圖1-8描述的特征可應用于任何類型的紫外線放電燈設備。如本文中使用的，術語“房間消毒”指對有界區(qū)域的清潔，其適合于人類進行以減活化、消滅或防止該區(qū)域中的攜帶病原的微生物的生長。

本文中描述的房間消毒設備可落入各種配置中，包括基于地板、基于墻和基于天花板。然而，盡管房間消毒設備可安置在房間的天花板內或在墻內或靠墻安置，但在許多情形中，將紫外線房間消毒設備定位成離開此類結構是有利的。尤其是，影響物體上的UV光強(并由此影響UV消毒效率)的主要因素之一是到該物體的距離，由此，在許多情形中，將紫外線房間消毒設備定位在房間的中心附近或假定要去污的的物體附近以最小化到物體的距離是有利的。而且，在其中房間消毒設備可用在建筑物(諸如在醫(yī)院中)的若干個房間中，設備是便攜式的一般是有益的。處于這些原因，本文中描述的且附圖中描繪的設備中的許多設備是針對獨立式、便攜式且基于地板的房間消毒設備。

一般而言，參照圖1-8描述的設備可配置成基本上單向地或多向地分配光。如本文中使用的，短語“配置成基本上單向地分配光”可指將設備配置成在單個方向上傳播從放電燈發(fā)射的光的大部分，輔助光以比與此方向成小于30度的角度傳播。所有其他光分布可指代短語“配置成多向地分配光”。配置成基本上單向地分布光的房間消毒設備可以是安置在墻或天花板內的房間消毒設備和/或在設備的邊界內安有放電燈而沒有用于使遠離該設備而傳播的光重定向的輔助光學組件系統(tǒng)的房間消毒設備對比而言，配置成多向地分布光的房間消毒設備可以是具有從支承放電燈的結構延伸出去的房間消毒設備和/或具有用于使遠離該設備而傳播的光重定向的輔助光學組件系統(tǒng)的房間消毒設備。

考慮到房間一般包括具有不同尺寸和形狀、位于與房間中的給定點(隨數(shù)目和要消毒的不同位置表面而定)相距不同的高度和距離的物體，用于房間消毒的紫外線設備被配置成在許多方向上(即，多向地)分布紫外光有時是有利的。而且，如上所述，將紫外線房間消毒設備定位成離開房間墻壁以減小到該房間中的各種物體的距離并有效提高從該設備發(fā)射的UV光的消毒效率有時是有利的。除此類想法之外，紫外光房間消毒設備被配置成使由放電燈生成的至少一些紫外光傳播到包圍該設備的外表面的區(qū)域并進一步使在該設備的操作期間傳播到該包圍區(qū)域的紫外光共同占用該包圍區(qū)域的全部有時是有效的。此類配置提供來自安置在天花板或墻中的紫外線房間消毒設備的消毒并在以下參照附圖中描繪的設備中的一些設備更詳細地描述。

轉向圖1，提供了具有水平定位的放電燈的紫外線放電燈設備的示例配置。具體而言，設備20示為具有安置在支承結構24內且與設備20的支承放電燈22的平面縱向平行地特別布置的(即，與支承結構24的上表面平行地布置的)放電燈22。如上所述并如以下將更詳細闡述的，本文中描述的紫外線放電燈設備不限于其中放電燈布置在“水平位置”中的實施例。而是，本文中描述的紫外線放電燈設備可包括以相對于支承放電燈的支承結構的表平面的任何角度布置的放電燈。此外，本文中描述的紫外線放電燈設備不限于其中放電燈與設備的上表面相鄰地布置的實施例。具體而言，本文中描述的紫外線放電燈設備可具有與設備的任何外表面(包括側壁和底表面)相鄰地布置的放電燈。

與支承結構上表面相鄰地布置的水平定位和垂直定位的燈在本文中尤其被討論，因為這些配置是用來提煉本文中公開的紫外線放電燈設備的新穎性特征中的一些新穎性特征的配置。然而，此類公開不應解釋成必然限制本文中描述的紫外線放電燈設備中的放電燈布置。還要注意，本文中描述的紫外線放電燈設備不限于其中放電燈安在圖1所描繪的支承結構的邊界內的實施例。而是，紫外線放電燈設備可替換性地具有至少部分地外置于支承結構地布置的放電燈，諸如在圖3-7中描繪的示例性實施例中的放電燈。

如圖1所示，除放電燈22之外，設備20包括安置在支承結構24內的功率電路26和觸發(fā)電路30以及將該功率電路和觸發(fā)電路連接到放電燈22的電路系統(tǒng)。一般而言，功率電路26、觸發(fā)電路30和連接電路系統(tǒng)配置成操作放電燈22(即，向燈發(fā)送放電以在其中制造輻射等離子體)。具體而言，觸發(fā)電路30用來向放電燈22的點火電極施加電壓觸發(fā)電壓，該點火電極可環(huán)繞燈或可以是燈的陽極或陰極，并且功率電路26(例如，電容器)用來在燈的陰極和陽極之間施加電勢。在一些情形中，觸發(fā)電路30在本文中可指代脈沖發(fā)生器電路，尤其在放電燈設備包括閃光管時。觸發(fā)電壓使燈內部的氣體電離，此舉提高氣體的導電性以允許在陰極和陽極之間形成電弧。

如上所述，在一些情形中，放電燈22可以是連續(xù)光燈，諸如汞蒸氣燈。在此類實施例中，觸發(fā)電路30一般可生成小于1000伏的信號并由此可不是可觀的高電壓。(本文中使用的術語“高電壓”指大于1000伏的電壓)。在其他實施例中，放電燈22可以是閃光管。閃光管要求更高電壓下的電離，一般在2000伏到150000伏之間。氙氣燈泡的觸發(fā)電路的電壓范圍的示例可在約20kV和30kV之間。比較而言，氙氣燈泡的功率存儲電路的示例性電壓范圍可在大約1kV和大約10kV之間。在任何情形中，設備20可包括附加電路系統(tǒng)以向設備中的其他特征提供功率，這些其他特征包括但不限于圖3所示的中央處理單元(CPU)32、用戶接口34和房間占用傳感器36。

盡管不是必需的，但是設備20中的一個或更多個操作可以是計算機操作的，因此，在一些實施例中，設備20可包括CPU 32來執(zhí)行可應用程序指令。另外，設備20可操作性地包括用戶接口34以為用戶提供設備20的用于激活操作和可能的特定操作模式的裝置以及為用戶提供訪問從該設備采集的數(shù)據(jù)的裝置。在一些情形中，用戶接口34可替換性地是與設備20不同但配置成用于設備20的有線或無線通信的設備。以此方式，設備20可以是遠程控制的。房間占用傳感器36是任選的安全機構，其可一般配置成確定人是否存在于房間中，諸如通過運動檢測或照相識別。設備20中示出的其他任選特征包括影響該設備的便攜性的滾輪38和手柄39，但可取決于設備的設計規(guī)格來省略。

如圖1所示，設備20可包括濾光片40、冷卻系統(tǒng)44和反射器系統(tǒng)60。如以下將更詳細闡述的，濾光片、冷卻系統(tǒng)和反射器系統(tǒng)的配置以及放電燈的放置可在本文中描述的紫外光設備之中變化。實際上，此類特征中的一者或更多者的替換性實施例是相對于與參照圖1示出并描述的配置來描述的。此類實施例中的每者包括圖1所描述(特別參照支承結構22、功率電路26、觸發(fā)電路30、CPU 32、用戶接口34、房間占用傳感器36、滾輪36和手柄39)的支承結構和伴隨組件。然而，出于簡潔的目的以及要強調所描繪濾光片和反射器系統(tǒng)的不同配置以及放電燈的放置，此類特征不在圖2-7中描繪。

如上所述，參照圖1-8描述的設備中的每一個包括配置成生成紫外光的放電燈。在一些實施例中，設備的放電燈還可配置成生成其他范圍的光，諸如但不限于可見光。在此類情形中的一些情形中，尤其在(但不一定如此限制)所生成可見光非常明亮和/或令人分散注意力的情形中，使可見光衰減可能是有好處的。例如，氙氣閃光燈生成與日光頻譜相似的寬頻譜脈沖，但可見光的強度最高達比日光的強度高20000倍。因此，在一些實施例中，本文中描述的設備包括配置成減弱可見光的濾光片。在一些情形中，本文中描述的設備可包括配置成使可見光頻譜的大部分(大于可見光頻譜的75％)或整個可見光頻譜中的光減弱。然而，在其他實施例中，濾光片可配置成使可見光頻譜的小于大部分中的光通過。在任何情形中，濾光片可配置成使可見光頻譜的給定部分中的大部分光的量衰減，在一些情形中，使可見光頻譜的給定部分中的大于75％或全部光衰減。

由于參照圖1-8描述的設備配置用于紫外光暴露，所以濾光片必需在使可見光減弱之外使紫外光通過。因此，在一些情形中，濾光片可以是可見光帶阻濾波器。然而，在其他實施例中，濾光片可以是紫外線帶通濾波器。在其他情形中，濾光片可配置成使紫外光頻譜的給定部分中的大部分光通過，在一些實施例中，使紫外光頻譜的給定部分中的大于75％或全部光通過。在一些情形中，紫外光頻譜的給定部分可以是紫外光頻譜的大部分(大于紫外光頻譜的75％)或整個紫外光頻譜。然而，在其他實施例中，紫外光頻譜的給定部分可小于紫外光頻譜的大部分。在一些實施例中，濾光片可特別配置成使紫外光頻譜的特定部分中的光通過。例如，在其中設備用于消毒、去污或滅菌目的的情形中，濾光片可配置成使殺菌UV頻譜(即，大約200-320納米)的大部分(大于75％)或全部中的光通過。附加地或替換地，濾光片可配置成使已知為最優(yōu)殺菌的紫外光頻譜(即，大約260-265納米)的大部分(大于75％)或全部中的光通過。

可用作本文中描述的紫外線放電燈設備的濾光片的示例性濾光片玻璃材料是可從紐約艾姆斯佛得的SCHOTT北美有限公司獲得的Schott UG5玻璃。Schott UG5玻璃濾光片減弱可見光頻譜的大部分，同時允許使大約260納米到大約265納米的范圍中的紫外光的大約85％通過。取決于設備的設計規(guī)格，也可使用具有類似或不同特性的其他濾光片玻璃材料。在其他情形中，考慮用于本文中描述的紫外線放電燈設備的濾光片可以是具有以上描述的任何光學特性的膜。在此類實施例中，膜可安置在諸如石英之類的透光材料上。在其他實施例中，考慮本文中描述的用于紫外線放電燈設備的濾光片可以是濾光片玻璃材料和安置在其上的膜的組合，其每者配置成使可見光減弱。

本文中使用的術語“濾光片材料”指設計成通過阻擋或減弱具體波長頻譜來影響光頻譜透射的材料。對比而言，本文中使用的“透光”指允許光穿過而沒有對具體波長頻譜的大幅阻擋或減弱的材料。石英是眾所周知的透光材料。本文中使用的術語“膜”指物質的薄層并且包括指代在表面上延展的物質層的術語“涂覆”?？紤]用于本文中描述的濾光片的膜可以是固體或半固體形式，因此包括固體物質和膠體。另外，考慮用于本文中描述的濾光片的膜可具有液體、半固體、或固體形式(在應用于材料時)，其中在應用之后液體和半固體形式可隨后轉換成固體或半固體形式。

在任何情形中，由于過度曝光，放置在本文中描述的紫外線放電燈設備中的濾光片的效率將隨時間推移下降，因此，濾光片可需要定期更換。過度曝光是一種關于光學組件相對于其在UV輻射下曝光的時間透射紫外線輻射的能力有所下降的現(xiàn)象。在一些實施例中，考慮用于本文中描述的紫外線放電燈設備的濾光片可包括一過度曝光率，其大約是包括設備的放電燈的性能下降率的整數(shù)倍。換言之，放電燈可具有一性能下降率，其是濾光片的過度曝光率的近似因數(shù)。濾光片的此類表征中的術語“因數(shù)”指該術語的數(shù)學定義，尤其指代整除另一數(shù)的數(shù)，即，沒有余數(shù)。濾光片的過度曝光率可以大約是放電燈的性能下降率的包括一的任何整數(shù)倍，因此在一些實施例中，濾光片的過度曝光率可與放電燈的性能下降率相似或相同。

一般而言，放電燈被保證一定的使用次數(shù)(即，生成等離子體的特定觸發(fā)次數(shù))，其根據(jù)放電燈的組件中的一者或更多者的預期性能下降來確定。例如，脈沖光源通常被保證特定的脈沖數(shù)。對于本文中描述的設備，此類使用計數(shù)可用來表征放電燈的性能下降率，通過要在每個操作期間發(fā)射的紫外光的量乘以保證使用的觸發(fā)該放電燈的次數(shù)。以此方式，性能下降率可被計算成可與濾光片的過度曝光率相關。如果濾光片的過度曝光率大約是設備中的放電燈的性能下降率的整數(shù)倍，那么組件可在同一時間被有利地更換，由此，相對于其中組件是基于其各自單獨指標來更換的實施例，設備的停機時間可減少。另外，在其中光被監(jiān)視以確定何時更換項目的情形中，監(jiān)視過程可被簡化，因為僅來自一個組件的光需要被測量。在本文中描述的設備中納入的濾光片的針對過度曝光的其他特征以下參照圖1和3更詳細地討論，特別參照配置成監(jiān)視與放電燈的操作相關聯(lián)的參數(shù)以及濾光片的透光率的傳感器系統(tǒng)和設備內的熱回復系統(tǒng)的容納。

濾光片的若干種不同示例性配置和布置以及任選的伴隨組件在以下尤其參照附圖1-7詳細描述。具體而言，設備的若干種不同配置以下描述用于與放電燈對準地容納濾光片。參照圖1-7描述的實施例中的濾光片中的每個濾光片可具有以上闡述的濾光片特性。這些特性出于間接目的不再為每個實施例贅述。如上所述，盡管不如此限制，但濾光片可特別適合于房間消毒設備。這是因為房間消毒設備一般配置成將光分布到設備的環(huán)境中，因此不包括包含光的外殼。要注意，盡管濾光片的容納在本文中描述的設備中的一些設備中可以是有益的，但這不一定是要求，因此在一些實施例中可被省略。

本文中描述的紫外線放電燈設備具有的另一相異特征是配置成使遠離該設備的支承結構而傳播的紫外光重定向的反射器系統(tǒng)。一般而言，考慮用于本文中描述的紫外線放電燈設備的反射器系統(tǒng)可用來增大暴露在由該設備發(fā)出的紫外光下的區(qū)域的大小，減小紫外光竄波導目標物體或區(qū)域的距離，和/或改善紫外光在目標物體或區(qū)域上的入射角。配置成實現(xiàn)此類目的中的一者或更多者的反射器系統(tǒng)的若干種不同示例性配置和布置以下更詳細描述并在圖1-7中示出。特別地，描述了具有可重定位反射器的設備。另外，描述了配置成使遠離該設備的支承結構而傳播的紫外光重定向成包圍該設備的外表面的設備。如上所述，此類配置可特別適用于房間消毒設備。

而且，描述了具有配置成使遠離該設備的支承結構而傳播的紫外光重定向去往在該設備外部的區(qū)域的反射器系統(tǒng)的設備，該區(qū)域與其中布置該設備的房間的地板相距大約2英尺和大約4英尺之間的距離。一般而言，與房間的地板相距大約2英尺和大約4英尺之間的距離的區(qū)域被認為是房間的“高觸摸”區(qū)域，因為頻繁使用的物體通常放置在此類區(qū)域中。通常在房間的高觸摸區(qū)中發(fā)現(xiàn)的物體示例包括但不限于桌面、鍵盤、電話、座椅、門和櫥柜拉手、燈開關和水槽。醫(yī)院房間的高觸摸區(qū)中的物體示例附加地或替換地包括床、床頭柜、托盤臺和靜脈看臺。由于此類區(qū)域被認為是高觸摸區(qū)，所以通常認為是具有與細菌接觸的最高可能性的區(qū)域，并且一些研究指明，高觸摸區(qū)可以是具有最高細菌濃度的區(qū)域。出于此類原因，將至少一些紫外光定向到與房間的地板相距大約2英尺和大約4英尺之間的距離的區(qū)域可以是有利的。本文中描述的對反射器系統(tǒng)的容納可用來達成此類目的。

盡管不如此限制，但本文中描述的反射器系統(tǒng)可特別適合于房間消毒設備。這是因為房間消毒設備一般配置成將光到設備的環(huán)境中，因此不包括包含并反射光的外殼。出于以上闡述的原因，在本文中描述且在附圖中描繪的紫外線放電燈設備中的許多紫外線放電燈設備是針對基于地板的房間消毒設備的，其中該放電燈布置成在設備的支承結構的上表面上方傳播光。如上所述，然而，此類所強調公開不應解釋成必要性地限制本文中描述的紫外線放電燈設備的配置。例如，在其中放電燈布置成與設備的支承結構的側壁表面毗鄰地傳播光的實施例中，該設備的反射器系統(tǒng)可包括耦合到該側壁表面的最上層部分的反射器和/或耦合到側壁的最下層部分的反射器，從而紫外光被向下或向上反射到所集中區(qū)域。在其中放電燈布置成在設備的支承結構的下表面下方傳播光的其他情形中，設備的反射器系統(tǒng)可包括在放電燈下方的反射器。若干種其他布置也可適于增大暴露在由該設備發(fā)出的紫外光下的區(qū)域的大小，減小紫外光竄波導目標物體或區(qū)域的距離，和/或改善紫外光在目標物體或區(qū)域上的入射角。

在任何情形中，如以下更詳細描述的，考慮用于本文中描述的設備的反射器系統(tǒng)可包括一個或更多個反射器，其可具有任何尺寸或形狀并可布置在設備內的任何位置處以實現(xiàn)對光的期望重定向。另外，反射器的材料可以是適于對光進行期望重定向的任何材料。適于本文中描述的設備配置中的許多配置的示例性反射器材料是可從ALANOD Aluminium-Veredlung GmbH&Co.KG獲得的4300UP Miro-UV。適于本文中描述的設備配置中的許多配置的另一示例性反射器材料是可從W.L.Gore&Associates,Inc獲得的漫射反射器。其他反射器材料可取決于反射系統(tǒng)的涉及規(guī)格來附加地或替換地使用。在任何情形中，參照圖1-7描述的反射系統(tǒng)的實施例中的每個實施例可具有以上闡述的反射系統(tǒng)的特性。這些特性出于間接目的不再為每個實施例贅述。如本文中描述的設備中的對濾光片的容納，盡管對反射器系統(tǒng)的容納在一些設備中可以是有益的，但這不一定是要求，因此可在一些實施例中被省略。而且，濾光片和反射器系統(tǒng)的特征對于設備并不相互排斥或相互包容，因此，設備可包括一個或全部兩個特征。

轉向圖1，設備20包括配置成使從放電燈22發(fā)射的可見光減弱的濾光片40。圖1中的用于使從放電燈22發(fā)射的可見光減弱的濾光片40的配置特別在于濾波器的用于使可見光減弱的光學特性以及該濾光片在放電燈22上方并與其對準的放置。如圖1所示，濾光片40可與支承結構24的上表面平齊地布置在杯狀部分42的側壁之間，從而濾光片40包括封閉放電燈22的罩殼壁。如以下更詳細描述的，本文中描述的設備包括用于調控放電燈的溫度并將燈封罩在封閉體內的冷卻系統(tǒng)以提供達到期望溫度的有效方式。將濾光片40用作放電燈炮22的罩殼壁可簡化濾光片到設備20中的納入，并由此在一些設計方面可以是有益的。然而，在一些實施例中，使濾光片40與放電燈22的罩殼相異可以是有益的。例如，在一些情形中，能夠取決于設備的期望操作來將濾光片與放電燈對準或失準地布置可以是有利的。此類配置在以下更詳細描述，并且設備20的容納此類配置的示例性變體在圖2a-2c中示出。

可考慮用于本文中描述的設備的冷卻系統(tǒng)可變化并可一般取決于設備的涉及規(guī)格?？墒褂玫氖纠岳鋮s系統(tǒng)包括但不限于強制空氣系統(tǒng)和液體冷卻系統(tǒng)。圖1中示出的冷卻系統(tǒng)44是強制空氣系統(tǒng)，包括空氣入口46、空氣進氣導管48、風扇50、溫度傳感器52、空氣導管54和空氣出口56。在一些情形中，空氣入口46、空氣進氣導管48、空氣導管54和空氣出口56中的一者或更多者可包括空氣過濾器。在一些實施例中，空氣導管54和/或空氣出口56可附加地或替換地包括臭氧過濾器。然而，在其他情形中，臭氧過濾器可從設備省略。臭氧一般可作為放電燈22的使用的副產品產生，尤其在燈生成具有比大約240納米短的波長的紫外光的情況下，因為此類UV光頻譜使氧分子的氧原子分離，開始臭氧生成過程。臭氧是已知的健康和質量風險，因此，設備對其的釋放由環(huán)境保護機構(EPA)規(guī)范。還已知臭氧是有效殺菌劑，因此，如果要由放電燈生成的臭氧量低于EPA臭氧暴露限制，那么將臭氧過濾器從包括此類放電燈的設備排除可以是有益的。

在任何情形中，用于冷卻系統(tǒng)44的不同出口配置可考慮用于設備20以及本文中描述的其他設備。例如，在一些配置中，冷卻系統(tǒng)可配置成具有支承結構24的側壁的下部上或支承結構24的底表面上的空氣出口。此類替換性配置的益處包括對臭氧過濾器的增大的容量以及對環(huán)境的降低的干擾，尤其當空氣出口定位在支承結構24的底表面上時。在任何情形中，本文中描述的設備可包括用于支承結構24內的剩余組件的冷卻系統(tǒng)。在一些情形中，支承結構冷卻系統(tǒng)可與放電燈22的冷卻系統(tǒng)44集成。然而，在其他實施例中，這兩種冷卻系統(tǒng)可以不同。要注意，盡管一個或更多個冷卻系統(tǒng)的容納在本文中描述的設備中的一些設備中可以是有益的，但這不一定是要求，因此在一些實施例中可被省略。

如上所述，設備20可包括反射器系統(tǒng)60。一般而言，反射器系統(tǒng)60配置成使遠離該支承結構24而傳播的紫外光重定向。反射器系統(tǒng)60的用于達成此類目的的配置涉及反射器62的放置、形狀、尺寸和角度。具體而言，放電燈22在設備20中布置成在支承結構24的上表面上方傳播光，因此，反射器62布置在放電燈22上方以使傳播紫外光重定向。一般而言，紫外光的重定向減少紫外光行進到與設備相毗鄰的物體的距離，包括物體的下側表面以及物體的上和側壁表面。具體而言，經由反射器62的紫外光避免行進到設備上方的表面(例如，其中布置有該設備的房間的天花板)得以反射回到與該設備相毗鄰的物體。避免行進到設備上方的表面還縮短了紫外光行進到(諸如藉由來自其中布置有設備的房間的地板的反射來)入射在物體下側上所需的距離。因此，反射器系統(tǒng)60可包括安置在支承結構24上方但與其中布置有該設備的房間的天花板隔開的如圖1所示的反射器62的反射器。然而，在一些情形中，反射器系統(tǒng)60可包括安置在其中布置有設備的房間的天花板之內或之上的反射器。

在一些情形中，反射器系統(tǒng)60可配置成優(yōu)化使紫外光以其定向到物體表面的入射角。例如，反射器62可設計成具有具體尺寸和/或形狀和/或可重定位成使得可獲得物體上的最優(yōu)入射角。其中反射器62是可重定位的示例性配置在以下更詳細討論。在任何情形中，在一些實施例中，反射器系統(tǒng)60包括一個或更多個附加(即，除反射器62之外的)反射器。例如，在一些情形中，反射器系統(tǒng)60可包括耦合到支承結構24側壁的配置成使從反射器62接收到的紫外光重定向的反射器。對此類附加反射器的容納對于使紫外光定向到房間內的物體下側可以是有益的。附加反射器還可用來或替換地且一般地設計(即，尺寸、形狀和放置)成與反射器62協(xié)同達成反射器系統(tǒng)60的上述目的中的任何者。

在一些實施例中，反射器系統(tǒng)60可特別配置成將遠離支承結構24而傳播的紫外光重定向至與其中布置有設備20的房間的地板相距大約2英尺和大約4英尺之間的距離的區(qū)域。具體而言，如上闡述，使紫外光重定向到此類區(qū)域可以是有利的，因為該區(qū)域是高觸摸區(qū)。在一些情形中，反射器系統(tǒng)60可附加地或替換地配置成使遠離該支承結構24而傳播的紫外光重定向到包圍設備的外表面的區(qū)域。例如，反射器62可具有使紫外光被重定向成去往包圍支承結構24的區(qū)域的形狀和尺寸。替換地，反射器62可具有使紫外光被重定向成去往包圍反射器系統(tǒng)60的區(qū)域的形狀和尺寸。在任一情形中，反射器62的錐形可特別適于達成此類重定向。

本文中使用的術語“包圍”指形成圍繞物體的連續(xù)圓。該術語不限于圍繞物體的整體或甚至是物體的主要部分的實施例。因此，本文中描述的“紫外光放電燈設備可配置成使紫外光包圍設備的外表面”此類句段指形成圍繞設備的至少一些外部部分的連續(xù)紫外光環(huán)。另外，本文中描述的“紫外光放電燈設備可配置成使在設備的操作期間傳播到包圍設備的區(qū)域的紫外光共同占用該包圍區(qū)域的整體”此類句段指圍繞設備的連續(xù)環(huán)區(qū)域中的每個部分在該設備的操作期間的某個時間暴露在紫外光下。

無論反射器系統(tǒng)60的配置如何或者設備20是否還包括反射器系統(tǒng)60，在一些實施例中，設備20可包括布置在支承結構24內的配置成使從放電燈22發(fā)射的光重定向在光遠離該支承結構而傳播的方向上的另一反射器系統(tǒng)。具體而言，設備20可包括配置成使從放電燈22的側和底表面的發(fā)射的光重定向在與從放電燈22的頂表面發(fā)射的光相同的方向上的反射系統(tǒng)。此類反射系統(tǒng)示例可涉及地板和/或具有反射材料的杯狀部分42的側壁。然而，反射系統(tǒng)的其他配置可考慮用于本文中描述的設備。

如圖1所示，反射器系統(tǒng)60可包括支承梁64和66以懸掛反射器62。此類懸臂支承結構僅是示例并且各種其他支承結構可考慮用于反射器62。無論用于將反射器62懸掛在放電燈22上方的配置如何，在一些情形中，反射器系統(tǒng)60可包括通孔，從而傳播去往反射器系統(tǒng)60的一些光可穿過去往反射器系統(tǒng)60上方的區(qū)域。一實施例示例在圖1中示為具有包括通孔68的支承梁66。在附加或替換情形中，反射器62可包括用于此類目的的通孔。在其他實施例中，反射器系統(tǒng)60可沒有此類通孔。無論如何，反射器系統(tǒng)60的尺寸、尤其是反射器62的尺寸可在諸設備之中變化。在一些情形中，反射器62的面尺寸可與其中包含放電燈22的罩殼的面尺寸相同或比其大。以此方式，幾乎從支承結構24傳播的所有光將被定向成去往反射器62。然而，在其他實施例中，反射器62的面尺寸可比其中包含放電燈22的罩殼的面尺寸小。在此類情形中，從支承結構24傳播的一些光將可定向成越過反射器62。

無論其尺寸或配置，在一些情形中，反射器系統(tǒng)60可配置成如圖1中的雙箭頭線所示的在水平和/或垂直方向上移動。以此方式，反射器62可以是可重定位反射器。在一些實施例中，反射器62可在設備20的諸操作之間移動，由此，在一些情形中，反射器系統(tǒng)60可包括用于將可重定位反射器固定在設備20的不同位置處。在其他實施例中，反射器系統(tǒng)60可包括用于在設備20在操作中的同時移動反射器62的裝置。反射器62的移動在設備20在操作中的同時可以是連續(xù)的或周期性的，由此，在一些情形中，反射器62可在放電燈22正發(fā)光的同時移動?！霸O備20在操作中”指當設備的組件以被激活成操作放電燈22尤其和藉由其在該放電燈內生成輻射等離子體的操作的時期。如上所述，在一些實施例中，放電燈22可配置成一旦燈被觸發(fā)就生成連續(xù)光，由此，此類情形中的“設備20在操作中”指用來觸發(fā)燈的時間以及連續(xù)光發(fā)射的時間。在其他實施例中，閃光燈或脈沖光源可用于放電燈22，在此類情形中，“設備20在操作中”指其中光從燈發(fā)射出的時間以及光閃爍之間的時間。

在任何情形中，在一些實施例中，用于移動反射器62且有時將反射器62固定在設備20內的不同位置處的裝置可包括梁64和/或梁66的(諸)線性致動器以及由CPU 32處理的用于影響(諸)線性致動器及其定時的程序指令。在一些實施例中，設備20可配置成使反射器62可手動地移動。此類情形中的用于將反射器62固定在設備20內的不同位置處的裝置可包括梁64和/或梁66的凹口和反射器62上的接收凸起，反之亦然。用于移動反射器62和/或將反射器62固定在設備20內的不同位置處的其他各種裝置也可考慮，因此，設備不限于以上所述的示例。在任何情形中，在一些情形中，反射器62可以是可從設備20拆裝的以影響反射器62相對于放電燈22的移動和/或方便設備的存儲性或便攜性。

在一些情形中，反射器62的移動可基于其中布置有設備20的房間的特性。一般而言，在一些實施例中，訪問和/或分析房間的特性并使用此類信息來確定設備20的一定數(shù)目的操作參數(shù)(諸如但不限于反射器62的放置和/或反射器62的移動特性)可以是有利的。例如，如果房間內的相對高數(shù)目的物體在同一一般區(qū)域內，那么將反射器62定位成與該房間的其他區(qū)域相比、使更多光定向成去往該區(qū)域可以是有益的?；诜块g的特性來確定消毒源的操作參數(shù)的其他示例參照圖2a-2c(即,基于房間的特性來確定濾光片40的定位),參照圖7(即,基于房間的特性來確定濾光片/反射器組件的定位)以及參照圖9和10來描述。

一般而言，本文中使用的短語“房間的特性”指房間的物理屬性以及非物理屬性。房間的非物理屬性包括但不一定限于用來指代房間的標識符(例如，房間號和/或房間名)和關于房間的占用信息(例如，先前占用房間的病人或一覽表成要占用房間的病人的感染信息)。房間的物理屬性包括但不一定限于房間的大小和/或體積和/或房間內的表面、物體和/或項目的數(shù)目、大小、距離、位置、反射性和/或標識。在一些情形中，房間的物理屬性可以是一個或更多個病理機構的標識，有時還可以使房間中、房間的特定區(qū)域中、或房間中的特定表面上的此類機構的數(shù)目或集中。本文中使用的短語“消毒源的操作參數(shù)”指可影響消毒源的操作的任何參數(shù)，包括但不限于消毒源的運行時間、消毒源的定位、包括消毒源的組件的朝向和/或提供給消毒源的功率。本文中所使用的術語“消毒源”指用來生成和散布殺菌劑的一個或更多個組件的集合，并且若適用的話，包括用來執(zhí)行殺菌劑的生成或散布的任何附加組件。例如，圖1的放電燈22、功率電路26、觸發(fā)電路30、濾光片40和反射器系統(tǒng)60可統(tǒng)稱為消毒源。替換地，設備20作為整體可稱為消毒源。

在一些實施例中，設備20可包括或可配置成訪問列出其中布置有設備20的房間的特性的數(shù)據(jù)庫。附加地或替換地，設備20可包括用于采集和/或生成關于其中布置有設備的房間的特性的數(shù)據(jù)。在此類情形中，可取決于要生成的數(shù)據(jù)來使用本領域所知的用于采集、生成和/或分析房間的特性的任何系統(tǒng)。示例包括空間傳感器、照相識別系統(tǒng)和/或劑量計。在一些實施例中，圖1所示的系統(tǒng)70可操作地耦合到CPU 32。替換地，CPU 32可配置成從數(shù)據(jù)庫訪問房間特性數(shù)據(jù)。在任一情形中，CPU 32可配置成檢索并訪問關于其中布置有設備20的房間的特性的數(shù)據(jù)，并基于該數(shù)據(jù)來確定諸如反射器62的定位之類的設備20的操作參數(shù)。在一些實施例中，所確定操作參數(shù)可經由用戶接口34中繼，從而可通知設備20的用戶調用設備20的操作參數(shù)，諸如將反射器62移動到一特定位置。在其他情形中，CPU 32可配置成根據(jù)所確定操作參數(shù)來向設備20內的用于自動地調用該操作參數(shù)的裝置發(fā)送命令，諸如自動地移動反射器62。

在一些實施例中，系統(tǒng)70可用來測量在其中布置有設備20的房間中的物體或某處接收到的紫外光的劑量。具體而言，測量房間中的物體或某處接收到的紫外光的劑量可幫助確定設備20的操作參數(shù)。如上所述，影響物體上的UV光強的主要因素之一是到該物體的距離。另一主要因素是光的入射角。在該光中，如果在房間中的物體或某處接收到的紫外光劑量可被測量出，那么此類測量可用來確定設備20的操作參數(shù)(例如，移動反射器62以優(yōu)化該物體或該處上的入射角)。通過系統(tǒng)70到CPU 32的操作性耦合，CPU 32可配置成從系統(tǒng)70檢索測量，基于這些測量來確定設備20的操作參數(shù)，諸如反射器62的定位、向用戶接口34中繼所確定操作參數(shù)和/或根據(jù)所確定操作參數(shù)來向設備20內的用于自動地調用該操作參數(shù)的裝置發(fā)送命令，諸如移動反射器62。一般而言，本領域中所知的用于測量紫外光劑量的任何系統(tǒng)可用于系統(tǒng)70。示例包括紫外線劑量計和輻射計。

如上所述，由于過度曝光，放電燈和濾光片的效率將隨時間推移降低。另外，放電燈一般具有有限的壽命，因為其組件在大量使用后磨損。因此，在一些實施例中，本文中考慮的紫外線放電燈設備可包括配置成監(jiān)視與該放電燈的操作相關聯(lián)的(諸)參數(shù)和與濾光片的透射性相關聯(lián)的(諸)參數(shù)(若適用)。具體而言，此類傳感器系統(tǒng)用于確定合適更換放電燈可以是有益的，若適用的話，濾光片用于監(jiān)視從設備發(fā)射的UV光的效率也可以是有益的，因為該效率與UV強度和劑量有關。一般而言，與濾光片的透射性相關聯(lián)的參數(shù)可以是紫外光劑量或紫外光強度。相同參數(shù)可被監(jiān)視用于放電燈的操作，但是脈沖計數(shù)可附加地或替換地被監(jiān)視，因為放電燈一般保證具體的脈沖數(shù)。在任何情形中，當傳感器系統(tǒng)要用來監(jiān)視與放電燈的操作和濾光片的透射性兩者相關聯(lián)的(諸)參數(shù)時，該傳感器系統(tǒng)可配置成監(jiān)視關于這兩個組件的相同參數(shù)或不同參數(shù)。在一些實施例中，傳感器系統(tǒng)可包括配置成測量與放電燈和濾光片相關聯(lián)的(諸)參數(shù)的單個傳感器。然而，在其他實施例中，傳感器系統(tǒng)可包括用于測量放電燈和濾光片的各自相應參數(shù)的不同不同傳感器。

圖1的設備20的示例性傳感器系統(tǒng)包括布置在反射器系統(tǒng)60的下側上的傳感器72和布置在包括放電燈22的罩殼中的傳感器74。一般而言，傳感器74可用來監(jiān)視與放電燈22的操作相關聯(lián)的參數(shù)，尤其可用來監(jiān)視在穿過濾光片40之前從放電燈22發(fā)射的光。雖然圖1示出安置在杯狀部分42的側壁表面上的傳感器74，但傳感器74可布置在放電燈22的罩殼內。在其他實施例中，傳感器74可從設備20省略。具體而言，在一些實施例中，傳感器72可配置成監(jiān)視與放電燈22的操作相關聯(lián)的參數(shù)(諸如通過脈沖計數(shù))，因此傳感器74可不需要。在任何情形中，傳感器72可用來監(jiān)視與濾光片40的透射性相關聯(lián)的參數(shù)，因此可布置在設備20上的任何位置處或在設備20附近以接收穿過濾光片40的光。雖然圖1示出布置在反射器系統(tǒng)60的下側上的傳感器72，但此類放置是示例性的。

如上所述，在一些情形中，能夠取決于設備的期望操作來將濾光片與放電燈對準或失準地布置可以是有利的。示例實施例包括其中設備將在各種房間(有些有窗戶有些沒有窗戶)中使用的實施例。如上所述，在具有窗戶的房間中使濾光片與放電燈對準地布置可以是有利的。然而，對比而言，在沒有窗戶的封閉房間中將濾光片與放電燈失準地布置以放置濾光片的不必要性能下降可以是有益的。具體而言，因為封閉房間中的由放電燈生成的可見光將不被看到，所以可不需要濾光。而且，如上所述，由于過度曝光，濾光片能夠發(fā)射紫外線輻射的能力將關于其暴露在UV輻射下的時間來下降。由此，具有能夠將濾光片與放電燈失準地布置的能力可提供其中為給定設備延長濾光片的壽命的方式。

配置成使濾光片可與放電燈22對準和失準地布置的設備20的示例性變體在圖2a-2c中示出。具體而言,圖2a-2c示出濾光片40的相對于其圖1中的作為放電燈22的罩殼的一部分放置的放置變體。要注意，雖然圖2a-2c僅僅闡述用于將濾光片與放電燈對準和失準地容納的配置示例，但是此類示例性討論和繪圖不應解釋成出于此類目的限制本文中描述的設備配置。還要注意，盡管圖2a-2c描述為圖1中設備20的變體，但是圖2a-2c為了簡化附圖僅描繪了設備的一部分。具體而言，圖2a-2c僅描繪了濾光片40相對于支承結構24內的放電燈22的罩殼的的放置。要注意，圖2a-2c中描繪的具有與參照圖1描述的相同配置(即，放電燈22、支承結構24、濾光片40和杯狀部分42)的特征用相同附圖標記標示，出于簡潔的目的對此類特征的描述不再贅述。由于圖2a-2c的實施例不使濾光片40作為放電燈22的罩殼的一部分，所以圖2a-2c中的每者包括相對于圖1而言新的特征，尤其是罩殼上蓋32。一般而言，罩殼32可以是具有透光材料，諸如但不限于石英。

如圖2a所示，設備20的變體80可包括布置在罩殼上蓋32上的濾光片40。在此類配置中，在一些實施中，濾光片40可在沒有用于將濾光片40固定到支承結構的裝置的情況下簡單地放置在支承結構24的頂部上(即，支承結構24的包括罩殼上蓋32的部分)。替換地，變體80可包括用于將濾光片40附接到支承結構24的裝置。在任一情形中，將濾光片40放置在罩殼上蓋32上可以是手動的或者可以是自動的。圖2b示出設備20的相對于圖2a中的變體80略微修改的變體84。具體而言，圖2b示出了對安裝到濾光片40的一側的合頁86的容納。以此方式，濾光片40可布置在罩殼上蓋82上并可在不從設備拆裝的情況下從此類位置移除。合頁86可配置成使濾光片40相對于圖2b中示出的濾光片40的位置在90和180度之間樞軸轉動。因此，濾光片40可在從放電燈上方的位置移動時在直立位置和支承結構24上與放電燈22相對的位置之間的任何位置中，此類實施例中的濾光片40的移動可以是手動的或可以是自動的。設備20的不同變體在圖2c中描繪，如由水平雙箭頭所指示的，其使濾光片40布置在滑塊上以沿著支承結構24的上表面與放電燈22對準和失準地移動該濾光片?；瑝K上的濾光片40的移動可以是手動的或自動的。

無論設備20的配置使濾光片40可與放電燈22對準和失準地布置如何，設備20可配置成在與放電燈22失準時保護濾光片40以免暴露在紫外光下。例如，在一些實施例中，設備20可包括可在其從該設備移除和/或在其中重定位時在其中放置濾光片40的隔室。附加地或替換地，設備20可包括用于在濾光片40變得與放電燈22失準時覆蓋濾光片40的組件。在任何情形中，如上闡述，圖2a-2c中公開的實施例中的每個實施例可以是自動的，因此不盡本文中公開的紫外線放電燈設備可配置成將濾光片與放電燈對準和失準地容納，而且在一些實施例中，該設備可包括用于將濾光片自動地移動成與放電燈對準和失準的裝置。此類裝置可包括本領域所知用于移動物體的任何機構。在一些實施例中，對是否要移動濾光片的確定和/或移動濾光片的定時可由設備20的用戶確定。然而，換言之，設備20可包括可由CPU 32執(zhí)行的程序指令，從而對是否要移動濾光片的確定和/或移動濾光片的定時可以是自動的。

如上所述，在一些實施例中，訪問和/或分析房間的特性并使用此類信息來確定設備20的操作參數(shù)可以是有利的。具體而言，基于該數(shù)據(jù)來確定在布置有設備20的房間中是否有窗戶并確定濾光片40的定位可以是有利的。以此方式，在其中窗戶在其中布置有設備20的房間中被檢測出的實施例中，濾光片40可在操作放電燈以產生光之前與放電燈22對準地布置。相反地，在其中窗戶在其中布置有設備20的房間中未檢測出的實施例中，濾光片40可在操作放電燈以產生光之前與放電燈22失準地布置。要注意，用于影響濾光片40的移動的任選配置可附加于或替換以上所述的用于影響反射器62的移動的配置。如上所述，設備20可包括或可配置成訪問列出一個或更多個房間的特性的數(shù)據(jù)庫，并且/或者設備20可包括用于采集和/或生成關于房間的特性的數(shù)據(jù)的系統(tǒng)70。一般而言，在此類情形中，本領域所知用于確定房間中是否有窗戶的任何系統(tǒng)可用于系統(tǒng)70，諸如但不限于反射傳感器。如以上進一步描述的，設備20的CPU 32可配置成檢索和/或訪問數(shù)據(jù)、基于該數(shù)據(jù)確定濾光片40的定位、向用戶接口34中繼所確定定位和/或根據(jù)所確定定位來向設備20中的用于自動地移動濾光片40的裝置發(fā)送命令。

圖2c示出設備20的光學特征協(xié)同包括濾光片40的滑塊，尤其是對與支承結構24相毗鄰的熱回復室90的容納。如上所述，由于過度曝光，濾光片能夠發(fā)射紫外線輻射的能力將關于其暴露在UV輻射下的時間來下降。然而，在一些情形中，如果濾光片以高溫(諸如以500℃的量級)，那么加熱過度曝光效應可反轉。盡管此類過程可獨立于設備20完成，但是在一些實施例中，將該過程納入到設備20中可以是有利的，以減少設備的停機時間和/或從而當濾光片40正回復時更換濾光片不需要手邊。由于反轉過度曝光效應所要求的高溫，熱回復室90是與支承結構24不同的室是優(yōu)選的。另外，將熱回復室90配置成不僅經受還大量地包含其中生成的熱以放置支承結構24內的組件的熱結合/損害將是有利的。

如圖2c中的下箭頭所示，在一些實施例中，設備20可配置成使濾光片40移動到熱回復室90中。在其他實施例中，其可手動完成。在任一情形中，在一些實施例中，濾光片40移動到熱回復室90中可取決于關于濾光片40的透射性采取的測量。具體而言，從傳感器72采集的關于濾光片40的透射性的信息可用來確定何時使濾光片移動到熱回復室90中。盡管對熱回復室的容納在一些設備中可以是有益的，但是這不是要求，因此可在一些實施例中被省略。而且，圖2c所示的熱回復室90和濾光片40在滑塊上的特征對于該設備既不相互排斥也不相互包容，因此設備可包括一個或全部兩個特征。實際上，本文中描述的包括濾光片的設備中的任何設備可包括熱回復室，包括以上參照圖1、2a和2b描述的特征以及以下參照圖3-7描述的特征。

如上所述，本文中描述的紫外線放電燈設備不限于其中放電燈安置(即，安在)在圖1所描繪的支承結構的邊界內的實施例。而是，紫外線放電燈設備可替換地據(jù)歐至少部分地外置于支承結構的放電燈。其中放電燈22外置于支承結構24的設備20的的變體的示例性實施例在圖3中示出。如圖3所示，變體92可包括與圖1中的設備20所示的配置不同的濾光片配置，尤其是濾光片94代替了濾光片40。除配置成使字放電燈22上方傳播的可見光減弱之外，濾光片94配置成使從放電燈側旁傳播的可見光減弱以考慮到布置在支承結構24上方的放電燈22。由于此類放電燈22的移位，在一些實施例中，杯狀部分42可從圖3所示的支承結構24省略。在此類情形中，在圖3所示一些實施例中，變體92可包括安置在放電燈22下方的反射平面96來使從放電燈22的底部發(fā)射的光重定向成向上。

如上進一步所述并如以下將更詳細闡述的，本文中描述的紫外線放電燈設備不限于其中放電燈布置在“水平位置”中的實施例。而是，本文中描述的紫外線放電燈設備可包括以相對于支承放電燈的支承結構的表平面的任何角度布置的放電燈。使放電燈布置在“垂直位置”中(即，與設備的支承燈的平面縱向垂直布置)的紫外線放電燈示例在圖4-7中示出。此類示例中的每個示例包括圖1所描述的支承結構、功率電路、觸發(fā)電路和伴隨任選組件(例如，CPU、用戶接口、傳感器、房間特性系統(tǒng)、合頁、滑塊、和/或熱回復室)。然而，出于簡潔的目的以及要強調所描繪濾光片和反射器系統(tǒng)的不同配置以及放電燈的放置，此類特征不在圖4-7中描繪。而且，出于簡潔起見，此類特征中的每者不參照圖4-7描述。

轉向圖4，設備100示為具有支承在支承結構102上方且與支承結構102的平面縱向垂直布置的放電燈組件。該放電燈組件包括由濾光片106環(huán)繞且垂直安置在風扇108和臭氧過濾器119之間的放電燈104。另外，放電燈組件包括基座110和支承在基座114上的空氣過濾器112。在一些實施例中，濾光片106可以是封閉放電燈104的罩殼壁，與風扇108一起構成設備100的強制空氣冷卻系統(tǒng)。設備100還包括在濾光片106的頂部附接到臭氧過濾器119的反射器118。反射器118、放電燈104和設備100的冷卻系統(tǒng)的特性以及濾光片的光學特性可一般包括以上描述的用于所有本文所考慮的紫外線放電燈設備的特性，出于簡潔起見不再贅述。如以上描述的實施例，可為本文中描述的紫外線放電燈設備的其他配置更換和/或省略包括在設備100中的組件中的若干個組件，尤其是濾光片108、反射器118、臭氧過濾器119和設備100的冷卻系統(tǒng)。由此，圖4中繪出的組件的匯集和配置不一定相互包容。

而且，要注意，設備100可包括附加組件(即，圖4中繪出的組件之外的組件)。例如，在一些實施例中，設備100可包括布置在放電燈104和濾光片106之間且從其隔開的透光中間障礙物。該中間障礙物的示例性材料可以是石英，但其組成不受此限制。中間障礙物可以是封閉放電燈104的罩殼壁，因此，可垂直地安置在風扇108和臭氧過濾器119和設備100的冷卻系統(tǒng)之間。在此類情形中，濾光片106作為與該中間障礙物隔開的分立玻璃零件圍繞該中間障礙物，并被固定到基座110、風扇108、和/或反射器118。在放電燈104和濾光片106之間納入中間障礙物在期望具有能夠使濾光片108與放電燈104對準和失準地布置的能力時、或在期望使濾光片108在設備的操作期間獨立于放電燈104移動時可以是有利的。具體而言，中間障礙物可以是放電燈104的罩殼的一部分，允許濾光片在不犧牲放電燈104的冷卻系統(tǒng)的情況下的移動。

如以下更詳細闡述的，在一些實施例中在設備的操作期間關于中軸移動(例如，轉動或擺動)本文中描述的設備的濾光片可以是有利的。然而，由于擔心對放電燈的損害，一般不期望以相同方式移動放電燈。因此，在一些實施例中，濾光片106可固定到基座110或風扇108，但可與反射器118隔開，反之亦然。在此類情形中，設備100可包括耦合到濾光片106的附加組件，該附加組件配置成將光、尤其是可見光阻擋在濾光片106和基座、風扇108或反射器118之間的空隙中。可尤其適于此類功能的示例性組件可以是濃密的鬃毛集合。

在任何情形中，盡管從設備放出的冷卻氣體的量和速率可極大地且可一般地取決于設備的設計規(guī)格，但在一些實施例中，氣體量和速率可足以觸發(fā)房間中的灑水系統(tǒng)，尤其當冷卻系統(tǒng)的出氣導管被定向成去往天花板時(如在本文描述的設備的發(fā)展期間發(fā)現(xiàn)的)。由此，在一些情形中，設備100可包括在放電燈組件上方隔開的蓋狀組件以允許空氣從設備的側邊而不從設備上方放出。蓋狀組件的示例性配置在圖5中示出并在以下更詳細描述。用于放置灑水系統(tǒng)由冷卻系統(tǒng)的排氣觸發(fā)的替換解決方案是降低氣體穿過燈組件的流速，若此舉不使放電燈在所建議最大操作溫度以上。相反，降低氣體流速在一些情形中(即，即使其不使放電燈超過最大操作溫度)可以不是期望的，因為以較涼的溫度操作放電燈為燈提供更長的壽命并理論上生成更多紫外光。

圖5示出具有布置在設備的燈放射組件上方、尤其在燈放射組件內的冷卻系統(tǒng)的出口上方的蓋狀組件117的設備100變體115，從而從其排出的氣體可定向在設備側旁而不是在設備上方。如圖5所示，蓋狀組件117可拱頂化成防止在其上放置物體。此類拱頂配置不限于其中設備在放電燈組件上方包括蓋狀組件的實施例。具體而言，在一些情形中，放電燈組件的頂部可拱頂化以放置在其上放置物體。而且，對蓋狀組件117的容納與其中臭氧過濾器119包括如圖5所示的放電燈組件的整個頂部部分的實施例不相互包容。具體而言，本文中公開的設備中的任何設備可包括與其冷卻系統(tǒng)的出口隔開的組件以定向從其排出的氣體。

如圖4所示，在一些實施例中，設備100可包括耦合到基座114的線性致動器116。一般而言，線性致動器116可用來使放電燈組件和附接反射器118移動進入和離開支承結構102。此類配置對于在設備100不在使用、尤其在運輸時保護放電燈組件和附接反射器免受損害可以是有利的。在其他實施例中，線性致動器116可用來在設備100在操作中時、并且在一些情形中在放電燈104正在發(fā)光時移動放電燈組件和附接反射器。具體而言，在一些實施例中，使放電燈組件和附接反射器在設備100在操作中時移動可以是有利的，以輔助紫外光在其中布置有設備的房間內的分布?？墒褂脠?zhí)行放電燈組件和附接反射器的移動的其他方式，因此，本文中考慮的設備不一定限于線性致動器116來達成此類目的。例如，設備100可替換地具有沿其放電燈組件和附接反射器可移動的固定軌道。在任何情形中，在設備的操作期間移動放電燈組件的配置與其中設備包括附接到和/或在放電燈組件上方的反射器的實施例不相互排斥。

由于設備100配置成使放電燈104延伸越過支承結構102的外表面，所以濾光片106配置成圍繞放電燈104，因此在一些情形中可以是如圖4所示的圓柱形。此類濾光片106的配置可包括正圓圓柱形形式的濾光片玻璃或者可包括具有光學特性的安置在透光正圓圓柱形襯底(諸如舉例而言石英)上的膜。如以下參照圖6和7更詳細描述的圍繞放電燈104的其他濾光片配置也是可行的.在另外其他情形中，濾光片106可從設備100省略。具體而言,如上所述，盡管濾光片的容納在本文中描述的設備中的一些設備中可以是有益的，但這不一定是要求，因此在一些實施例中可被省略。

使設備100配置成使放電燈104延伸越過支承結構102的外表面的益處在于從放電燈104發(fā)射并穿過濾光片108(若適用)的紫外光在不一定容納反射器118的情況下包圍該設備的外表面。具體而言，放電燈104延伸越過支承結構102的外表面固有地使從放電燈104發(fā)射且穿過濾光片108(若適用)的紫外光包圍燈外殼，該燈外殼包括該設備的外表面。取決于支承結構102的高度以及放電燈組件的高度，放電燈104延伸越過支承結構102的外表面還可使從放電燈104發(fā)射的紫外光包圍支承結構102。而且，在一些實施例中，放電燈104延伸越過支承結構102的外表面可使紫外光傳播到與其中布置有設備100的地板相距大約2英尺和大約4英尺的距離的區(qū)域，該區(qū)域如上所述地可認為是房間中需要特別有效消毒的高觸摸區(qū)。在另外其他情形中，盡管放電燈104懸掛在支承結構102上方對于使光圍繞設備100分布可以是有益的，但是放電燈104的放置不受此限制。具體而言，放電燈104可替換地布置在支承結構102之上或者可部分地與支承結構102安置在一起。

由于使放電燈延伸越過支承結構的外表面對于使光圍繞設備傳播是有效的，所以用于使遠離該設備而傳播的紫外光重定向的反射器系統(tǒng)在本文中描述的設備、尤其對于具有垂直定位的放電燈的設備的一些實施例中可不需要。然而，在一些情形中，此類反射器系統(tǒng)可包括在如圖4的所示的設備100中。如上所述，設備100的反射器系統(tǒng)可包括在濾光片106的頂部附接到臭氧過濾器119的反射器118。盡管此類配置對于使反射器118與放電燈組件一起移動可以是有利的(即，在垂直方向上進入和離開支承結構102)，但設備配置不受此限制。具體而言，反射器118可替換地從設備100的放電燈組件拆裝。此類配置在其中期望獨立于放電燈組件地移動反射器的實施例中可以是有利的，諸如用于優(yōu)化紫外光到具體區(qū)域的重定向。如圖5所示，設備100的其他替換性配置包括具有相同或相似直徑并相對于彼此垂直安置的反射器118和臭氧過濾器119。具體而言，圖5示出其中臭氧過濾器119包括放電燈組件的頂部部分并且反射器118包括該組件的底部部分的設備100變體115。此類配置可有利地允許更多的空氣流過燈外殼，由此，提供更有效的冷卻系統(tǒng)。在另外其他實施例中，臭氧過濾器119可從設備100省略并用空氣過濾器和/或濾光片替換。

在任何情形中，反射器118可以是圖4所示的圓并在一些實施例中尤其可以是錐形。然而，其他形狀可考慮用于反射器118。在一些實施例中，反射器118可包括孔，從而一些紫外光可傳播到設備100上方。在任何情形中，在一些實施例中，設備100可包括用于使從放電燈104和/或反射器118傳播的紫外光重定向的(諸)附加組件。例如，在一些實施例中，設備100可包括按支撐圍繞放電燈組件基座的反射器。在一些情形中，附加反射器可附接到放電燈組件，從而附加反射器與放電燈組件一起移動。在其他實施例中，附加反射器可附接到支承結構102的上表面并且放電燈組件可穿過其移動。關于反射器118的形狀，在一些情形中，附加反射器可以是圓形、甚至是錐形，但其他形狀也可考慮。無論反射器118的配置或甚至其在設備100內的容納性，支承放電燈104的基座(例如，風扇108的頂部)可包括反射器。

如上所述，圍繞放電燈104的其他濾光片配置可靠率用于本文7中公開且在圖6和7中示出的紫外線放電燈設備。要注意，圖6和7所姐說的設備變體用來強調可不考慮用于本文中描述的設備的不同濾光片配置。盡管未示出,圖6和7中示出的設備變體可包括圖1-5中示出并討論的組件中的任何者。例如，變體可包括參照圖4描述的燈組件的任何組件以及反射器118。而且，圖6和7中的臭氧過濾器119的尺寸可與其描述有所變更，并且/或者取決于設備的設計規(guī)格，臭氧過濾器可從圖6和7的配置省略。

圖6示出使多面濾光片122圍繞放電燈104的設備100的變體120。圖6示出布置在支承結構102上的多面濾光片122，但此類布置是示例性的。多面濾光片122可替換地懸掛在支承結構102上方，如在圖4中為濾光片106示出并描繪的。在另外其他配置中，多面濾光片122和伴隨放電燈泡104可部分地安置在支承結構102之內。在任何情形中，多面濾光片一般包括熔在一起的多個濾光片面板。盡管多面濾光片122被示為包括6個面板，但其不受此限制。具體而言，考慮用于本文中設備的多面濾光片可包括任何多個濾光片面板。另外，濾光片面板可由濾光片玻璃材料支承或者可具有透光襯底，諸如舉例而言石英，具有其上安置有期望光學特性的的膜。在任一情形中，在一些實施例中，濾光片面板可包括用于結構支承的具有不同材料(諸如金屬或塑料)的窄帶。在一些情形中，這些窄支承帶中的一個或更多個窄支承帶可部分地或全部地包括反射性材料以輔助從圍繞其布置宅支承帶的放電燈發(fā)射的光的重定向。

在一些實施例中，多面濾光片可比正圓圓錐濾光片便宜，尤其對于其中濾光片是由濾光片玻璃材料制成的實施例而言。然而，采用多面濾光片的不利之處可在于在板子被熔合之處和/或支承帶被安置之處紫外光受阻，因此其中布置有設備的房間的區(qū)域可能不被充分消毒。一種克服此類缺陷的方式是在設備的操作期間移動多面濾光片。具體而言，多面濾光片可圍繞中軸移動，從而在設備的操作期間傳播到包圍設備100的區(qū)域的紫外光可共同占用包圍區(qū)域的整體。多面濾光片可在設備的操作期間旋轉一整圈或更多，或者可在設備的操作期間旋轉少于一圈。在一些實施例中，多面濾光片可移動一圈的一分數(shù)，其中該分數(shù)對應于包括該多面濾光片的光學面板數(shù)。例如，在其中多面濾光片包括6個光學面板的實施例中，多面濾光片可移動一圈的1/6。

在任何情形中，本文中描述的設備中的一些設備可包括用于使濾光片圍繞中軸移動的裝置。此類裝置可包括本領域所知用于移動物體的任何機構，并在另外的實施例中還可包括可由CPU 32執(zhí)行的程序指令，從而使濾光片圍繞中軸移動的定時可以是自動的。如上所述，盡管在一些實施例中使濾光片在設備的操作期間關于中軸圍繞本文中描述的紫外線放電燈設備移動可以是有利的，但是鑒于對損害放電燈的疑慮，一般不期望使放電燈以相同方式移動。因此在一些實施例中，變體120可包括放電燈104和多面濾光片122之間的中間障礙物。如上所述，該中間障礙物可以是圍繞放電燈104的罩殼的一部分。另外，多面濾光片122可配置成獨立于該中間障礙物移動。

在另外其他實施例中，多面濾光片122可不配置成在設備的操作期間關于中軸移動。具體而言，理論上從多面濾光片122的相鄰濾光片面板傳播的光可匯聚在同一點處，因此，紫外光可在不使多面濾光片122在設備100的操作期間圍繞中軸移動的情況下包圍設備100的外表面。在另外其他實施例中，放電燈104可包括抵消來自濾光片面板的溶合區(qū)域和/或安置在多面濾光片122上的支承帶的潛在阻擋的配置。例如，放電燈104可包括U形燈泡，在U的兩“刪”之間具有比熔合區(qū)域和/或支承帶的寬度更大的間隔。在此類情形中的任一情形中，設備100可稱為配置成使從放電燈104發(fā)射且穿過多面濾光片122的紫外光中的至少一些紫外光包圍該設備的外表面。替換地，可確定由濾光片面板的熔合區(qū)域和/或在多面濾光片122安置支承帶之處引起的覆蓋空隙可不顯著，因此多面濾光片122的移動可不需要。

圖7示出可在本文考慮的設備內使用的濾光片的又一配置。具體而言，圖7示出具有濾光片126和圍繞放電燈104的反射器128的組件的設備100的變體124。如圖7所示，在一些實施例中，濾光片126和反射器128可具有沿著組件的圓柱形側壁的大約相等的尺寸。然而，其他配置是可行的，包括其中濾光片126比反射器128沿著組件的側壁的部分大的配置和其中濾光片126比反射器128沿著組件的側壁的部分小的配置。由此，對可考慮用于本文中描述的設備的濾光片/反射器組件的更一般描述可以是包括濾光片和與該濾光片相對的反射器的組件，反之亦然。

如圖7所示，在一些情形中，反射器128可還包括組件的頂部部分。然而，組件頂部的其他配置可被考慮，包括濾光片126替換地包括該組件的頂部部分，或者使反射器128和濾光片126的組合包括該組件的頂部部分。還要注意，濾光片/反射器組件的形狀不限于圖7所示的正圓圓柱形。而是，反射器128和濾光片126中的一者或更多者可包括多個面板，因此，在一些情形中該組件可具有多變圓柱形。附加地或替換地，組件的頂部可以是傾斜的，或更一般而言，具有高度的變化。此類配置可在頂部的至少一部分包括反射器128時尤其有利，從而，紫外光可被向下重定向去往房間內的期望區(qū)域。附加地或替換地，此類配置對于防止來自設備的冷卻系統(tǒng)的排氣直接路由到其中布置有設備的房間的天花板可以是有利的。

在任何情形中，圖7的濾光片/反射器組件對于瞄準房間內的與設備相毗鄰的具體區(qū)域(諸如，具有高物體密度的區(qū)域)可以是有效的。在一些實施例中，濾光片/反射器組件可配置成移動。例如，在一些情形中，濾光片/反射器組件可配置成擺動。此類配置在給定目標區(qū)域比濾光片/反射器組件可有效發(fā)射紫外光的跨度(當其靜止時)大時可以是有利的。在其他實施例中，濾光片/反射器組件可配置成轉動。在任何情形中，在一些實施例中，濾光片/反射器組件的移動可基于其中布置有設備100的房間的特性。例如，如果房間內的相對高數(shù)目的物體在同一一般區(qū)域內，那么將濾光片/反射器組件定位成與該房間的其他區(qū)域相比、使光定向成去往該具體區(qū)域可以是有益的。

類似于參照圖1和2a-2c描述的設備20,設備100可包括或可配置成訪問列出一個或更多個房間的特性的數(shù)據(jù)庫，并且/或者設備100可包括用于采集和/或生成關于房間的特性的數(shù)據(jù)的系統(tǒng)70?？墒褂帽绢I域所知用于生成、采集和/或分析房間的特性的任何系統(tǒng)。示例包括劑量計、空間傳感器和/或照相識別系統(tǒng)。在一些情形中，設備100還可包括CPU 32來檢索數(shù)據(jù)、基于該數(shù)據(jù)確定濾光片/反射器組件的定位、向用戶接口34中繼所確定定位和/或根據(jù)所確定定位來向設備100中的用于自動地移動該濾光片/反射器組件的裝置發(fā)送命令。

附加于或替換以上所描述的特征，在一些實施例中，本文中描述的紫外線放電燈設備可包括多個放電燈。此類設備可包括針對每個放電燈的根據(jù)以上提供的對此類特征的描述的濾光片和/或反射系統(tǒng)。在一些實施例中，設備可包括具有配置成減弱從放電燈發(fā)射的可見光的大部分量的濾光片的放電燈并還包括在放電燈附近不布置濾光片的放電燈。此類配置對于取決于是否期望在設備的操作期間使可見光減弱來減弱對放電燈的使用可以是有利的。在一些情形中，多個放電燈中的一些或所有放電燈可由同一功率電路和/或同一觸發(fā)電路操作。在其他實施例中，設備可包括針對每個放電燈的不同功率電路和/或不同觸發(fā)電路。在任一情形中，本文中構想其中每個設備具有一個或更多個放電燈的這多個設備可配置成彼此通信地工作(即，構成系統(tǒng))以對房間消毒。圖8示出包括各自分別包括放電燈組件134和144和傳感器136和146的多個紫外線放電燈設備132和142的示例性系統(tǒng)130。設備132和142之間的虛線指示這些單元可配置成彼此通信并且/或者可經由中央處理單元連接。

在任何情形中，具有多個放電燈的設備或具有多個放電燈設備的系統(tǒng)可配置成在同一時間、在設備/系統(tǒng)的相繼操作或相異操作中操作放電燈。在同一時間操作多個放電燈可有利地減少需要處置一區(qū)域的時間。為了進一步最小化處置一區(qū)域的時間同時防止對一區(qū)域“過量投放”太多的UV光，設備/系統(tǒng)可配置成基于其中布置有設備/系統(tǒng)的房間的特性或基于從目標物體反射的紫外光、修改該設備/系統(tǒng)的操作參數(shù)，諸如每個燈的強度或脈沖頻率。這可涉及數(shù)據(jù)庫或一個或更多個傳感器，有時是每個放電燈單元的傳感器，以確定房間的特性或從目標物體反射的紫外光的量或強度。在一些情形中，設備/系統(tǒng)可包括超聲、紅外或其他傳感器以映射其中布置有設備/系統(tǒng)的房間，并且在一些實施例中可配置成關于每個放電燈單元地地圖映射房間。此類地圖映射變體還可包括在包括不一定是多設備系統(tǒng)的一部分的包括單個放電燈的設備中。

在任何情形中，設備/系統(tǒng)的CPU可配置成分析(諸)地圖并其確定必需的紫外光劑量以達到所有目標表面上的最小劑量。另外，多燈設備/系統(tǒng)的CPU可配置成向每個放電燈分配功率以優(yōu)化房間的總處置時間。以上還可利用來自用來測量反射紫外光的傳感器的反饋來實現(xiàn)。來自所有傳感器的信息(例如，所發(fā)射紫外光、房間大小/形狀、和所有燈泡單元的定位)可饋送到確定每個燈泡單元的總操作時間的公式或算法。這將允許功率轉移到優(yōu)化一區(qū)域中的去污速度的單元。例如，在系統(tǒng)配置中，兩個單元可用來處置一區(qū)域或甚至不同房間的不同區(qū)段。當傳感器檢測出這些區(qū)段之一已接收到所需紫外光劑量，那么相對應單元將關斷。在一些實施例中，剩余單元可接收轉移的功率并能以更高頻脈沖(若期望)。該傳感器系統(tǒng)可足夠精密以檢測出在不同區(qū)段之間是否存在共有空間并進一步指定第二單元處置該共有空間并因此將該區(qū)域從第一單元的劑量演算中排除。附加地，操作時間可通過變更每個燈泡單元的所發(fā)射紫外光的方向性(通過反射器高度、朝向和/或形狀的改變)來優(yōu)化。

在一些實施例中，設備或系統(tǒng)可被創(chuàng)建成在房間內移動以提供紫外光散布的多個焦點。在此類情形中，通過房間感測獲得(經由超聲或紅外傳感器或反射的紫外光)的信息可用來引導設備/系統(tǒng)在房間中的移動。設備/系統(tǒng)可使用機動輪來移動并具有傳感器來機動圍繞障礙物。設備/系統(tǒng)可通過在其移動時實時感測、在其移動時地圖映射每個表面上的收到劑量來“了解”一房間。設備/系統(tǒng)還可在設備/系統(tǒng)地圖映射該房間的同時由用戶手動地在房間各處推動，隨后設備/系統(tǒng)的CPU可分析地圖并確定設備/系統(tǒng)的操作的每個位置的正確劑量。該地圖和劑量要求可用來變更移動設備/系統(tǒng)將經過不同表面的速度。

轉向圖9-11，提供了用于控制殺菌設備的操作的系統(tǒng)，具體而言，確定殺菌設備的操作參數(shù)和消毒一覽表的系統(tǒng)。具體而言，圖9描繪包括一個或多個消毒源和具有用于確定這一個或多個消毒源的操作參數(shù)和消毒一覽表的處理器可執(zhí)行程序指令的處理子系統(tǒng)的系統(tǒng)。另外，圖10描繪用于概述可配置成執(zhí)行圖9所描述的系統(tǒng)的處理器可執(zhí)行程序指令的另一方法的流程圖。此外，圖11描繪用于概述可配置成執(zhí)行圖9所描述的系統(tǒng)的處理器可執(zhí)行程序指令的另一方法的流程圖。一般而言，參照圖9-11描述的系統(tǒng)和過程可適用于包括消毒源的任何系統(tǒng)。本文中所使用的術語“消毒源”指用來生成和散布殺菌劑的一個或更多個組件的集合，并且若適用的話，包括用來執(zhí)行殺菌劑的生成或散布的任何附加組件。在一些實施例中，設備或裝置可包括用于生成殺菌劑的單個組件集合。在此類情形中，與生成殺菌劑相關聯(lián)的組件可稱為消毒源，或替換地，該設備或裝置作為整體可稱為消毒源。在其他實施例中，設備或裝置可包括多給消毒源(即，用于生成具有一個或更多個消毒劑的多個源的多個組件集合)。

在任何情形中，本文中使用的術語“消毒劑”指用于減活化或殺滅微生物、尤其是攜帶病原和/或產生微生物(a.k.a、細菌)的病原的媒介。本文所使用的術語“殺滅”意指造成機體的死亡。相反，本文所使用的術語“減活化”已知使機體不能復制而不是殺滅。由此，配置成減活化微生物的殺菌劑指使微生物不能復制但讓機體存活的媒介。一般而言，考慮用于圖9-11中描述的系統(tǒng)和過程的(諸)消毒源可配置成生成液體、蒸汽、氣體、等離子體、紫外光、和/或高強度窄頻譜(HINS)光形式的殺菌劑。由此，考慮用于圖9-11中公開的系統(tǒng)或過程的(諸)消毒源可包括但不一定限于以上參照圖1-8描述的放電燈設備.可配置成散布液體、蒸汽、氣體或等離子體殺菌劑的消毒源示例包括但不一定限于液體噴灑器、噴霧器、等離子體炬和包括濕霧和干霧系統(tǒng)的散霧系統(tǒng)。如本文中使用的，術語“霧”指氣體中的液體的微小球形懸浮。如本文中使用的，殺菌霧劃分為液體殺菌劑。

在一些實施例中，液體、蒸汽、氣體或等離子體殺菌劑可藉由使用其的方式來賦予其減活化或殺滅功能性。例如，由于采用其的溫度，煮沸水、蒸氣和加熱空氣通常是有效的滅菌劑。而且，一些等離子體殺菌劑的殺菌有效性主要是因為組成等離子體的帶電粒子的存在性和活性而不是這些帶電粒子的分子組成。如本文所使用的，短語“分子配置成”指賦予該短語之后聲明的功能的物質的元素組成(即，組成物質的原子的數(shù)目和類型)。在一些情形中，液體、蒸汽、氣體或等離子體殺菌劑的減活化和/或殺滅微生物的功能性可歸功于構成該殺菌劑的元素，由此，此類殺菌劑可稱為分子配置成減活化和/或殺滅微生物。

分子配置成殺滅微生物的氣體殺菌劑示例是臭氧。分子配置成減活化或殺滅微生物的等離子體殺菌劑示例是采用或生成活性氧的等離子體殺菌劑。分子配置成減活化或殺滅微生物的液體和蒸汽殺菌劑示例包括具有主要消毒劑(諸如但不限于漂白成分、過氧化氫、氯、酒精、季銨化合物或臭氧)的液體和蒸汽消毒劑。在此類情形中的任何者中，液體和蒸汽殺菌劑可以是水或非水的。要注意，考慮用于圖9-11中公開的系統(tǒng)和過程的(諸)消毒源可包括配置成藉由其中殺菌劑由殺菌劑的分子配置使用的方式來賦予減活化或殺滅功能性的消毒源。

轉向圖9，系統(tǒng)150示為包括(諸)消毒源160和任選的消毒源162和164。具體而言，圈界消毒源162和164的虛線標示這些消毒源是系統(tǒng)150的任選特征。一般而言，系統(tǒng)150可包括任何數(shù)目的消毒源，包括僅一個消毒源或任何多個消毒源。而且，系統(tǒng)150可包括包含一個或更多個消毒源的任何數(shù)目的設備或裝置。具體而言，在一些情形中，系統(tǒng)150可包括具有一個或更多個消毒源的單個消毒設備或裝置。在其他實施例中，系統(tǒng)150可包括圖9所示的每者具有一個或更多個消毒源的多個消毒設備或裝置。

在任何情形中，系統(tǒng)150內的(諸)消毒源可固定地布置在房間內或可以是便攜式的。在其中系統(tǒng)150包括多個消毒源的實施例中，少于所有消毒源的消毒源可固定地布置在房間內，并且其他消毒源可以是便攜式的。在其中系統(tǒng)150包括多個消毒源的另外其他實施例中，所有消毒源的消毒源可固定地布置在房間內，或者所有消毒源可以是便攜式的。而且，如上所述，考慮用于圖9-11中描述的系統(tǒng)和過程的(諸)消毒源可配置成生成液體、蒸汽、氣體、等離子體、紫外光、和/或高強度窄頻譜(HINS)光形式的殺菌劑。要注意，在其中系統(tǒng)150包括多個消毒源的實施例中，(諸)消毒源可以是配置成生成液體、蒸汽、氣體、等離子體、紫外光、和/或高強度窄頻譜(HINS)光的形式的殺菌劑的源的任何組合或者可排他性地包括同一類型的消毒源。

如以下更詳細闡述的，圖10和11中概括了用于基于布置有系統(tǒng)150的房間的特性來確定消毒源160和任選的消毒源162和164的操作參數(shù)和消毒一覽表的過程。因此,系統(tǒng)150的(諸)消毒源以及包括(諸)消毒源的(諸)設備和裝置可針對房間消毒具體配置。具體而言，系統(tǒng)150的(諸)消毒源以及包括(諸)消毒源的(諸)設備和裝置可配置成以廣闊方式分布殺菌劑以處置房間。如本文中使用的，術語“房間消毒”指對有界區(qū)域的清潔，其適合于人類進行以減活化、消滅或防止該區(qū)域中的攜帶病原的微生物的生長。要注意，本文中描述的房間消毒設備和裝置、尤其是考慮用于參照圖9-11描述的系統(tǒng)和過程的房間消毒設備和裝置可包括各種配置，包括基于地板、基于墻壁和基于天花板的配置。

進一步如圖9所示，系統(tǒng)150包括具有處理器156和可由處理器156執(zhí)行的程序指令154的處理子系統(tǒng)152。如以下參照圖10和11更詳細闡述的，程序指令154可配置成確定包括系統(tǒng)150的消毒源(例如，消毒源160和消毒源162和164(若適用))的操作參數(shù)和/或消毒一覽表。本文中使用的術語“程序指令”可一般指程序內的配置成執(zhí)行特定功能(諸如接收輸入、記錄信號接收、確定何時和/或是否允許設備啟動操作、和發(fā)送信號以啟動和/或結束設備的操作)的命令。程序指令可以任何各種方式實現(xiàn)，尤其包括基于規(guī)程的技術、基于組件的技術、和/或面相對象的技術。例如，程序指令可使用如所期望的ActiveX控制、C++對象、JavaBeans、Microsoft基礎類(“MFC”)或其他技術或方法體系來實現(xiàn)。實現(xiàn)本文中描述的過程的程序指令可在諸如電線、電纜或無線傳輸鏈路之類的承載介質上傳送。

在一些實施例中，處理子系統(tǒng)152可以是連接到系統(tǒng)150的(諸)消毒源中的每個消毒源的單個處理單元，因此可認為是中央處理單元，尤其當系統(tǒng)150包括多個消毒源時。在此類情形中，在其他實施例中，處理子系統(tǒng)152可以是與圖9所示的包括系統(tǒng)150(諸)消毒源的(諸)設備或裝置分立實體。在另外其他情形中，處理子系統(tǒng)152可被安置在包括系統(tǒng)150的(諸)消毒源的設備或裝置之內。在另外其他實施例中，處理子系統(tǒng)152可包括多個處理器，其每個處理器被安置在包括系統(tǒng)150的(諸)消毒源的不同設備或裝置上。在此類情形中，處理子系統(tǒng)152可至少部分地分布在包括多個消毒源的設備或裝置之中。在一些實施例中，包括系統(tǒng)150的(諸)消毒源的每個設備或裝置可包括處理器和程序指令154。

轉向圖10，提供了概括用于基于其中布置有一個或更多個消毒源的房間的特性來確定殺菌系統(tǒng)的一個或更多個消毒源的一個或更多個操作參數(shù)的過程的流程圖。如圖10的框170所示，該方法包括接收關于其中布置有一個或更多個消毒源的房間的特性的數(shù)據(jù)。此類過程可包括如框172所標示的訪問包括該數(shù)據(jù)的數(shù)據(jù)庫和/或如框174所標示的從房間內的生成該數(shù)據(jù)的一個或更多個傳感器接收數(shù)據(jù)。在后者情形中，在一些實施例中，這一個或更多個傳感器可獨立于殺菌系統(tǒng)的(諸)消毒源和處理子系統(tǒng)。在其他情形中，傳感器中的一個或更多個傳感器可安置在(諸)消毒源中的一個或更多個消毒源內或在殺菌系統(tǒng)的處理子系統(tǒng)(若其與(諸)消毒源分立)內。

一般而言，本文中使用的短語“房間的特性”指房間的物理屬性以及非物理屬性。房間的非物理屬性包括但不一定限于用來指代房間的標識符(例如，房間號和/或房間名)和關于房間的占用信息(例如，先前占用房間的病人或一覽表成要占用房間的病人的感染信息)。房間的物理屬性包括但不一定限于房間的大小和/或體積和/或房間內的表面和/或物體的數(shù)目、大小、距離、位置、反射性和/或標識或優(yōu)先性。在一些情形中，房間的物理屬性可以是一個或更多個病理機構的標識(即，經由采樣分析的檢測)，有時還可以使房間中、房間的特定區(qū)域中、或房間中的特定表面上的此類機構的數(shù)目或集中。本文中使用的短語“消毒源的操作參數(shù)”指可影響消毒源的操作的任何參數(shù)，包括但不限于消毒源的運行時間、消毒源的定位、包括消毒源的組件的朝向、消毒源的殺菌劑量投放參數(shù)、和/或提供給消毒源的功率。

進一步如圖10的框180所示，該方法還包括基于所接收到的關于房間的特性的數(shù)據(jù)來確定一個或更多個消毒源的一個或更多個單獨操作參數(shù)。一般而言，存在其中進行此類過程的一定數(shù)目的方式。具體而言，在一些實施例中，該過程可涉及訪問包括房間屬性列表和一個或更多個消毒源的相對應的(諸)預定操作參數(shù)的數(shù)據(jù)庫。例如，房間的非物理屬性(諸如房間號、房間名或關于該房間的占用信息)可被輸入到殺菌系統(tǒng)的用戶接口中，并且此類數(shù)據(jù)條目可發(fā)起對前述數(shù)據(jù)庫的訪問以確定一個或更多個消毒源的(諸)操作參數(shù)。

具體而言，預指派房間標識符(諸如“108”或“手術室”)可被輸入到用戶接口中(諸如通過鍵輸入或掃描條形碼)，并且布置在此類房間中的一個或更多個消毒源的一個或更多個操作參數(shù)可從概括此類相關信息的數(shù)據(jù)庫確定。此類實施例可特別適用于包括一個或更多個便攜式消毒設備并由此在多個不同房間內使用的殺菌系統(tǒng)。另一示例包括將關于房間的占用信息(例如，先前占用房間的病人或一覽表成要占用該房間的病人的感染信息)輸入到用戶接口中，一個或更多個消毒源的一個或更多個操作參數(shù)可從此類信息確定。此類實施例在先前占用房間的病人被診斷為孢子感染和/或針對其治療時或在即將進入的病人是已知具有低免疫系統(tǒng)(諸如人類免疫缺陷病毒(HIV))時尤其適用。在此類情形中，為一個或更多個消毒源確定的操作參數(shù)可以是基于病人的疾痛的。

在一些情形中，前述過程可通過考慮布置在房間中的消毒源或設備的數(shù)目和/或類型來增加。具體而言，除了將房間的非物理屬性(諸如房間號、房間名或關于房間的占用信息)輸入到用戶接口之外，布置在房間中的消毒源或設備的數(shù)目和/或類型也可輸入到用戶接口中以確定一個或更多個消毒源的一個或更多個操作參數(shù)。在此類情形中，訪問此類條目的數(shù)據(jù)庫可包括關于可適用于所列出的每個房間屬性和每個消毒源的相對應的不同的一個或更多個操作參數(shù)集合的消毒源的數(shù)目和/或類型的(諸)附加域。在一些情形中，特定消毒源可基于房間的特性來選擇使用。要注意，前述實施例不僅適用于排他性地具有一個或更多個便攜式消毒設備的殺菌系統(tǒng)，還適用于具有與固定地安置在房間內的消毒源相結合的一個或更多個便攜式消毒設備的殺菌系統(tǒng)。在此類實施例的后者中，在一些情形中，在數(shù)據(jù)庫中列出的操作參數(shù)可基于房間中的固定安置的消毒源的已知定位來預設。

要注意，訪問數(shù)據(jù)庫以確定一個或更多個消毒源的一個或更多個操作參數(shù)不限于房間的非物理屬性(諸如房間標識符或房間的占用信息)。具體而言，數(shù)據(jù)庫可附加地或替換地包括一個或更多個物理屬性(諸如房間的尺寸和/或體積和/或房間內的表面和/物體的數(shù)目、尺寸、距離、位置、反射性和/或標識或優(yōu)先性)的值或范圍的列表和可布置在房間中的一個或更多個消毒源的相對應的(諸)預定操作參數(shù)。此類實施例還可通過考慮布置在房間中的消毒源或設備的數(shù)目和/或類型來增加以確定(諸)消毒源的一個或更多個操作參數(shù)。

在任何情況下，物理屬性可經由用戶接口輸入或者可經由房間內的一個或更多個傳感器獲得?？蛇m用于前述情形的實施例的示例是當房間尺寸已獲得并且可訪問數(shù)據(jù)庫包括不同運行時間、不同殺菌劑投放速率、和/或要向用于不同房間尺寸或房間尺寸范圍的消毒源提供的不同功率水平時。具體而言，相對大的房間對比較小的房間而言將很有可能需要更長和/或更高效的殺菌劑暴露，因此，構想基于房間的尺寸來設定運行時間、殺菌劑投放速率、和/或要向消毒源提供的功率水平將是有利的。房間特性與消毒源的操作參數(shù)的其他相關可被構想用于數(shù)據(jù)庫，由此，前述示例不被解釋為限制本文中提供的公開的范圍。

其中基于房間的特性來確定一個或更多個消毒源的一個或更多個操作參數(shù)的替換性方式是采用對此類變量進行相關的算法。在一些實施例中，該算法單單基于房間的物理特性來確定一個或更多個消毒源的一個或更多個操作參數(shù)。在其他情形中，該算法可基于房間的物理和非物理特性的組合來確定一個或更多個消毒源的一個或更多個操作參數(shù)。在任何實施例中，特定消毒源可基于房間的特性、尤其經由該算法的使用來選擇使用，附加地或替換地確定一個或更多個消毒源的操作參數(shù)。如對于上述的數(shù)據(jù)庫實施例，在一些實施例中，算法可基于除房間的特性之外的布置在該房間中的消毒設備的數(shù)目和/或類型。盡管不一定如此限制，但在多個房間特性影響一個或更多個消毒源的(諸)操作參數(shù)的確定時采用基于算法的過程可以是有利的。附加地或替換地，在多個操作參數(shù)要被確定和/或在要為多個消毒源確定單獨(諸)操作參數(shù)時可以是有利的。具體而言，相關變量的范圍隨著更多變量參與作用而變得更復雜，由此，在此類情形中算法可比數(shù)據(jù)庫更合適。

在一些情形中，在圖10的框170處接收到的房間特性數(shù)據(jù)可用來如框178和178所標示的標識房間內的位置、區(qū)域、物體和/或表面。在此類情形中，框180中標示的確定一個或更多個消毒源的單獨操作參數(shù)的過程可基于框176或框178(即，經由數(shù)據(jù)庫或算法)的所標識位置、區(qū)域、物體或表面。如框176中所示，在一些實施例中，在框170處接收到的房間特性數(shù)據(jù)可用來標識房間內的位置、區(qū)域、物體和/或表面，并且優(yōu)先級排名(例如，數(shù)字或字母)可根據(jù)優(yōu)先級排名與所標識位置、區(qū)域、物體和/或表面的預定關聯(lián)來指派給所標識位置、區(qū)域、物體和/或表面中的每者(諸如經由數(shù)據(jù)庫或算法)。在一些情形中，表面中的至少一些表面的優(yōu)先級排名可基于自其最一次消毒開始的時間量。要注意，框176中的優(yōu)先級排名的指派是其中將優(yōu)先性納入到房間內的位置、區(qū)域、物體和/或表面的一種方式。替換地，優(yōu)先級排名可預指派給位置、區(qū)域、物體和/或表面。在任何情形中，優(yōu)先級排名可包括標示房間內的位置、區(qū)域、物體和表面之中的級別重要性的任何類型的字符，包括但不限于數(shù)字、字母和諸如“高”和“低”之類的詞匯。

如圖10所示，在一些實施例中，在框176中所指派的優(yōu)先級字符可用來標識房間內的目標位置、區(qū)域、物體和/或表面，如由框176和178之間的箭頭所標示。然而，要注意，圈界狂176和178的虛線標示這些過程是任選的。由此，在一些實施例中，框176可從過程省略并且在框170處接收到的房間特性數(shù)據(jù)可直接在狂178處用來標識目標位置、區(qū)域、物體和/或表面(諸如經由數(shù)據(jù)庫或算法)。在其他情形中，框178可省略并且在框176中標識的位置、區(qū)域、物體和/或表面可用來在框180處確定一個或更多個單獨操作參數(shù)。在另外其他實施例中，兩個框176和178皆可從該方法省略，因此，在一些情形中，圖10中概括的過程可直接從框170繼續(xù)去往框180。要注意，在其中房間內的目標位置、區(qū)域、物體和/或表面被標識的情形中，框180的過程確定每個消毒源專門針對其(諸)目標位置、區(qū)域、物體和/或表面的一個或更多個操作參數(shù)。

框178處的標識目標位置、區(qū)域、物體和/或表面的過程可以各種方式實現(xiàn)，并且一般可取決于用來分析此類目標的傳感器類型。例如，在一些情形中，目標可通過檢測與每個消毒源的最遠距離(即，使用距離傳感器)來標識，即，設備之間的到物體的最遠距離或與消毒源的最遠距離(若在周圍無其他設備被檢測出)。在其他實施例中，目標可通過檢測與每個消毒源的最短距離或檢測在與每個消毒源的指定距離處的表面來標識。在替換性情形中，傳感器可用來估計房間內的物體和/或表面的尺寸并且從此類數(shù)據(jù)該傳感器和/或殺菌系統(tǒng)的處理子系統(tǒng)可能夠查實該物體和/或表面是什么(諸如，床、床頭柜或醫(yī)院房間中的四極)。

在此類實施例中的一些實施例中，目標可基于所查實物體或表面來選擇。例如，在一些情形中，目標區(qū)域可基于區(qū)域中的相對高數(shù)目的物體或表面的來標識。在其他實施例中，目標區(qū)域可基于一個或更多個高優(yōu)先級物體和/或表面在區(qū)域中來標識。類似地，目標位置、物體或表面可基于房間內的位置、物體和/或表面的優(yōu)先性來標識。在一些情形中，標識目標位置、區(qū)域、物體或表面可包括標識分別布置在每個消毒源周圍的多個位置、區(qū)域、物體或表面的子集并將每個子集內的位置、區(qū)域、物體或表面指定為目標。該指定過程可基于一定數(shù)目的不同資格標準，包括但不限于位置、區(qū)域、物體或表面的優(yōu)先性和/或與每個消毒源的距離。

存在其中設計數(shù)據(jù)庫和/或算法的一定數(shù)目的方式以確定一個或更多個消毒源的(諸)操作參數(shù)。一些示例方式在圖10中的框184和186中標示。具體而言，框184指明制定一個或更多個單獨操作參數(shù)以與房間的地板、墻和天花板的表面相比、主要消毒房間內的家具和/或裝備的表面。在此類情形中的一些情形中，該過程還可包括確定一個或更多個次要操作參數(shù)以在家具和/或裝備以被消毒長達預設時間量之后主要消毒房間的地板、墻和/或天花板。一般而言，房間內的家具和裝備與房間的地板、墻和天花板相比而言具有更高的具有細菌的可能性，因此，制定主要消毒那些表面的消毒過程可以是有利的。具體而言，對消毒一覽表調用此類優(yōu)先權可引起更短和/或更高效的消毒過程或者至少增大在消毒過程早早終止的情況下充分的消毒量已發(fā)生的似然性。

如上所述，與房間的地板相距大約2英尺和大約4英尺之間的距離的區(qū)域被認為是房間的“高觸摸”區(qū)域，因為頻繁使用的物體通常放置在此類區(qū)域中。由于此類區(qū)域被認為是高觸摸區(qū)，所以通常認為是具有與細菌接觸的最高可能性的區(qū)域，并且一些研究指明，高觸摸區(qū)可以是具有最高細菌濃度的區(qū)域。出于此類原因，制定一個或更多個單獨的操作參數(shù)以主要消毒位于房間的與該房間的地板相距大約2英尺和大約4英尺之間的距離的區(qū)域中的家具和/或裝備的表面可以是有利的。附加地或替換地，在不同家具和/或裝備之中或者甚至在家具和/或裝備的不同組件之中制定一個或更多個單獨的操作參數(shù)可以是有利的。例如，與櫥柜的垂直面相比，可對櫥柜把手保證殺菌劑的更高和/或更長劑量投放。家具、裝備和組件之中的若干種其他優(yōu)先權也可被考慮，以取決于正被處置的房間的消毒需求來制定消毒源操作參數(shù)。

如圖10中的框186所示，在一些實施例中，框180的過程可包括制定一個或更多個單獨的操作參數(shù)以主要消毒具有最高優(yōu)先級排名的表面，該最高優(yōu)先級排名可已參照框176指派或者可已預指派給房間內的位置、區(qū)域、物體和/或表面。與框184的過程相似，框186的過程對消毒一覽表調用此類優(yōu)先權可引起更短和/或更高效的消毒過程或者至少增大在消毒過程早早終止的情況下充分的消毒量已發(fā)生的似然性。在此類情形中的一些情形中，該方法可包括確定一個或更多個次要操作參數(shù)以在具有最高優(yōu)先級排名的表面被消毒長達預設時間量之后主要消毒具有較低優(yōu)先級排名的表面。框184和186在圖10中用虛線勾勒，標示其是任選的。具體而言，許多其他方式可用來基于房間特性數(shù)據(jù)來制定一個或更多個消毒源的一個或更多個操作參數(shù)，因此，本文中提供的公開的范圍不應一定限制于圖10的描繪。

進一步如圖10所示，該過程可任選地包括用于確定一個或更多個消毒源的單獨操作參數(shù)一覽表的框182。在此類上下文中，術語“一覽表”指要為一個或更多個消毒源相繼執(zhí)行的一系列操作參數(shù)指定。如參照用于執(zhí)行框180的過程的選項所討論的，確定操作參數(shù)一覽表可基于主要消毒房間中的家具和裝備并且/或者可基于房間內的位置、區(qū)域、物體和/或表面的預指派優(yōu)先權。其他方式也可用來制定該一覽表。

無論其中確定一個或更多個消毒源的(諸)操作參數(shù)的方式如何，在一些實施例中，圖10的過程包括用于根據(jù)這一個或更多個單獨的操作參數(shù)來向一個或更多個消毒源發(fā)送信息的框188。該信息可包括(諸)消毒源的(諸)運行時間、用于調節(jié)來自(諸)消毒源的殺菌劑投放速率的命令、和/或操作(諸)消毒源的功率水平量。在另外其他實施例中，(諸)具體功率量可根據(jù)參照框180進行的確定過程來向(諸)消毒源發(fā)送。在一些情形中，發(fā)送給(諸)消毒源的該信息可以是將該消毒源放置在房間內的定位和/或包括(諸)消毒源的(諸)組件的(諸)朝向。在此類情形中，包括(諸)消毒源的(諸)消毒設備可配置成移動并且/或者它們可能夠移動其組件中的一個或更多個組件，從而它們可符合所接收到的信息。替換地，在框180處確定的一個或更多個操作參數(shù)可在用戶接口上顯示并且殺菌系統(tǒng)的用戶可調用這一個或更多個操作參數(shù)。

圖10中概括的方法的考慮具有用于房間消毒的特定應用的實施例在以下詳細闡述。盡管此類實施例被詳細描述并且為其考慮進一步的增進，但是對此類實施例的具體公開不應解釋為限制以上關于圖10所闡述的公開的范圍。

考慮具有用于房間消毒的特定應用的系統(tǒng)包括消毒源以及處理子系統(tǒng)，該處理子系統(tǒng)包含處理器和能由該處理器執(zhí)行以接收關于其中布置消毒源的房間的物理屬性數(shù)據(jù)的程序指令。此類程序指令可用于訪問包括數(shù)據(jù)的數(shù)據(jù)庫和/或從該系統(tǒng)的生成該數(shù)據(jù)的一個或更多個傳感器接收數(shù)據(jù)。在任一情形中，該處理子系統(tǒng)包括程序指令能由處理器執(zhí)行以基于所接收到的數(shù)據(jù)確定房間內的放置消毒源的位置和/或對包括該消毒源的組件的定向的程序指令。在一些情形中，這些程序指令進一步用于基于該數(shù)據(jù)來確定房間內的用于定位消毒源的位置的一覽表和/或包括消毒源的一個或更多個組件的朝向的一覽表。在一些實施例中，消毒源可以是包括該系統(tǒng)的多個消毒源之一。在此類情形中，該系統(tǒng)的程序指令可由處理器執(zhí)行以確定房間內的用于定位著多個消毒源中的每個消毒源的位置和/或確定著多個消毒源中的每個消毒源的一個或更多個組件的朝向。

前述系統(tǒng)中的(諸)消毒源可包括(諸)液體、氣體、蒸汽、等離子體、紫外光、和/或高強度窄頻譜(HINS)光消毒源。另外，(諸)消毒源的可被調節(jié)的一個或更多個組件可包括(諸0消毒源的任何可移動組件?；诠獾南驹吹目梢苿咏M件示例可包括但不限于包括該消毒源的濾光片或包括該消毒源的反射器系統(tǒng)的任何組件，諸如為圖1-8中示出的紫外線放電燈設備描述的組件。在一些實施例中，消毒源可配置成相對于包括(諸)消毒源的設備或裝置移動。例如，可移動消毒源的可能配置的示例可與具有180度移動能力或甚至最高達幾乎360度移動能力的可移動聚光燈相似。例如，可考慮其他可移動消毒源配置。例如，在一些情形中消毒源可配置成沿著軌道移動。在其他實施例中，包括消毒源的整個設備或裝置可配置成移動、尤其移動到房間內的不同位置。

在任何情形中，在其中消毒源配置成自身移動和/或移動其組件中的一個或更多個組件的實施例中，處理子系統(tǒng)可還包括可由處理器執(zhí)行以向消毒源發(fā)送用于使其自身定位到所確定位置和/或將組件布置在所確定朝向上的信息的程序指令。在另外其他實施例中，所確定位置和/或所確定組件朝向可在用戶接口上顯示并且殺菌系統(tǒng)的用戶可調用這一個或更多個操作參數(shù)。在任何情形中，認為是尤其適于簽署方法的消毒源是具有可重定位反射器的紫外光消毒源。然而，此類公開不應以任何方式解釋成必然限制本文中描述的系統(tǒng)和/或方法的范圍。在任何情形中，前述系統(tǒng)可具有以上參照圖9和10所示的配置中的任何配置。由此，該系統(tǒng)不一定限于接收關于房間的物理屬性的數(shù)據(jù)。具體而言，該系統(tǒng)可配置成還接收房間的非物理屬性。而且，該系統(tǒng)可包括用于基于房間的特性來確定消毒源的任何操作參數(shù)的程序指令。具體而言，前述系統(tǒng)不一定限于確定房間內的定位消毒源的位置和/或包括該消毒源的組件的朝向。

考慮具有用于房間消毒的特定應用的另一系統(tǒng)包括多個消毒源和包括一個或更多個處理器的處理子系統(tǒng)和能由這一個或更多個處理器執(zhí)行以接收關于其中布置有這多個消毒源的房間的特性的數(shù)據(jù)的程序指令。另外，這些程序指令用于基于該數(shù)據(jù)來確定這多個消毒源的一個或更多個單獨的操作參數(shù)。具體而言，這一個或更多個單獨的操作參數(shù)是專門針對這些消毒源中的每個消毒源的。這一個或更多個單獨的操作參數(shù)可包括消毒源的運行時間、房間內的消毒源的定位或速度、包括消毒源的組件的朝向、來自消毒源的殺菌劑投放速率和/或對消毒源提供的功率。在一些情形中，程序指令還用于基于數(shù)據(jù)來確定多個消毒源中的每個消毒源的基于房間的特性的單獨操作參數(shù)一覽表。一般而言，這多個消毒源可包括(諸)液體、氣體、蒸汽、等離子體、紫外光、和/或高強度窄頻譜(HINS)光消毒源。這多個消毒源可包括同一類型的消毒源或者可包括其中其至少一些消毒源與彼此不同的消毒源的組合。而且，前述系統(tǒng)可具有以上參照圖9和10所示的配置中的任何配置。

認為是尤其適于前述系統(tǒng)的殺菌系統(tǒng)是具有多個光消毒源另外和用于向這些光消毒源中的每個光消毒源分配由處理子系統(tǒng)確定的單獨的功率要求的功率分配裝置的光消毒系統(tǒng)。替換功率分配裝置地，消毒源中的每個消毒源可包括功率控制電路。在此類情形中，處理子系統(tǒng)可包括用于向功率控制電路發(fā)送獨立信號以設定用來為每個消毒源生成光的功率量的處理器可執(zhí)行程序指令。在任一情形中，不同的光消毒源可在不同設備中分配、可安置在同一設備上、或可以使其組合。盡管前述光消毒系統(tǒng)認為是尤其適于其中使用多個消毒源的房間消毒，但是此類公開不應以任何方式解釋成必然限制本文描述的系統(tǒng)和/或方法的范圍。具體而言，聲明其他類型的殺菌消毒源可在類似系統(tǒng)中使用和/或系統(tǒng)可配置成具有與功率不同的變化的操作參數(shù)。

如以下參照圖11更詳細闡述的，在一些實施例中，系統(tǒng)可配置成使消毒源彼此協(xié)作地工作，尤其關于消毒源目標要消毒的位置、區(qū)域、物體和/或表面。在一些情形中，協(xié)作效力可涉及不同設備彼此通信。具體而言，包括安置在不同設備上的消毒源的系統(tǒng)可配置成使這些設備中的至少一些設備彼此通信，尤其關于其相對于彼此的存在性/位置和/或其(諸)消毒源目標要消毒的位置、區(qū)域、物體或表面。具體而言，在一些情形中，這些設備可配置成經由感測系統(tǒng)來檢測彼此，諸如但不限于超聲檢測或紅外檢測。在其他實施例中，至少一個設備可包括處理器和可由處理器執(zhí)行的用于發(fā)送關于其位置或其消毒源的目標位置、區(qū)域、物體或表面的信息的程序指令。由此，本文中描述的系統(tǒng)的殺菌設備可配置成知曉或能夠查實房間中的其他殺菌設備的存在性或位置。

在其中設備配置成發(fā)送其消毒源的目標位置、區(qū)域、物體或表面的信息的情形中另一設備可包括處理器和用于接收該信息并將接收到信息與其消毒源的目標位置、區(qū)域、物體或表面作比較的處理器可執(zhí)行程序指令。然而，附加地或替換地，協(xié)作效力可涉及在中央處理單元處比較關于多個消毒源的目標位置、區(qū)域、物體或表面的數(shù)據(jù)。在任一場景中，如以下參照圖11更詳細描述的，系統(tǒng)可配置成一旦檢測出兩個或更多個位置、物體或表面在彼此的預定距離之內或一旦檢測出兩個或更多個區(qū)域交疊就執(zhí)行一個或更多個動作。另外，系統(tǒng)可配置成記錄由設備在消毒過程的行進期間已消毒的區(qū)域，從而那些區(qū)域被取消優(yōu)先權或不考慮用于消毒過程的后續(xù)階段。

轉向圖11，示出了概括可配置成執(zhí)行圖9所描述的系統(tǒng)的處理器可執(zhí)行程序指令的另一方法的流程圖。具體而言，圖11概括了一種用于協(xié)作關于多個消毒源的目標位置、區(qū)域、物體或表面的信息并一旦檢測出兩個或更多個位置、物體或表面在與彼此相距預定距離之內或一旦檢測出兩個或更多個區(qū)域交疊就執(zhí)行對目標位置、區(qū)域、物體或表面的改變和/或對消毒源中的一個或更多個消毒源的操作參數(shù)的改變的方法。如圖11中的框190和192所示，該方法包括為多個消毒源中的每個消毒源辨別其中布置有著多個消毒源的房間的目標位置、區(qū)域、物體或表面。要注意，本文中使用的術語“辨別”包括參照圖10的框178描述的基于房間特性數(shù)據(jù)來確定/標識目標位置、區(qū)域、物體或表面，但也包括接收目標位置、區(qū)域、物體或表面，諸如通過用戶輸入、條形碼掃描或訪問數(shù)據(jù)庫。在任何情形中，在框194和196處，對兩個或更更多個目標位置、物體或表面是否在與彼此相距預定距離之內或兩個或更多個目標區(qū)域是否交疊進行確定。預定距離可具有任何預定值，并且在一些情形中，可以是指示目標位置、物體和表面是否相同的閾值。

在其中框194或框196處的確定是“否”的情形中，該方法前往框198以繼續(xù)基于為消毒源標識的目標位置、區(qū)域、物體或表面來為消毒過程準備系統(tǒng)。在一些情形中，框198處的過程可包括諸如參照圖10描述的確定消毒源中的每個消毒源的一個或更多個單獨的操作參數(shù)。然而，在替換性實施例中，此類過程可在框194和196之前已被進行。在一些情形中，框198處的過程可包括諸如參照圖10中的框188描述的根據(jù)為消毒源中的每個消毒源確定的單獨操作參數(shù)來向消毒源發(fā)送信息。在替換性實施例中，框198的過程可包括一個或更多個操作參數(shù)在用戶接口上顯示并且殺菌系統(tǒng)的用戶可調用這一個或更多個操作參數(shù)。

在其中框194或框196處的確定是“是”的情形中，該方法繼續(xù)到框200以執(zhí)行一個或更多個校正動作，尤其是對多個消毒源中的至少一個消毒源的計劃消毒過程的改變。雖然給出框202和204以提供可進行的校正動作示例，但其他校正動作可被考慮。要注意，框202和204皆可為框200執(zhí)行或者框202和204之一可為框200執(zhí)行。如框202中所示，一個校正動作可以是對應于兩個或更多個所檢測出的目標位置、區(qū)域、物體和/或表面來為消毒源中的至少一個消毒源標識不同的目標位置、區(qū)域、物體和/或表面。另一校正動作可以是如框204中所標示的對應于兩個或更多個檢測出的目標位置、區(qū)域、物體和/或表面來變更消毒源中的至少一個消毒源的操作參數(shù)。在此類情形中，所變更的操作參數(shù)可以是消毒源的運行時間、房間內的消毒源的定位、包括消毒源的組件的朝向、來自消毒源的殺菌劑投放速率和/或對消毒源提供的功率。在一些情形中，可在框200處的執(zhí)行一個或更多個校正動作之前將與兩個或更多個檢測出的位置、區(qū)域、物體和/或表面相對應的為消毒源預定的操作參數(shù)進行比較。具體而言，在其中框194或框196處的確定是“是”的情形中，可對為消毒源預定的操作參數(shù)進行比較并且該比較可考慮到參照框200進行的一個或更多個校正動作。

要注意，盡管圖10和11中概括的處理器可執(zhí)行程序指令被描述為包括一個或更多個消毒源的系統(tǒng)的一部分,但是這些處理器可執(zhí)行程序指令不一定受此限制。具體而言,圖10和11中概括的處理器可執(zhí)行程序指令可安置在分立的且不一定與特定殺菌系統(tǒng)相關聯(lián)的存儲介質上。具體而言，圖10和11中概括的處理器可執(zhí)行程序指令可作為軟件分布在用于與一個或更多個殺菌系統(tǒng)合作的商用可行存儲介質上。一般而言，本文中使用的術語“存儲介質”可指配置成維持一個或更多個程序指令集合的任何電子介質，諸如但不限于只讀存儲器、隨機存取存儲器、磁盤或光盤、或磁帶。

得到本公開的益處的本領域技術人員將領會，相信本發(fā)明提供了具有一個或更多個反射器的紫外線放電燈設備和用于操作此類設備的方法。另外，相信本發(fā)明提供了確定殺菌設備的操作參數(shù)和/或消毒一覽表的系統(tǒng)。具體而言，系統(tǒng)配置成以“智慧”方式工作(即，將房間的一個或更多個特性納入考量以確定殺菌設備的操作參數(shù)和/或消毒一覽表)。在一些情形中，系統(tǒng)可配置成優(yōu)化房間的消毒過程(例如，時間、效率和遍布各處性)。鑒于本說明書，本發(fā)明的各方面的進一步修改和替換性實施例對于本領域技術人員將是顯而易見的。

例如，盡管前述討論強調紫外線放射燈設備出于消毒目的的配置，但本公開的范圍不受此限制。具體而言，本文中描述的紫外線放射燈設備可用于利用紫外線的任何應用。另外，本文中描述的用于確定操作參數(shù)和消毒調度的系統(tǒng)和過程可適用于任何殺菌系統(tǒng)。因此，本說明書僅被解釋成為解說性的，目的是教導本領域技術人員執(zhí)行本發(fā)明的一般方式。要理解，本文中示出且描述的本發(fā)明的形式被采用為目前優(yōu)選的實施例?？蔀楸疚闹薪庹f且描述的實施例替換元素和材料，部分和過程可被反轉，并且本發(fā)明的某些特征可獨立地利用，所有這些方面在本領域技術人員得到本發(fā)明的說明書的益處之后將變得顯而易見?？稍诓幻撾x如以下權利要求所述的本發(fā)明的精神和范圍的情況下對本文中描述的元素進行改變。