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      一種時(shí)間校準(zhǔn)方法和裝置與流程

      文檔序號(hào):11219018閱讀:691來源:國知局
      一種時(shí)間校準(zhǔn)方法和裝置與流程

      本公開涉及核醫(yī)學(xué)成像技術(shù),特別涉及一種時(shí)間校準(zhǔn)方法和裝置。



      背景技術(shù):

      pet(positronemissioncomputedtomography,正電子發(fā)射型計(jì)算機(jī)斷層顯像)是當(dāng)今最先進(jìn)的大型醫(yī)療診斷成像技術(shù)之一,pet除顯示形態(tài)結(jié)構(gòu)外,還能夠利用活體代謝在分子水平上提供有關(guān)臟器及其病變的功能信息,在診斷腫瘤、心血管和神經(jīng)系統(tǒng)等疾病中具有卓越性能。pet的工作原理是在受檢對(duì)象中注射含有放射性核素的藥物,放射性核素發(fā)生衰變產(chǎn)生正電子,正電子與周圍的負(fù)電子湮滅產(chǎn)生一對(duì)背靠背的伽馬光子,稱為符合事件,pet系統(tǒng)通過晶體探測(cè)光子對(duì)重建出發(fā)射正電子的核素分布圖。但是由于pet探測(cè)裝置的性能不一致性等因素,導(dǎo)致各個(gè)晶體上對(duì)接收到伽馬光子的時(shí)間判定精度不同,影響pet圖像的重建,因此需要對(duì)晶體接收符合事件的時(shí)間進(jìn)行校準(zhǔn)。

      現(xiàn)有的時(shí)間校準(zhǔn)方案中,例如,可以在pet系統(tǒng)中心放置注源的模體,獲取響應(yīng)線(1ine-of-response,lor)上的單峰時(shí)間-符合事件曲線,通過迭代算法來校準(zhǔn)晶體上的時(shí)間偏差,這種方法通常都要求掃描的模體中心與pet系統(tǒng)的中心完全重合,但是實(shí)際中這種要求很難做到,模體中心與pet系統(tǒng)中心的偏移通常會(huì)導(dǎo)致時(shí)間偏差校準(zhǔn)的精度大大降低,導(dǎo)致校正不準(zhǔn)確。



      技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

      有鑒于此,本公開提供一種時(shí)間校準(zhǔn)方法和裝置,以提高時(shí)間校正的準(zhǔn)確性。

      具體地,本公開是通過如下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:

      第一方面,提供一種時(shí)間校準(zhǔn)方法,所述方法用于對(duì)正電子發(fā)射型計(jì)算機(jī)斷層顯像pet系統(tǒng)的晶體采集事件時(shí)間進(jìn)行校正,所述方法包括:

      獲取每個(gè)晶體對(duì)探測(cè)到的符合事件,得到所述晶體對(duì)接收符合事件的時(shí)間差,所述符合事件產(chǎn)生于掃描pet系統(tǒng)中放置的模體;

      根據(jù)所述符合事件重建模體圖像;

      根據(jù)所述模體圖像,確定在所述晶體對(duì)的響應(yīng)線上相對(duì)于晶體對(duì)其中一個(gè)晶體的源位置偏差,并根據(jù)源位置偏差得到對(duì)應(yīng)所述晶體的時(shí)間偏差;

      根據(jù)所述時(shí)間偏差,對(duì)所述晶體對(duì)的時(shí)間差進(jìn)行預(yù)校正;

      根據(jù)預(yù)校正后的時(shí)間差,迭代獲得所述晶體的實(shí)際時(shí)間偏差校正量;

      根據(jù)所述實(shí)際時(shí)間偏差校正量,校正所述晶體的符合事件采集時(shí)間。

      第二方面,提供一種時(shí)間校準(zhǔn)裝置,所述裝置用于對(duì)正電子發(fā)射型計(jì)算機(jī)斷層顯像pet系統(tǒng)的晶體采集事件時(shí)間進(jìn)行校正,所述裝置包括:

      信息處理模塊,用于獲取每個(gè)晶體對(duì)探測(cè)到的符合事件,得到所述晶體對(duì)接收符合事件的時(shí)間差,所述符合事件產(chǎn)生于掃描pet系統(tǒng)中放置的模體;

      圖像重建模塊,用于根據(jù)所述符合事件重建模體圖像;

      偏差確定模塊,用于根據(jù)所述模體圖像,確定在所述晶體對(duì)的響應(yīng)線上相對(duì)于晶體對(duì)其中一個(gè)晶體的源位置偏差,并根據(jù)源位置偏差得到對(duì)應(yīng)所述晶體的時(shí)間偏差;

      預(yù)校正模塊,用于根據(jù)所述時(shí)間偏差,對(duì)所述晶體對(duì)的時(shí)間差進(jìn)行預(yù)校正;

      迭代計(jì)算模塊,用于根據(jù)預(yù)校正后的時(shí)間差,迭代獲得所述晶體的實(shí)際時(shí)間偏差校正量;

      校正處理模塊,用于根據(jù)所述實(shí)際時(shí)間偏差校正量,校正所述晶體的符合事件采集時(shí)間。

      第三方面,提供一種pet設(shè)備,所述設(shè)備包括:pet探測(cè)器、處理器和存儲(chǔ)器;所述探測(cè)器中包括多個(gè)晶體,所述晶體用于探測(cè)源自被檢體的符合事件;

      所述處理器用于讀取存儲(chǔ)器上的時(shí)間校準(zhǔn)控制邏輯對(duì)應(yīng)的機(jī)器可讀指令,并執(zhí)行所述指令以實(shí)現(xiàn)如下操作:

      獲取每個(gè)晶體對(duì)探測(cè)到的符合事件,得到所述晶體對(duì)接收符合事件的時(shí)間差,所述符合事件產(chǎn)生于掃描pet系統(tǒng)中放置的模體;

      根據(jù)所述符合事件重建模體圖像;

      根據(jù)所述模體圖像,確定在所述晶體對(duì)的響應(yīng)線上相對(duì)于晶體對(duì)其中一個(gè)晶體的源位置偏差,并根據(jù)源位置偏差得到對(duì)應(yīng)所述晶體的時(shí)間偏差;

      根據(jù)所述時(shí)間偏差,對(duì)所述晶體對(duì)的時(shí)間差進(jìn)行預(yù)校正;

      根據(jù)預(yù)校正后的時(shí)間差,迭代獲得所述晶體的實(shí)際時(shí)間偏差校正量;

      根據(jù)所述實(shí)際時(shí)間偏差校正量,校正所述晶體的符合事件采集時(shí)間。

      第四方面,提供一種pet時(shí)間校準(zhǔn)系統(tǒng),所述系統(tǒng)包括:

      處理設(shè)備;

      計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì),所述介質(zhì)上存儲(chǔ)有時(shí)間校準(zhǔn)控制邏輯對(duì)應(yīng)的機(jī)器可讀指令,所述指令能夠被所述處理設(shè)備執(zhí)行,所述指令用于實(shí)現(xiàn)如下操作:

      獲取每個(gè)晶體對(duì)探測(cè)到的符合事件,得到所述晶體對(duì)接收符合事件的時(shí)間差,所述符合事件產(chǎn)生于掃描pet系統(tǒng)中放置的模體;

      根據(jù)所述符合事件重建模體圖像;

      根據(jù)所述模體圖像,確定在所述晶體對(duì)的響應(yīng)線上相對(duì)于晶體對(duì)其中一個(gè)晶體的源位置偏差,并根據(jù)源位置偏差得到對(duì)應(yīng)所述晶體的時(shí)間偏差;

      根據(jù)所述時(shí)間偏差,對(duì)所述晶體對(duì)的時(shí)間差進(jìn)行預(yù)校正;

      根據(jù)預(yù)校正后的時(shí)間差,迭代獲得所述晶體的實(shí)際時(shí)間偏差校正量;

      根據(jù)所述實(shí)際時(shí)間偏差校正量,校正所述晶體的符合事件采集時(shí)間。

      本公開提供的時(shí)間校準(zhǔn)方法和裝置,通過根據(jù)放射源中心位置與響應(yīng)線上的晶體對(duì)中心位置之間的源位置偏差,得到晶體對(duì)的時(shí)間差的校正量,進(jìn)而據(jù)此迭代計(jì)算得到每個(gè)晶體的實(shí)際時(shí)間偏差校正量,使得晶體的采集時(shí)間更為準(zhǔn)確。

      附圖說明

      圖1是本公開一示例性實(shí)施例示出的一種pet系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖;

      圖2是本公開一示例性實(shí)施例示出的一種時(shí)間校準(zhǔn)方法的流程圖;

      圖3是本公開一示例性實(shí)施例示出的一種位置偏差示意圖;

      圖4是本公開一示例性實(shí)施例示出的晶體關(guān)聯(lián)扇面的示意圖;

      圖5是本公開一示例性實(shí)施例示出的單峰直方圖;

      圖6是本公開一示例性實(shí)施例示出的一種pet設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖;

      圖7是本公開一示例性實(shí)施例示出的一種時(shí)間校準(zhǔn)裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

      具體實(shí)施方式

      這里將詳細(xì)地對(duì)示例性實(shí)施例進(jìn)行說明,其示例表示在附圖中。下面的描述涉及附圖時(shí),除非另有表示,不同附圖中的相同數(shù)字表示相同或相似的要素。以下示例性實(shí)施例中所描述的實(shí)施方式并不代表與本公開相一致的所有實(shí)施方式。相反,它們僅是與如所附權(quán)利要求書中所詳述的、本公開的一些方面相一致的裝置和方法的例子。

      圖1是一個(gè)例子中的pet系統(tǒng)100的結(jié)構(gòu)示意圖,如圖1所示,該pet系統(tǒng)100可以包括探測(cè)器101(petdetector),該探測(cè)器101可以是一個(gè)環(huán)形探測(cè)器,其中包括很多的閃爍晶體和光電倍增管。當(dāng)掃描被檢體時(shí),被檢體可以被放置在掃描床102上,由掃描床102帶動(dòng)至環(huán)形的探測(cè)器101中進(jìn)行掃描。

      被檢體在被掃描前可以注射了含有放射性核素的藥物,放射性核素發(fā)生衰變產(chǎn)生正電子,正電子與被檢體內(nèi)周圍的負(fù)電子湮滅產(chǎn)生一對(duì)背靠背的伽馬光子,光子可以被探測(cè)器101中的閃爍晶體接收到。光電倍增管可以將晶體探測(cè)到的事件信息傳輸至處理單元103,處理單元103可以判定各個(gè)晶體探測(cè)到的事件中哪些是來源于同一個(gè)湮滅事件,并將源自同一湮滅事件的兩個(gè)光子稱為符合事件。符合事件的信息可以被送往圖像重建單元104,用于重建pet圖像。

      其中,探測(cè)到符合事件的晶體對(duì),每個(gè)晶體都可以記錄探測(cè)到事件的時(shí)間即晶體采集事件時(shí)間,實(shí)際實(shí)施中,由于pet探測(cè)裝置的性能不一致性等因素,導(dǎo)致各個(gè)晶體上對(duì)接收到伽馬光子的時(shí)間判定精度不同,晶體采集事件的時(shí)間不太準(zhǔn)確。然而,該時(shí)間在pet的信息處理中非常重要,例如,以tof-pet(timeofflight-pet)為例,pet系統(tǒng)可以根據(jù)上述晶體對(duì)接收到光子對(duì)的時(shí)間偏差估算出正電子發(fā)生湮滅的大體位置,然后用于圖像重建,因而時(shí)間準(zhǔn)確性關(guān)系到湮滅位置確定的準(zhǔn)確性以及圖像重建的質(zhì)量。有鑒于此,本公開提供的時(shí)間校準(zhǔn)方法要對(duì)pet探測(cè)器中的各個(gè)晶體采集事件的時(shí)間進(jìn)行校準(zhǔn)。

      pet晶體的時(shí)間校準(zhǔn),通??梢栽趐et正式使用前進(jìn)行,并且,可以是在pet系統(tǒng)中心附近放置一個(gè)作為放射源的對(duì)稱性模體,該模體可以是實(shí)心的棒源、注源的實(shí)心圓柱模體或者圓筒狀模體。當(dāng)掃描該模體時(shí),pet系統(tǒng)的探測(cè)器101就可以獲得到伽馬光子,并通過信息處理得到各個(gè)符合事件。通過掃描模體得到的符合事件的信息就可以對(duì)晶體的采集時(shí)間偏差進(jìn)行校正。

      圖2示例了本公開的時(shí)間校準(zhǔn)方法的流程圖,可以包括:

      在步驟201中,掃描對(duì)稱性放射源模體,得到每個(gè)晶體對(duì)探測(cè)到的符合事件,并獲取到所述晶體對(duì)接收到所述符合事件的時(shí)間差。

      本步驟中,以晶體a和晶體b這一晶體對(duì)接收到一個(gè)符合事件為例,該符合事件中的兩個(gè)伽馬光子源自掃描模體時(shí)的同一湮滅事件,且該兩個(gè)伽馬光子分別被晶體a和晶體b接收到。假設(shè)晶體a接收到事件的時(shí)間是ta,晶體b接收到事件的時(shí)間是tb,那么這對(duì)晶體對(duì)應(yīng)的時(shí)間差是ta-tb。

      在步驟202中,根據(jù)符合事件重建模體圖像。

      本步驟中,可以根據(jù)符合事件重建模體圖像。此外,還可以計(jì)算模體的中心位置在哪里。例如,可以利用掃描得到的數(shù)據(jù)重建模體圖像,對(duì)重建圖像進(jìn)行濾波平滑,利用質(zhì)心法求出模體的每一層圖像的對(duì)稱中心,本例子可以求出每一層圖像的模體對(duì)稱中心位置(xp,yp),質(zhì)心法計(jì)算公式如下:

      上述的公式1中,例如,i表示像素序號(hào),xi表示像素i對(duì)應(yīng)的x坐標(biāo),yi表示像素i對(duì)應(yīng)的y坐標(biāo),ii表示像素i對(duì)應(yīng)的像素值,最終得到模體在每一層圖像上的中心為p(xp,yp,zp),其中,zp是所計(jì)算的圖像層的z坐標(biāo)值,即所述圖像層在軸向上的坐標(biāo)值。

      在步驟203中,根據(jù)所述模體圖像,確定在所述晶體對(duì)的響應(yīng)線上相對(duì)于晶體對(duì)其中一個(gè)晶體的源位置偏差,并根據(jù)源位置偏差得到對(duì)應(yīng)所述晶體的時(shí)間偏差。

      本例子中,pet探測(cè)晶體采集事件時(shí)間的偏差,其中一個(gè)導(dǎo)致該偏差的原因即源位置偏差,如果模體的放射源中心位置正好是pet系統(tǒng)的中心位置,那么將不會(huì)再有源位置偏差導(dǎo)致的采集時(shí)間偏移。因此,本步驟將計(jì)算所述的源位置偏差導(dǎo)致的時(shí)間偏差。

      結(jié)合圖3所示,仍以晶體a和晶體b為例,晶體a、b可以是不同探測(cè)器環(huán)上的晶體,作為放射源的模體31是一個(gè)實(shí)心的圓柱模體,晶體a和晶體b軸向位置的中心位置對(duì)應(yīng)的放射源中心位置是p(xp,yp,zp),其中zp是a和b軸向上的中心z坐標(biāo)。晶體a和晶體b是探測(cè)到符合事件的晶體對(duì),該晶體對(duì)的連線即響應(yīng)線lor32,點(diǎn)c是響應(yīng)線上的晶體對(duì)中心位置。d(xd,yd,zd),是晶體對(duì)a和b之間與模體相交部分的中心點(diǎn)。

      理想狀態(tài)下,d應(yīng)與c重合,此時(shí)晶體對(duì)a和b接收符合事件的時(shí)間差是零,但是如圖3所示的狀態(tài),d與c之間存在偏移距離,導(dǎo)致晶體對(duì)a和b接收符合事件的時(shí)間差不為零。結(jié)合晶體對(duì)a和b的符合事件的光子可以是由響應(yīng)線32與模體31交疊部分發(fā)射出來,那么d與c之間的距離偏移導(dǎo)致的晶體對(duì)a和b的實(shí)際時(shí)間差,即為源位置偏移導(dǎo)致的晶體采集時(shí)間偏差。

      本步驟中,可以先計(jì)算d與晶體對(duì)中心位置c之間的距離偏差,假設(shè)a和b的坐標(biāo)為a(xa,ya,za)和b(xb,yb,zb),利用d在ab上且是ab與模體相交的中點(diǎn)(所述的ab是晶體a和晶體b之間的連線),對(duì)于模體考慮到在較小的軸向范圍內(nèi)可以保證軸向偏差極小,這里假設(shè)軸向偏差為0,可以按照如下公式計(jì)算:

      而|ac|=0.5*|ab|,則上述d和c這兩個(gè)位置點(diǎn)相對(duì)于晶體a的距離偏差為:

      轉(zhuǎn)變?yōu)閐和c相對(duì)于晶體a的時(shí)間偏差為:

      本例子中,是以計(jì)算晶體a的實(shí)際時(shí)間偏差校正量為例進(jìn)行描述,其他各個(gè)晶體的時(shí)間偏差校正量可以按照同樣的方法計(jì)算。當(dāng)以晶體a的偏差計(jì)算為例時(shí),如上述的公式2至公式4所示,可以計(jì)算得到伽馬光子在由湮滅位置向晶體a行進(jìn)的路線中由于源位置偏差導(dǎo)致的行進(jìn)距離偏差,并進(jìn)而得到伽馬光子的行進(jìn)時(shí)間的偏移。在圖3所示的本例子中,是以相對(duì)于晶體對(duì)中的晶體a的時(shí)間偏差計(jì)算為例。

      在步驟204中,根據(jù)所述時(shí)間偏差,對(duì)所述晶體對(duì)的時(shí)間差進(jìn)行預(yù)校正。

      本步驟仍以校正tof-pet中的晶體a為例,tofa_ab=ta-tb,其中,ta是晶體a接收符合事件的時(shí)間,tb是晶體b接收符合事件的時(shí)間。

      請(qǐng)結(jié)合圖4來看,圖4所示為晶體a所關(guān)聯(lián)的扇面,在pet探測(cè)器的各個(gè)晶體探測(cè)到的符合事件中,可能有多個(gè)符合事件都涉及到晶體a。例如,圖4中的扇面上的晶體b的數(shù)量是多個(gè),假設(shè)晶體b包括晶體b1、b2、b3等,晶體a和晶體b1是接收到符合事件的一個(gè)晶體對(duì),晶體a和晶體b2是接收到另一符合事件的晶體對(duì),晶體a和晶體b3是接收到又一符合事件的晶體對(duì)。

      上述的每一個(gè)晶體對(duì)都對(duì)應(yīng)一個(gè)接收符合事件的時(shí)間差,如果根據(jù)上述的晶體a及其關(guān)聯(lián)扇面上的各個(gè)晶體之間的時(shí)間差,做成直方圖,將得到圖5所示的形式。圖5是模體為實(shí)心棒源或者注源的實(shí)心圓柱模體時(shí),對(duì)應(yīng)的單峰直方圖,橫軸是時(shí)間差,縱軸是計(jì)數(shù)。晶體a對(duì)應(yīng)的晶體對(duì)的時(shí)間差,可以是圖5所示的直方圖的峰值位置,比如,可以通過高斯函數(shù)擬合確定峰值位置,所述的時(shí)間差峰值位置即tofa_ab。此外,當(dāng)模體是圓筒狀模體時(shí),得到的直方圖可以是雙峰直方圖,對(duì)于雙峰直方圖,可以先計(jì)算兩個(gè)單峰的峰值,再求峰值的平均值作為晶體對(duì)中相對(duì)于晶體a的時(shí)間差tofa_ab。

      本步驟中,可以根據(jù)步驟203中得到的時(shí)間偏差,對(duì)晶體對(duì)的時(shí)間差進(jìn)行預(yù)校正。如下的公式5所示,由于放射源中心d在晶體對(duì)中心c的右側(cè),更靠近晶體b,所以實(shí)際上晶體a采集的時(shí)間是延遲的。

      tofa_ab=tofa_ab-δa_ab.......(公式5)

      在步驟205中,根據(jù)預(yù)校正后的時(shí)間差,迭代獲得所述晶體的實(shí)際時(shí)間偏差校正量。

      利用步驟(三)中計(jì)算的晶體對(duì)上的預(yù)校正的時(shí)間偏差峰值位置,例如晶體對(duì)a和b相對(duì)于晶體a的時(shí)間偏差峰值位置tofa_ab,根據(jù)選擇的晶體a關(guān)聯(lián)的扇形區(qū)域,迭代估計(jì)晶體a的偏移量。

      設(shè)定晶體a的時(shí)間偏差初始值按照如下公式迭代:

      其中,是晶體a的時(shí)間偏差,biasa是一個(gè)時(shí)間偏差臨時(shí)變量,n是關(guān)聯(lián)扇形面上的晶體個(gè)數(shù),tofa_ab是指預(yù)校正后的時(shí)間偏差,fana是晶體a關(guān)聯(lián)的扇形區(qū)域。迭代可以根據(jù)達(dá)到預(yù)設(shè)的最大迭代次數(shù)終止,或者根據(jù)滿足都小于預(yù)設(shè)的一個(gè)閾值終止。

      最后獲得每個(gè)晶體的時(shí)間偏差校正量即最后迭代時(shí)間偏移校正量,n為迭代次數(shù)。

      在步驟206中,根據(jù)所述實(shí)際時(shí)間偏差校正量,校正所述晶體的符合事件采集時(shí)間。

      本步驟中,可以根據(jù)步驟205中得到的實(shí)際時(shí)間偏差校正量校正晶體a的符合事件采集時(shí)間,例如,可以按照如下公式校正:

      此外,本例子還可以根據(jù)獲得的每個(gè)晶體的實(shí)際時(shí)間偏差校正量建立時(shí)間偏差校正表,表中值為各個(gè)晶體及其對(duì)應(yīng)的當(dāng)pet正式使用時(shí),再次獲取到各個(gè)晶體的符合事件采集時(shí)間時(shí),可以查找該時(shí)間偏差校正表,得到晶體對(duì)應(yīng)的實(shí)際時(shí)間偏差校正量,據(jù)此對(duì)晶體采集的事件時(shí)間信息上延遲

      本例子的時(shí)間校準(zhǔn)方法,通過根據(jù)放射源中心位置與響應(yīng)線上的晶體對(duì)中心位置之間的源位置偏差,得到晶體對(duì)的時(shí)間差的校正量,進(jìn)而據(jù)此迭代計(jì)算得到每個(gè)晶體的實(shí)際時(shí)間偏差校正量,使得晶體的采集時(shí)間更為準(zhǔn)確。

      上述圖2所示流程中的各個(gè)步驟,其執(zhí)行順序不限制于流程圖中的順序。此外,各個(gè)步驟的描述,可以實(shí)現(xiàn)為軟件、硬件或者其結(jié)合的形式,例如,本領(lǐng)域技術(shù)人員可以將其實(shí)現(xiàn)為軟件代碼的形式,可以為能夠?qū)崿F(xiàn)所述步驟對(duì)應(yīng)的邏輯功能的計(jì)算機(jī)可執(zhí)行指令。當(dāng)其以軟件的方式實(shí)現(xiàn)時(shí),所述的可執(zhí)行指令可以存儲(chǔ)在存儲(chǔ)器中,并被設(shè)備中的處理器執(zhí)行。

      例如,參見圖6所示,對(duì)應(yīng)于上述方法,本公開同時(shí)提供一種pet設(shè)備,該設(shè)備可以包括pet探測(cè)器1701、處理器1702以及存儲(chǔ)器1703,其中,探測(cè)器中包括多個(gè)晶體,所述晶體用于探測(cè)源自被檢體的符合事件。處理器1702和存儲(chǔ)器1703通常借由內(nèi)部總線1704相互連接。在其他可能的實(shí)現(xiàn)方式中,所述設(shè)備還可能包括外部接口1705,以能夠與其他設(shè)備或者部件進(jìn)行通信。進(jìn)一步地,存儲(chǔ)器1703上存儲(chǔ)有時(shí)間校準(zhǔn)的控制邏輯1706,該控制邏輯1706從功能上劃分的邏輯模塊,可以是圖7所示的時(shí)間校準(zhǔn)裝置的結(jié)構(gòu)。

      如圖7所示,該時(shí)間校準(zhǔn)裝置可以包括:信息處理模塊71、圖像重建模塊72、偏差確定模塊73、預(yù)校正模塊74、迭代計(jì)算模塊75和校正處理模塊76。

      信息處理模塊71,用于獲取每個(gè)晶體對(duì)探測(cè)到的符合事件,得到所述晶體對(duì)接收符合事件的時(shí)間差,所述符合事件產(chǎn)生于掃描pet系統(tǒng)中放置的模體;

      圖像重建模塊72,用于根據(jù)所述符合事件重建模體圖像;

      偏差確定模塊73,用于根據(jù)所述模體圖像,確定在所述晶體對(duì)的響應(yīng)線上相對(duì)于晶體對(duì)其中一個(gè)晶體的源位置偏差,并根據(jù)源位置偏差得到對(duì)應(yīng)所述晶體的時(shí)間偏差;

      預(yù)校正模塊74,用于根據(jù)所述時(shí)間偏差,對(duì)晶體對(duì)的時(shí)間差進(jìn)行預(yù)校正;

      迭代計(jì)算模塊75,用于根據(jù)預(yù)校正后的時(shí)間差,迭代獲得所述晶體的實(shí)際時(shí)間偏差校正量;

      校正處理模塊76,用于根據(jù)所述實(shí)際時(shí)間偏差校正量,校正所述晶體的符合事件采集時(shí)間。

      此外,圖2所示的時(shí)間校準(zhǔn)流程還可以被包括在計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)中,所述介質(zhì)上存儲(chǔ)有時(shí)間校準(zhǔn)控制邏輯對(duì)應(yīng)的機(jī)器可讀指令,并且這些介質(zhì)可以與執(zhí)行指令的處理設(shè)備連接,介質(zhì)上存儲(chǔ)的所述指令能夠被處理設(shè)備執(zhí)行。例如,本公開還可以提供一種pet時(shí)間校準(zhǔn)系統(tǒng),該系統(tǒng)可以包括處理設(shè)備和計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì),所述介質(zhì)上存儲(chǔ)的時(shí)間校準(zhǔn)控制邏輯對(duì)應(yīng)的機(jī)器可讀指令用于實(shí)現(xiàn)如下操作:

      獲取每個(gè)晶體對(duì)探測(cè)到的符合事件,得到所述晶體對(duì)接收符合事件的時(shí)間差,所述符合事件產(chǎn)生于掃描pet系統(tǒng)中放置的模體;

      根據(jù)所述符合事件重建模體圖像;

      根據(jù)所述模體圖像,確定在所述晶體對(duì)的響應(yīng)線上相對(duì)于晶體對(duì)其中一個(gè)晶體的源位置偏差,并根據(jù)源位置偏差得到對(duì)應(yīng)所述晶體的時(shí)間偏差;

      根據(jù)所述時(shí)間偏差,對(duì)所述晶體對(duì)的時(shí)間差進(jìn)行預(yù)校正;

      根據(jù)預(yù)校正后的時(shí)間差,迭代獲得所述晶體的實(shí)際時(shí)間偏差校正量;

      根據(jù)所述實(shí)際時(shí)間偏差校正量,校正所述晶體的符合事件采集時(shí)間。

      在本公開中,計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)可以是多種形式,比如,在不同的例子中,所述機(jī)器可讀存儲(chǔ)介質(zhì)可以是:ram(radomaccessmemory,隨機(jī)存取存儲(chǔ)器)、易失存儲(chǔ)器、非易失性存儲(chǔ)器、閃存、存儲(chǔ)驅(qū)動(dòng)器(如硬盤驅(qū)動(dòng)器)、固態(tài)硬盤、任何類型的存儲(chǔ)盤(如光盤、dvd等),或者類似的存儲(chǔ)介質(zhì),或者它們的組合。特殊的,所述的計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)還可以是紙張或者其他合適的能夠打印程序的介質(zhì)。使用這些介質(zhì),這些程序可以被通過電學(xué)的方式獲取到(例如,光學(xué)掃描)、可以被以合適的方式編譯、解釋和處理,然后可以被存儲(chǔ)到計(jì)算機(jī)介質(zhì)中。

      以上所述僅為本公開的較佳實(shí)施例而已,并不用以限制本公開,凡在本公開的精神和原則之內(nèi),所做的任何修改、等同替換、改進(jìn)等,均應(yīng)包含在本公開保護(hù)的范圍之內(nèi)。

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