校正參數(shù)確定方法、裝置及設(shè)備的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本申請(qǐng)涉及參數(shù)校正技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及校正參數(shù)確定方法、裝置及設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]數(shù)字化X射線攝影(DR，Digital Rad1graphy)設(shè)備因其福射劑量小、影像質(zhì)量高、疾病的檢出率和診斷的準(zhǔn)確性較高而被廣泛的應(yīng)用。DR系統(tǒng)的自動(dòng)曝光控制(AEC，Automatic Exposure Control)校正在DR系統(tǒng)的使用過程中至關(guān)重要。
[0003]AEC校正要求曝光后的相應(yīng)參數(shù)在預(yù)設(shè)范圍內(nèi)，對(duì)DR系統(tǒng)進(jìn)行AEC校正，通常需要反復(fù)設(shè)置待校正參數(shù)，針對(duì)每次設(shè)置的待校正參數(shù)進(jìn)行曝光，判斷曝光后的相應(yīng)參數(shù)是否處于預(yù)設(shè)范圍。
[0004]上述AEC校正方式難以確定待校正參數(shù)設(shè)置次數(shù)和曝光次數(shù)，曝光次數(shù)越多，X射線的曝光量和曝光時(shí)間越多，AEC校正效率越低。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本申請(qǐng)?zhí)峁┬Ｕ齾?shù)確定方法、裝置及設(shè)備，以解決現(xiàn)有AEC校正效率較低的問題。
[0006]根據(jù)本申請(qǐng)實(shí)施例的第一方面，提供一種校正參數(shù)確定方法，應(yīng)用于自動(dòng)曝光控制AEC校正，所述方法包括:
[0007]獲取目標(biāo)系統(tǒng)的理論校正參數(shù)，所述理論校正參數(shù)為所述目標(biāo)系統(tǒng)的線性擬合函數(shù)中因變量為預(yù)設(shè)的目標(biāo)因變參數(shù)時(shí)對(duì)應(yīng)的自變量值，所述線性擬合函數(shù)為預(yù)設(shè)因變參數(shù)隨預(yù)設(shè)校正參數(shù)呈線性變化的擬合函數(shù)；
[0008]獲取所述目標(biāo)系統(tǒng)根據(jù)所述理論校正參數(shù)進(jìn)行AEC校正所得的第一因變參數(shù)；
[0009]若所述第一因變參數(shù)與所述目標(biāo)因變參數(shù)之間的誤差在預(yù)設(shè)的誤差范圍內(nèi)，則確定所述理論校正參數(shù)為匹配所述目標(biāo)因變參數(shù)的目標(biāo)校正參數(shù)。
[0010]根據(jù)本申請(qǐng)實(shí)施例的第二方面，提供一種校正參數(shù)確定裝置，應(yīng)用于自動(dòng)曝光控制AEC校正，所述裝置包括:
[0011]理論校正參數(shù)獲取模塊，用于獲取目標(biāo)系統(tǒng)的理論校正參數(shù)，所述理論校正參數(shù)為所述目標(biāo)系統(tǒng)的線性擬合函數(shù)中因變量為預(yù)設(shè)的目標(biāo)因變參數(shù)時(shí)對(duì)應(yīng)的自變量值，所述線性擬合函數(shù)為預(yù)設(shè)因變參數(shù)隨預(yù)設(shè)校正參數(shù)呈線性變化的擬合函數(shù)；
[0012]第一因變參數(shù)獲取模塊，用于獲取所述目標(biāo)系統(tǒng)根據(jù)所述理論校正參數(shù)進(jìn)行AEC校正所得的第一因變參數(shù)；
[0013]第一參數(shù)確定模塊，用于在所述第一因變參數(shù)與所述目標(biāo)因變參數(shù)之間的誤差在預(yù)設(shè)的誤差范圍內(nèi)時(shí)，確定所述理論校正參數(shù)為匹配所述目標(biāo)因變參數(shù)的目標(biāo)校正參數(shù)。
[0014]根據(jù)本申請(qǐng)實(shí)施例的第三方面，提供一種校正參數(shù)確定設(shè)備，應(yīng)用于自動(dòng)曝光控制AEC校正，包括:
[0015]處理器；用于存儲(chǔ)所述處理器可執(zhí)行指令的存儲(chǔ)器；
[0016]其中，所述處理器被配置為:
[0017]獲取目標(biāo)系統(tǒng)的理論校正參數(shù)，所述理論校正參數(shù)為所述目標(biāo)系統(tǒng)的線性擬合函數(shù)中因變量為預(yù)設(shè)的目標(biāo)因變參數(shù)時(shí)對(duì)應(yīng)的自變量值，所述線性擬合函數(shù)為預(yù)設(shè)因變參數(shù)隨預(yù)設(shè)校正參數(shù)呈線性變化的擬合函數(shù)；
[0018]獲取所述目標(biāo)系統(tǒng)根據(jù)所述理論校正參數(shù)進(jìn)行AEC校正所得的第一因變參數(shù)；
[0019]若所述第一因變參數(shù)與所述目標(biāo)因變參數(shù)之間的誤差在預(yù)設(shè)的誤差范圍內(nèi)，則確定所述理論校正參數(shù)為匹配所述目標(biāo)因變參數(shù)的目標(biāo)校正參數(shù)。
[0020]應(yīng)用本申請(qǐng)實(shí)施例，本申請(qǐng)通過獲取目標(biāo)系統(tǒng)的理論校正參數(shù)、所述目標(biāo)系統(tǒng)根據(jù)所述理論校正參數(shù)進(jìn)行AEC校正所得的第一因變參數(shù)，并在所述第一因變參數(shù)與所述目標(biāo)因變參數(shù)之間的誤差在預(yù)設(shè)的誤差范圍內(nèi)時(shí)，確定所述理論校正參數(shù)為匹配所述目標(biāo)因變參數(shù)的目標(biāo)校正參數(shù)，可以有效降低校正次數(shù)，快速獲得與目標(biāo)因變參數(shù)匹配的目標(biāo)校正參數(shù)，提高校正參數(shù)確定效率，進(jìn)而可應(yīng)用于AEC校正以提高AEC校正效率。
[0021]應(yīng)當(dāng)理解的是，以上的一般描述和后文的細(xì)節(jié)描述僅是示例性和解釋性的，并不能限制本申請(qǐng)。
【附圖說明】
[0022]此處的附圖被并入說明書中并構(gòu)成本說明書的一部分，示出了符合本申請(qǐng)的實(shí)施例，并與說明書一起用于解釋本申請(qǐng)的原理。
[0023]圖1A為本申請(qǐng)校正參數(shù)確定方法的一個(gè)實(shí)施例流程圖；
[0024]圖1B為本申請(qǐng)中校正參數(shù)與因變參數(shù)的實(shí)際曲線關(guān)系示意圖；
[0025]圖1C為本申請(qǐng)校正參數(shù)確定方法的線性擬合函數(shù)的示意圖；
[0026]圖2A為本申請(qǐng)校正參數(shù)確定方法的另一個(gè)實(shí)施例流程圖；
[0027]圖2B為本申請(qǐng)校正參數(shù)確定方法的第二校正參數(shù)的示意圖；
[0028]圖3A為本申請(qǐng)校正參數(shù)確定方法的另一個(gè)實(shí)施例流程圖；
[0029]圖3B為本申請(qǐng)校正參數(shù)確定方法的第三校正參數(shù)和第四校正參數(shù)的示意圖；
[0030]圖4為本申請(qǐng)校正參數(shù)確定裝置的實(shí)施例硬件架構(gòu)圖；
[0031]圖5為本申請(qǐng)校正參數(shù)確定裝置的一個(gè)實(shí)施例框圖；
[0032]圖6為本申請(qǐng)校正參數(shù)確定裝置的另一個(gè)實(shí)施例框圖；
[0033]圖7為本申請(qǐng)校正參數(shù)確定裝置的另一個(gè)實(shí)施例框圖。
【具體實(shí)施方式】
[0034]在本申請(qǐng)使用的術(shù)語是僅僅出于描述特定實(shí)施例的目的，而非旨在限制本申請(qǐng)。在本申請(qǐng)和所附權(quán)利要求書中所使用的單數(shù)形式的“一種”、“所述”和“該”也旨在包括多數(shù)形式，除非上下文清楚地表示其他含義。還應(yīng)當(dāng)理解，本文中使用的術(shù)語“和/或”是指并包含一個(gè)或多個(gè)相關(guān)聯(lián)的列出項(xiàng)目的任何或所有可能組合。
[0035]下面結(jié)合具體實(shí)施例對(duì)本申請(qǐng)進(jìn)行詳細(xì)描述。
[0036]參見圖1A，為本申請(qǐng)校正參數(shù)確定方法的一個(gè)實(shí)施例流程圖，應(yīng)用于自動(dòng)曝光控制AEC校正，包括以下步驟:
[0037]步驟101:獲取目標(biāo)系統(tǒng)的理論校正參數(shù)，所述理論校正參數(shù)為所述目標(biāo)系統(tǒng)的線性擬合函數(shù)中因變量為預(yù)設(shè)的目標(biāo)因變參數(shù)時(shí)對(duì)應(yīng)的自變量值，所述線性擬合函數(shù)為預(yù)設(shè)因變參數(shù)隨預(yù)設(shè)校正參數(shù)呈線性變化的擬合函數(shù)。
[0038]步驟102:獲取所述目標(biāo)系統(tǒng)根據(jù)所述理論校正參數(shù)進(jìn)行AEC校正所得的第一因變參數(shù)。
[0039]步驟103:若所述第一因變參數(shù)與所述目標(biāo)因變參數(shù)之間的誤差在預(yù)設(shè)的誤差范圍內(nèi)，則確定所述理論校正參數(shù)為匹配所述目標(biāo)因變參數(shù)的目標(biāo)校正參數(shù)。
[0040]本實(shí)施例，通過獲取目標(biāo)系統(tǒng)的理論校正參數(shù)、所述目標(biāo)系統(tǒng)根據(jù)所述理論校正參數(shù)進(jìn)行AEC校正所得的第一因變參數(shù)，并在所述第一因變參數(shù)與所述目標(biāo)因變參數(shù)之間的誤差在預(yù)設(shè)的誤差范圍內(nèi)時(shí)，確定所述理論校正參數(shù)為匹配所述目標(biāo)因變參數(shù)的目標(biāo)校正參數(shù)，可以有效降低校正次數(shù)，快速獲得與目標(biāo)因變參數(shù)匹配的目標(biāo)校正參數(shù)，提高校正參數(shù)確定效率，進(jìn)而可應(yīng)用于AEC校正以提高AEC校正效率。
[0041 ] 本申請(qǐng)的校正參數(shù)確定，可應(yīng)用于數(shù)字化X射線攝影(DR，Digital Rad1graphy)系統(tǒng)的自動(dòng)曝光控制校正過程中，快速得到與DR系統(tǒng)的目標(biāo)因變參數(shù)匹配的校正參數(shù)，無需人工根據(jù)不同目標(biāo)因變參數(shù)范圍，反復(fù)設(shè)置校正參數(shù)和令DR系統(tǒng)曝光，能極大的提高自動(dòng)曝光控制的校正效率和準(zhǔn)確度。
[0042]其中，對(duì)于步驟101，所述目標(biāo)系統(tǒng)可為DR系統(tǒng)，所述預(yù)設(shè)校正參數(shù)可為電離室左場補(bǔ)償參數(shù)、電離室右場補(bǔ)償參數(shù)或KV斷點(diǎn)的電離室參考電壓，KV斷點(diǎn)為管電壓斷點(diǎn)，所述預(yù)設(shè)因變參數(shù)相應(yīng)可為電離室左場的mAs反饋量、電離室右場的mAs反饋量或圖像平均灰度。其中，mA*ms = mAs, mAs簡稱毫安秒。
[0043]在本實(shí)施例中，獲取目標(biāo)系統(tǒng)的理論校正參數(shù)可直接從預(yù)設(shè)存儲(chǔ)區(qū)域調(diào)取預(yù)先存儲(chǔ)的理論校正參數(shù)，也可以實(shí)時(shí)生成。所述線性擬合函數(shù)可實(shí)時(shí)擬合生成，也可直接從預(yù)設(shè)存儲(chǔ)區(qū)域調(diào)取。
[0044]DR系統(tǒng)中，在相同X射線球管電壓下，因變參數(shù)與校正參數(shù)之間為正相關(guān)，如圖1B所示，曲線g(x)可為因變參數(shù)與校正參數(shù)之間的實(shí)際曲線關(guān)系。本申請(qǐng)的實(shí)施例將目標(biāo)系統(tǒng)的因變參數(shù)與校正參數(shù)間的關(guān)系近似為線性正相關(guān)，通過對(duì)目標(biāo)系統(tǒng)的因變參數(shù)與校正參數(shù)進(jìn)行線性擬合，可獲得如圖1C所示的直線f(x)為目標(biāo)系統(tǒng)的線性擬合函數(shù)。
[0045]在一個(gè)可選的實(shí)現(xiàn)方式中，在獲取目標(biāo)系統(tǒng)的理論校正參數(shù)之前，還包括:
[0046]獲取所述線性擬合函數(shù)。
[0047]將所述目標(biāo)因變參數(shù)作為因變量代入所述線性擬合函數(shù)，計(jì)算所述線性擬合函數(shù)的自變量值。
[0048]本實(shí)現(xiàn)方式可快速準(zhǔn)確地獲取所述線性擬合函數(shù)的自變量值為目標(biāo)系統(tǒng)的理論校正參數(shù)，進(jìn)而提高目標(biāo)校正參數(shù)的確定速度。
[0049]在另一個(gè)可選的實(shí)現(xiàn)方式中，所述獲取所述線性擬合函數(shù)，包括:
[0050]在預(yù)設(shè)的校正參數(shù)范圍內(nèi)選取至少兩個(gè)不同的校正參數(shù)為采樣校正參數(shù)。
[0051]獲取所述目標(biāo)系統(tǒng)分別根據(jù)各采樣校正參數(shù)進(jìn)行AEC校正所得的各采樣因變參數(shù)。
[0052]對(duì)各采樣校正參數(shù)和各采樣因變參數(shù)進(jìn)行線性擬合，生成所述目標(biāo)系統(tǒng)的線性擬合函數(shù)。
[0053]本實(shí)現(xiàn)方式，可快速準(zhǔn)確地獲取所述目標(biāo)系統(tǒng)的線性擬合函數(shù)。
[0054]其中，所述預(yù)設(shè)校正參數(shù)為KV斷點(diǎn)的電離室參考電壓時(shí)，所述校正參數(shù)范圍可為0?10伏特，所述預(yù)設(shè)