5-己烯基 三氯硅烷和7-辛基三氯硅烷中的一種或多種，在實施例中，所述含烯基的硅烷優(yōu)選為乙烯 基三氯硅烷。在構(gòu)建疏水涂層的過程中，基底表面的活性基團與含烯基的硅烷發(fā)生作用結(jié) 合在一起，由于含烯基的硅烷較低的表面能，使其涂覆后的表面具有較好的疏水效果。所述 反應(yīng)優(yōu)選為電熱恒溫振蕩水槽中進行。
[0049] 按照本發(fā)明，在基底表面涂覆含烯基的硅烷的有機溶液之前，本申請優(yōu)選將基底 進行前處理，所述前處理為本領(lǐng)域技術(shù)人員熟知的處理方式，此處不再進行贅述。作為優(yōu)選 方案，所述基底為鈦片時，所述前處理具體為：
[0050] 將鈦片依次經(jīng)過丙酮與乙醇的超聲清洗后干燥，再在20V電壓下在陽極氧化的電 解液中氧化處理，最后采用乙醇與去離子水依次清洗后干燥;所述陽極氧化的電解液為氫 氟酸與水的混合溶液。
[0051 ]所述基底為純棉織物時，所述前處理具體為：
[0052]將純棉織物依次經(jīng)過丙酮、乙醇與去離子水超聲清洗。
[0053] 在上述構(gòu)建疏水涂層的過程中，所述基底為鈦片時，所述反應(yīng)的時間優(yōu)選為8~ 24h，所述反應(yīng)的溫度優(yōu)選為30°C~40°C ;所述基底為純棉織物時，所述反應(yīng)的時間優(yōu)選為3 ~4h，所述反應(yīng)的溫度優(yōu)選為30~40 °C。
[0054] 本申請在得到具有疏水涂層的基底，即構(gòu)建疏水涂層后則構(gòu)建親水涂層，進行浸 潤性的轉(zhuǎn)變。具體為:將具有疏水涂層的基底浸潤點擊反應(yīng)的溶液后，在紫外光照條件下反 應(yīng)，使基底的疏水涂層發(fā)生浸潤性的轉(zhuǎn)變，即由疏水性轉(zhuǎn)變?yōu)橛H水性。在上述過程中，所述 點擊反應(yīng)的溶液為光引發(fā)劑與含親水基團的巰基衍生物的有機溶液。所述光引發(fā)劑優(yōu)選為 2,2_二甲氧基-2-苯基苯乙酮(DMPA)，所述含親水基團的巰基衍生物優(yōu)選選自3-巰基丙酸、 2-巰基乙醇、2-巰基乙胺和2-巰基煙酸中的一種或多種，在實施例中，所述含親水基團的巰 基衍生物優(yōu)選為3-巰基丙酸。所述點擊反應(yīng)的溶液的配制過程具體為：
[0055] 將四氫呋喃、2,2_二甲氧基-2-苯基苯乙酮與含親水基團的巰基衍生物混合后超 聲。
[0056] 本申請在得到具有疏水性涂層的基底后，再進行浸潤性的轉(zhuǎn)變，使基底表面由疏 水性轉(zhuǎn)變?yōu)橛H水性，此過程發(fā)生的反應(yīng)以乙烯基三氯硅烷與3-巰基丙酸為例，具體是指乙 烯基三氯硅烷提供雙鍵，3-巰基丙酸提供親水基團，點擊反應(yīng)后在涂層表面接入親水基團， 使表面浸潤性發(fā)生轉(zhuǎn)變，上述反應(yīng)過程如下反應(yīng)式所示：
[0057]
[0058] 在上述反應(yīng)過程中，所述點擊反應(yīng)只能在紫外光照條件下進行，且所述紫外光的 光照強度優(yōu)選為0.8W/m2~lOOW/m 2，更優(yōu)選為8~90W/m2，最優(yōu)選為25~60W/m2，所述紫外光 的光照時間優(yōu)選為IOs~50min，更優(yōu)選為Imin~40min，最優(yōu)選為5min~30min。為了使點擊 反應(yīng)更加充分，所述點擊反應(yīng)的過程具體為：
[0059] 將具有疏水性的基底浸潤于點擊反應(yīng)溶液中，取出基底面向紫外光源，反應(yīng)后得 到具有親水涂層的基底。
[0060] 本發(fā)明在得到具有親水性表面的基底之后，若要再得到具有親水性的表面，則可 以將得到的基底再重復(fù)進行上述浸漬含烯基的硅烷有機溶液;若再需要使其具有親水性， 即可再進行上述點擊反應(yīng)，即本申請可以根據(jù)實際需要，進行浸潤型的隨即轉(zhuǎn)變，只要依次 重復(fù)上述兩個步驟即可。
[0061] 本發(fā)明提供了一種表面浸潤性調(diào)控的方法，可概括為以下步驟：（1)構(gòu)造疏水涂 層；（2)基于點擊反應(yīng)的浸潤性改變。
[0062]具體的，包括以下步驟：
[0063]步驟一:構(gòu)造疏水涂層
[0064] 量取40ml的甲苯溶液，加入80μ1的去離子水，混合均勻后置于離心管中，在70°C下 超聲1小時后，加入200μ1~800μ1的乙烯基三氯硅烷溶液，靜置一段時間后放入鈦片或織物 基底，在電熱恒溫振蕩水槽中反應(yīng)8~24小時(鈦片基底)或4小時（織物基底)后，在基底表 面構(gòu)造了疏水涂層；
[0065] 步驟二:基于點擊反應(yīng)的浸潤性轉(zhuǎn)變
[0066] 量取20ml的THF溶液，再加入0.418g DMPA、136.83yl的3-巰基丙酸溶液，超聲 20min使其完全溶解，得到的溶液即為點擊反應(yīng)溶液，具有疏水涂層的基底在浸潤點擊反應(yīng) 溶液后，在光照強度為0.8~lOOW/m2的紫外光源光照反應(yīng)IOs~50min，即完成了表面浸潤 性的轉(zhuǎn)變。
[0067] 如圖1所示，圖1為本發(fā)明所使用的鈦片基底的SEM圖，經(jīng)過氫氟酸陽極氧化后的鈦 片基底表面具有納米管結(jié)構(gòu)，并且具有很好的反應(yīng)活性，更利于涂層能夠均勻的涂覆。
[0068] 本申請?zhí)峁┝艘环N表面浸潤性調(diào)控的方法，其首先將基底浸漬于含烯基的硅烷的 有機溶液中，反應(yīng)后得到具有疏水涂層的基底，然后將得到的基底浸潤于點擊反應(yīng)溶液中， 在紫外光照條件下反應(yīng)，得到具有親水涂層的基體。本申請剛性材料與柔性材料均可以作 為基底構(gòu)造疏水涂層，適用性廣;本發(fā)明使用的涂層方法相比較下成本低，毒性??；利用點 擊反應(yīng)使表面浸潤性轉(zhuǎn)變效率更高，反應(yīng)速度更快，操作更簡便，同時利用疏水涂層表面的 物質(zhì)可以在表面接入不同功能性官能團的物質(zhì)。
[0069] 為了進一步理解本發(fā)明，下面結(jié)合實施例對本發(fā)明提供的基底表面浸潤性調(diào)控的 方法進行詳細說明，本發(fā)明的保護范圍不受以下實施例的限制。
[0070] 本發(fā)明中所講的字母簡稱，均為本領(lǐng)域固定簡稱，其中部分字母文解釋如下:THF: 四氫呋喃;DMPA: 2，2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮;SEM圖：掃描電子顯微鏡圖；XPS譜圖：X射線 光電子能譜圖;EDS能譜圖:X射線能譜圖。
[0071] 實施例1
[0072]步驟1構(gòu)造疏水涂層
[0073] 量取40ml的甲苯溶液，加入80μ1的去離子水，混合均勻后置于離心管中，在70°C下 超聲1小時后，加入200μ1的乙烯基三氯硅烷溶液，靜置一段時間后放入鈦片基底，在電熱恒 溫振蕩水槽中反應(yīng)8h后就在基底表面構(gòu)造了疏水涂層。
[0074]步驟2基于點擊反應(yīng)的浸潤性轉(zhuǎn)變
[0075] 量取20ml的THF溶液，再加入0.4188010^、136.83以1的3-巰基丙酸溶液，超聲2〇1^11 使其完全溶解，得到的溶液即為點擊反應(yīng)溶液，具有疏水涂層的基底在浸潤點擊反應(yīng)溶液 后，在光照強度為89W/m2的紫外光源下光照反應(yīng)5min，即完成了表面浸潤性的轉(zhuǎn)變。
[0076] 本實施例所構(gòu)造的基于鈦片基底的疏水涂層表面形貌結(jié)構(gòu)如圖6所示，圖6為本實 施例所制備的基于鈦片基底的涂層表面的SEM照片。
[0077] 實施例2
[0078]步驟1構(gòu)造疏水涂層
[0079] 量取40ml的甲苯溶液，加入80μ1的去離子水，混合均勻后置于離心管中，在70°C下 超聲1小時后，加入200μ1的乙烯基三氯硅烷溶液，靜置一段時間后放入鈦片基底，在電熱恒 溫振蕩水槽中反應(yīng)12小時后就在基底表面構(gòu)造了疏水涂層。
[0080]步驟2基于點擊反應(yīng)的浸潤性轉(zhuǎn)變
[0081 ] 量取20ml的THF溶液，再加入0.418g DMPA、136.83yl的3-巰基丙酸溶液，超聲 20min使其完全溶解，得到的溶液即為點擊反應(yīng)溶液，具有疏水涂層的基底在浸潤點擊反應(yīng) 溶液后，在光照強度為89W/m 2的紫外光源下光照反應(yīng)30min，即完成了表面浸潤性的轉(zhuǎn)變。
[0082] 本實施例所構(gòu)造的基于鈦片基底的疏水涂層表面形貌結(jié)構(gòu)如圖7所示，圖7為本實 施例所制備的基于鈦片基底的涂層表面的SEM照片。
[0083] 實施例3
[0084]步驟1構(gòu)造疏水涂層
[0085] 量取40ml的甲苯溶液，加入80μ1的去離子水，混合均勻后置于離心管中，在70°C下 超聲1小時后，加入800μ1的乙烯基三氯硅烷溶液，靜置一段時間后放入鈦片基底，在電熱恒 溫振蕩水槽中反應(yīng)12小時后就在基底表面構(gòu)造了疏水涂層。
[0086] 步驟2基于點擊反應(yīng)的浸潤性轉(zhuǎn)變
[0087] 量取20ml的THF溶液，再加入0.418g