本發(fā)明涉及一種仿石瓷磚制造系統(tǒng)與工藝，尤其是涉及一種仿石效果逼真的仿石瓷磚制造系統(tǒng)及制造工藝。
背景技術(shù)：
在噴墨印花技術(shù)出現(xiàn)之前，一般采用絲網(wǎng)印花和輥筒印花技術(shù)生產(chǎn)裝飾瓷磚。絲網(wǎng)印花無法對瓷磚凹凸面進(jìn)行印刷，瓷磚表面難以獲得多元立體的顯色效果，而輥筒印刷雖然可以實(shí)現(xiàn)凹凸面印刷，圖案紋理仿真度較高，但獲得的裝飾色彩比較單一呆板，圖案變化較少。噴墨打印突破了傳統(tǒng)工藝方法的局限性，是一種無接觸、無壓力、無印版的印刷技術(shù)，墨水下滲進(jìn)入陶瓷基體里，經(jīng)過高溫?zé)蓵尸F(xiàn)出不同的顏色及圖案，改變噴墨打印機(jī)的程序文件便可在瓷磚表面打印出各種逼真的仿木材、仿大理石紋理圖案，獲得傳統(tǒng)印花技術(shù)無法印刷出的效果。
在傳統(tǒng)的噴墨打印瓷質(zhì)磚的制備工藝中，通過在瓷磚磚坯表面進(jìn)行噴墨操作，墨水滲透下陷進(jìn)入坯體里，經(jīng)過高溫?zé)沙尸F(xiàn)出特殊的顏色及紋理圖案。陶瓷粉料通常先經(jīng)過微粉布料、壓機(jī)壓制成型、干燥等工序，之后與拋釉磚上色類似，在施釉線上采用噴墨打印機(jī)將墨水直接打印至磚坯表面，再進(jìn)行燒成、拋磨工序，這種方法制備的拋光磚因?yàn)閴褐瞥尚偷拇u坯密度高，墨水下滲深度有限，導(dǎo)致該瓷磚表面的噴墨打印滲透圖案層較薄，噴墨拋光磚干燥燒成后經(jīng)過一系列刮平定厚、粗拋、精拋等工序，表面墨水滲透層變得更薄，并在后期使用的過程中將逐漸被損耗，墨水生成的紋理圖案變得模糊，甚至脫落，裝飾效果受到很大影響。
中國專利cn204981658u公布了一種用于制備瓷質(zhì)磚的生產(chǎn)線。該生產(chǎn)線包括依次通過皮帶連接的第一布料裝置、預(yù)壓裝置、噴墨打印系統(tǒng)、第二布料裝置、壓機(jī)裝置、干燥系統(tǒng)、燒成系統(tǒng)和切削拋光系統(tǒng)。該生產(chǎn)線生產(chǎn)時，先對陶瓷粉料進(jìn)行預(yù)壓獲得面料預(yù)壓層，控制面料預(yù)壓層的體積密度為0.9-1.2g/cm3；該生產(chǎn)線可獲得具有自面料層墨水打印面往上滲透的噴墨打印圖案紋理，噴墨打印圖案層厚 度≥0.5mm。瓷質(zhì)磚產(chǎn)品裝飾圖案層厚度可控，微粉布料紋理和噴墨打印紋理相結(jié)合使其圖案層豐富立體，色彩鮮艷，具備藝術(shù)美感，耐磨性好，不易磨損，使用更加持久。該專利中采用噴墨打印系統(tǒng)進(jìn)行噴墨，而現(xiàn)有噴墨技術(shù)的最大困難在于深色系的發(fā)色不穩(wěn)定，由于噴墨材料受溫度的影響非常巨大，溫度太高就會造成過燒的感覺，釉面不平整，溫度過低會讓顏色不夠鮮亮，色澤不夠。該專利采用的是在噴墨后再進(jìn)行一次布料，并且進(jìn)行了壓制，其目的在于提高瓷磚的耐磨性，由于采用兩次壓制，工藝較為復(fù)雜，同時仍然缺少對于噴墨材料進(jìn)行保護(hù)的環(huán)節(jié)。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
本發(fā)明的目的就是為了克服上述現(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷而提供一種仿石效果逼真的仿石瓷磚制造系統(tǒng)及制造工藝。
本發(fā)明的目的可以通過以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)：
本發(fā)明技術(shù)方案一：
提供一種仿石效果逼真的仿石瓷磚制造系統(tǒng)，包括依次通過傳送帶連接的布料裝置、壓制裝置、素?zé)b置、底層淋釉裝置、噴墨打印裝置、表層噴釉裝置、燒成裝置及切削拋光裝置。
所述的布料裝置包括微粉下料機(jī)構(gòu)、顆粒下料機(jī)構(gòu)與線條下料機(jī)構(gòu)，每個下料機(jī)構(gòu)均包括用于儲存微粉原料、顆粒原料或線條原料的儲料斗、設(shè)置在儲料斗下方的出料滾筒、以及設(shè)置在出料滾筒出口處控制出料量的出口閘板。
所述的壓制裝置為陶瓷壓機(jī)，所述的素?zé)b置為素?zé)G，所述的燒成裝置為燒成窯，所述的切削拋光裝置包括切削機(jī)與拋光機(jī)。
所述的底層淋釉裝置為直線淋釉機(jī)，用于在素?zé)尚偷拇u胚表層淋釉一層釉質(zhì)底層。
所述的噴墨打印裝置為3d打印機(jī)，用于對淋釉后的磚胚噴墨3d打印一層具有仿石效果的色彩層。
所述的表層噴釉裝置為自動噴釉機(jī)，用于對瓷磚表層噴涂一層釉質(zhì)防護(hù)表層。
本發(fā)明技術(shù)方案二：
提供基于上述制造系統(tǒng)的仿石效果逼真的仿石瓷磚制造工藝，具體包括以下步驟：
(1)配制仿石瓷磚的原料，包括微粉原料、顆粒原料與線條原料；
(2)將所有原料用布料裝置布料后，壓制成型，并進(jìn)行素?zé)?，得到磚坯；
(3)在所得磚坯表面順序進(jìn)行淋釉、噴墨打印與噴釉工序，在磚坯表層依次制得釉質(zhì)底層、具有仿石效果的色彩層，及釉質(zhì)防護(hù)表層；
(4)對步驟(3)處理后的磚坯進(jìn)行燒制成型，并進(jìn)行切削拋光處理，得到仿石效果逼真的仿石瓷磚。
步驟(1)所述的微粉原料、顆粒原料與線條原料只是尺寸或形狀的不同，其基體材料均為同樣的成分，基體材料的質(zhì)量百分比為：長石20wt％、煤矸石20wt％、粘土25wt％、硅灰石10wt％、瓷石20wt％、高溫成孔助劑5wt％，基體材料球磨、過濾得到微粉原料，微粉再處理得打顆粒原料與線條原料。
步驟(3)中，所述釉質(zhì)底層為全不透底釉，比重1.4－1.5，施釉量0.4－0.5kg每平米；所述釉質(zhì)防護(hù)表層為亞光面釉，比重1.4－1.5，施釉量0.6－0.7kg每平米；所述色彩層是通過噴墨3d打印而成的，噴墨原料為耐高溫?zé)o機(jī)色料的陶瓷墨水，所述的色彩層的厚度大于等于1mm。
步驟(2)中素?zé)臏囟瓤刂圃?00-1000℃，步驟(4)中燒制成型的溫度為1100-1150℃。
與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有以下優(yōu)點(diǎn)及有益效果：
1、本發(fā)明制造系統(tǒng)采用淋釉、噴墨、噴釉的工藝，在磚坯表層依次制得釉質(zhì)底層、具有仿石效果的色彩層，及釉質(zhì)防護(hù)表層，從而克服了噴墨材料在燒制過程中受溫度影響而出現(xiàn)色澤不夠或造成過燒，同時，釉質(zhì)防護(hù)表層可以保護(hù)噴墨3d打印的圖案色彩的穩(wěn)定性，使最終產(chǎn)品無論在外在感觀還是內(nèi)在品質(zhì)上都具有較高的品相。
2、采用本發(fā)明的制造系統(tǒng)，其制造工藝簡單，基于噴墨3d打印技術(shù)，在仿石效果上使得天然石材的滄桑感和三維效果能夠逼真重現(xiàn)，相較于目前市場上傳統(tǒng)的拋光施釉磚具有良好的色澤與立體感。
3、本發(fā)明的制造工藝中，嚴(yán)格控制了各種工藝條件，使得最終產(chǎn)品質(zhì)量有很大的提高。
附圖說明
圖1為本發(fā)明仿石效果逼真的仿石瓷磚制造系統(tǒng)結(jié)構(gòu)示意圖。
圖中標(biāo)號：1為傳送帶，2為布料裝置，3為壓制裝置，4為素?zé)b置，5為底 層淋釉裝置，6為噴墨打印裝置，7為表層噴釉裝置，8為燒成裝置，9為切削拋光裝置。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)說明。
實(shí)施例
一種仿石效果逼真的仿石瓷磚制造系統(tǒng)，如圖1所示，包括依次通過傳送帶1連接的布料裝置2、壓制裝置3、素?zé)b置4、底層淋釉裝置5、噴墨打印裝置6、表層噴釉裝置7、燒成裝置8及切削拋光裝置9。
布料裝置2包括微粉下料機(jī)構(gòu)、顆粒下料機(jī)構(gòu)與線條下料機(jī)構(gòu)，每個下料機(jī)構(gòu)均包括用于儲存微粉原料、顆粒原料或線條原料的儲料斗、設(shè)置在儲料斗下方的出料滾筒、以及設(shè)置在出料滾筒出口處控制出料量的出口閘板。壓制裝置3為陶瓷壓機(jī)，素?zé)b置4為素?zé)G，燒成裝置8為燒成窯，切削拋光裝置9包括切削機(jī)與拋光機(jī)。底層淋釉裝置5為直線淋釉機(jī)，用于在素?zé)尚偷拇u胚表層淋釉一層釉質(zhì)底層。噴墨打印裝置6為3d打印機(jī)，用于對淋釉后的磚胚噴墨3d打印一層具有仿石效果的色彩層。表層噴釉裝置7為自動噴釉機(jī)，用于對瓷磚表層噴涂一層釉質(zhì)防護(hù)表層。
基于上述制造系統(tǒng)的仿石效果逼真的仿石瓷磚制造工藝，具體包括以下步驟：
(1)配制仿石瓷磚的原料，包括微粉原料、顆粒原料與線條原料；
(2)將所有原料用布料裝置布料后，壓制成型，并進(jìn)行素?zé)?，素?zé)臏囟瓤刂圃?00-1000℃，得到磚坯；
(3)在所得磚坯表面順序進(jìn)行淋釉、噴墨打印與噴釉工序，在磚坯表層依次制得釉質(zhì)底層、具有仿石效果的色彩層，及釉質(zhì)防護(hù)表層；
(4)對步驟(3)處理后的磚坯進(jìn)行燒制成型，燒制成型的溫度為1100-1150℃，并進(jìn)行切削拋光處理，得到仿石效果逼真的仿石瓷磚。
步驟(1)微粉原料、顆粒原料與線條原料只是尺寸或形狀的不同，其基體材料均為同樣的成分，基體材料的質(zhì)量百分比為：長石20wt％、煤矸石20wt％、粘土25wt％、硅灰石10wt％、瓷石20wt％、高溫成孔助劑5wt％，基體材料球磨、過濾得到微粉原料，微粉再處理得打顆粒原料與線條原料。
步驟(3)中，所述釉質(zhì)底層為全不透底釉，比重1.4－1.5，施釉量0.4－0.5kg 每平米；所述釉質(zhì)防護(hù)表層為亞光面釉，比重1.4－1.5，施釉量0.6－0.7kg每平米；所述色彩層是通過噴墨3d打印而成的，噴墨原料為耐高溫?zé)o機(jī)色料的陶瓷墨水，色彩層的厚度大于等于1mm。
上述的對實(shí)施例的描述是為便于該技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員能理解和使用發(fā)明。熟悉本領(lǐng)域技術(shù)的人員顯然可以容易地對這些實(shí)施例做出各種修改，并把在此說明的一般原理應(yīng)用到其他實(shí)施例中而不必經(jīng)過創(chuàng)造性的勞動。因此，本發(fā)明不限于上述實(shí)施例，本領(lǐng)域技術(shù)人員根據(jù)本發(fā)明的揭示，不脫離本發(fā)明范疇所做出的改進(jìn)和修改都應(yīng)該在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。