本發(fā)明涉及一種陶瓷注漿成形生產(chǎn)線及生產(chǎn)工藝。

背景技術(shù)：

注漿成型是利用石膏模的吸水性，將具有流動(dòng)性的泥漿注入石膏模內(nèi)，使泥漿分散地粘附在模型上，形成和模型相同形狀的坯泥層，并隨時(shí)間的延長(zhǎng)而逐漸增厚，當(dāng)達(dá)到一定厚度時(shí)，經(jīng)干燥收縮而與模壁脫離，然后脫模取出，坯體制成。凡是形狀復(fù)雜、不規(guī)則或薄胎等制品，均可采用注漿成型法來(lái)生產(chǎn)，因此注漿成型在日常陶瓷、工業(yè)美術(shù)瓷、衛(wèi)生潔具瓷及現(xiàn)代陶瓷等領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用。

現(xiàn)有注漿成形工藝流程，一般先向一批的烘干后的石膏模內(nèi)注漿，放置幾分鐘后，再將多余的漿倒出，然后將帶有柸泥層的石膏模放入到干燥室烘干，待脫模后取出柸體，再將石膏模放入到干燥室內(nèi)干燥。生產(chǎn)過(guò)程需要大量的空間放置注漿或脫模后的石膏模、干燥石膏模，而且生產(chǎn)效率低，勞動(dòng)強(qiáng)度大。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)中存在的問(wèn)題，本發(fā)明的目的在于提供一種可以同時(shí)進(jìn)行注漿、倒?jié){、干燥、脫模的陶瓷注漿成形生產(chǎn)線。

本發(fā)明的技術(shù)方案如下：一種陶瓷注漿成形生產(chǎn)線，其中，包括用于向石膏模內(nèi)注漿的注漿工作臺(tái)，用于將石膏模內(nèi)多余的泥漿倒出的倒?jié){工作臺(tái)，用于干燥帶有柸泥層石膏模的第一干燥室，用于干燥石膏模的第二干燥室和用于干燥柸體的第三干燥室，所述第一干燥室、第二干燥室和第三干燥室中均設(shè)有帶有多個(gè)傳送工位的傳送裝置，所述第一干燥室的輸入端靠近倒?jié){臺(tái)，第二干燥室和第三干燥室的輸入端連接或靠第一干燥室的輸出端，第二干燥室的輸出端靠近注漿工作臺(tái)。

上述陶瓷注漿成形生產(chǎn)線，其中，所述注漿工作臺(tái)包括設(shè)有多個(gè)注漿工位的旋轉(zhuǎn)臺(tái)，驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)臺(tái)旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動(dòng)裝置，設(shè)置在旋轉(zhuǎn)臺(tái)上方、與注漿工位相對(duì)應(yīng)的注漿機(jī)構(gòu)和中央控制器，旋轉(zhuǎn)臺(tái)中心設(shè)有第一探測(cè)頭，所述驅(qū)動(dòng)裝置、第一探測(cè)頭和注漿機(jī)構(gòu)均與中央控制器連接，所述第一探測(cè)頭用于檢測(cè)旋轉(zhuǎn)至注漿機(jī)構(gòu)正下方的注漿工位中是否有石膏模，并向中央控制器發(fā)送信號(hào)。

上述陶瓷注漿成形生產(chǎn)線，其中，所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)上的注漿工位沿著旋轉(zhuǎn)臺(tái)半徑方向成排分布，所述注漿機(jī)構(gòu)包括設(shè)有多個(gè)與中央控制器連接的升降裝置，和分別與多個(gè)升降裝置連接的多個(gè)注漿槍，所述注漿槍與旋轉(zhuǎn)臺(tái)上每排中的多個(gè)注漿工位的位置相對(duì)應(yīng)。

上述陶瓷注漿成形生產(chǎn)線，其中，所述每個(gè)注漿槍的底端均設(shè)有第二探測(cè)頭，用于探測(cè)本注漿槍對(duì)應(yīng)的注漿工位上是否有石膏模，并向中央控制器發(fā)送信號(hào)。

上述陶瓷注漿成形生產(chǎn)線，其中，所述注漿槍與中央控制器連接，所述中央控制器根據(jù)第二探測(cè)頭反饋的信號(hào)，獲取注漿槍對(duì)應(yīng)注漿工位上石膏模的高度，并根據(jù)石膏模的高度自動(dòng)控制注漿槍的注漿量。

上述陶瓷注漿成形生產(chǎn)線的生產(chǎn)工藝，其中，包括以下步驟：

步驟100：干燥后的石膏模通過(guò)傳送裝置，從干燥室二的輸出端輸出，轉(zhuǎn)移至注漿工作臺(tái)上，并于注漿工作臺(tái)上完成注漿過(guò)程；

步驟200：將注漿后的石膏模轉(zhuǎn)移至倒?jié){工作臺(tái)上，將石膏模中多余的泥漿倒出；

步驟300：將倒?jié){后帶有柸泥層石膏模轉(zhuǎn)移至第一干燥室輸入端的傳送工位上，被傳送至第一干燥室進(jìn)行干燥，使得柸泥層縮水與石膏模脫離，經(jīng)第一干燥室輸出端輸出后，取出柸體，并將石膏模清理干凈；

步驟400：將步驟300取出的柸體轉(zhuǎn)移至干第三干燥室輸入端的傳送工位上，傳送至第三干燥室干燥后即得成品；同時(shí)將清理干凈的石膏模轉(zhuǎn)移至第二干燥室輸入端的傳送工位上，傳送至第二干燥室中完成干燥，并從第二干燥室輸出端輸出，用于下一循環(huán)中。

上述陶瓷注漿成形生產(chǎn)工藝，其中，步驟100具體包括以下步驟：

步驟110：干燥后的石膏模被轉(zhuǎn)移至旋轉(zhuǎn)臺(tái)上的注漿工位中，并隨旋轉(zhuǎn)臺(tái)旋轉(zhuǎn)；

步驟120：旋轉(zhuǎn)臺(tái)中心的第一探測(cè)頭對(duì)旋轉(zhuǎn)至注漿機(jī)構(gòu)正下方的注漿工位進(jìn)行檢測(cè)，當(dāng)檢測(cè)到注漿機(jī)構(gòu)正下方的注漿工位上有石膏模時(shí)，向中央控制器發(fā)送信號(hào)，通過(guò)驅(qū)動(dòng)裝置使旋轉(zhuǎn)臺(tái)停止旋轉(zhuǎn)；

步驟130：?jiǎn)?dòng)注漿機(jī)構(gòu)，對(duì)其正下方的石膏模進(jìn)行注漿，注漿完成后，再次啟動(dòng)驅(qū)動(dòng)裝置，旋轉(zhuǎn)臺(tái)繼續(xù)轉(zhuǎn)動(dòng)，第一探測(cè)頭對(duì)下一注漿工位進(jìn)行檢測(cè)。

上述陶瓷注漿成形生產(chǎn)工藝，其中，所述步驟130中，啟動(dòng)注漿機(jī)構(gòu)后，所述注漿槍底端的第二探測(cè)頭對(duì)注漿槍對(duì)應(yīng)的注漿工位進(jìn)行檢測(cè)，并發(fā)送信號(hào)給中央控制器，如果注漿槍對(duì)應(yīng)的固定工位上有石膏模，則中央控制器發(fā)出命令，使該注漿槍降落并對(duì)相應(yīng)的石膏模進(jìn)行注漿。

上述陶瓷注漿成形生產(chǎn)工藝，其中，所述步驟130中，所述中央控制器根據(jù)第二探測(cè)頭反饋的信號(hào)，獲取注漿槍對(duì)應(yīng)注漿工位上石膏模的高度，并根據(jù)石膏模的高度自動(dòng)控制注漿槍的注漿量。

本發(fā)明的有益效果為：通過(guò)在設(shè)置三個(gè)干燥室及傳送裝置，整個(gè)注漿成形過(guò)程連續(xù)進(jìn)行，使注漿、倒?jié){、干燥、脫模等工序可以同時(shí)進(jìn)行，大大節(jié)約了時(shí)間，提高生產(chǎn)效率。同時(shí)，石膏模在整個(gè)過(guò)程中被不斷地循環(huán)利用，無(wú)需大量空間放置閑置的石膏模，節(jié)約石膏模數(shù)量和占用空間。

附圖說(shuō)明

圖1為本發(fā)明所述注漿成形生產(chǎn)線的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2為發(fā)明中所述注漿工作臺(tái)的結(jié)構(gòu)示意圖。

其中，1-注漿工作臺(tái)，11-旋轉(zhuǎn)臺(tái)，12-驅(qū)動(dòng)裝置，13-注漿機(jī)構(gòu)，131-升降裝置，132-注漿槍，14-中央控制器，15-第一探測(cè)頭，16-第二探測(cè)頭，2-倒?jié){工作臺(tái)，3-第一干燥室，4-第二干燥室，5-第三干燥室，6-傳送裝置，61-傳送工位。

具體實(shí)施方式

為使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案及效果更加清楚、明確，以下舉實(shí)例對(duì)本發(fā)明進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實(shí)施例僅用于解釋本發(fā)明，并不用于限定本發(fā)明。

如圖1所示，本實(shí)施例涉及一種陶瓷注漿成形生產(chǎn)線，包括用于向石膏模內(nèi)注漿的注漿工作臺(tái)1，用于將石膏模內(nèi)多余的泥漿倒出的倒?jié){工作臺(tái)2，用于干燥帶有柸泥層石膏模的第一干燥室3，用于干燥石膏模的第二干燥室4和用于干燥柸體的第三干燥5，所述干第一干燥室3、第二干燥室4和第三干燥室5中均設(shè)有帶多個(gè)傳送工位61的傳送裝置6，所述第一干燥室3的輸入端靠近倒?jié){臺(tái)2，第二干燥室4和第三干燥室5的輸入端連接或靠近第一干燥室輸出端，第二干燥室5的輸出端靠近注漿工作臺(tái)1。

在利用本實(shí)施例所述的陶瓷注漿成形生產(chǎn)線生產(chǎn)陶瓷產(chǎn)品時(shí)，干燥后的石膏模通過(guò)傳送裝置6，從第二干燥室4的輸出端輸出，轉(zhuǎn)移至注漿工作臺(tái)1上，并于注漿工作臺(tái)1上完成注漿過(guò)程；然后利用人工或機(jī)械手將注漿后的石膏模轉(zhuǎn)移至倒?jié){工作臺(tái)2上，將石膏模中多余的泥漿倒出，并將倒?jié){后帶有柸泥層石膏模轉(zhuǎn)移至第一干燥室3輸入端的傳送工位61上，被傳送至第一干燥室3內(nèi)進(jìn)行干燥，使得柸泥層縮水與石膏模脫離后從第一干燥室3輸出端輸出，利用人工或機(jī)械手取出柸體，并放置在第三干燥室5輸入端的傳送工位61上，同時(shí)將石膏模清理干凈，放置在第二干燥室4輸入端的傳送工位61上。經(jīng)第三干燥室5干燥后的柸體即為成品，經(jīng)第二干燥室4干燥后的石膏模從第二干燥室4輸出端輸出后，用于下一注漿循環(huán)工序中。

整個(gè)注漿成形過(guò)程連續(xù)進(jìn)行，使注漿、倒?jié){、干燥、脫模等工序可以同時(shí)進(jìn)行，大大節(jié)約了時(shí)間，同時(shí)，石膏模在整個(gè)過(guò)程中被不斷地循環(huán)利用，無(wú)需大量空間放置閑置的石膏模，節(jié)約石膏模數(shù)量和占用空間，極大地提高了生產(chǎn)效率。

如圖2所示，上述陶瓷注漿成形生產(chǎn)線中，所述注漿工作臺(tái)1包括設(shè)有多個(gè)注漿工位111的旋轉(zhuǎn)臺(tái)11，驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)臺(tái)旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動(dòng)裝置12，設(shè)置在旋轉(zhuǎn)臺(tái)11上方、與注漿工位111相對(duì)應(yīng)的注漿機(jī)構(gòu)13和中央控制器14，旋轉(zhuǎn)臺(tái)11中心設(shè)有第一探測(cè)頭15，所述驅(qū)動(dòng)裝置12、第一探測(cè)頭15和注漿機(jī)構(gòu)13均與中央控制器14連接，所述第一探測(cè)頭15用于檢測(cè)旋轉(zhuǎn)至注漿機(jī)構(gòu)13正下方的注漿工位111中是否有石膏模，并向中央控制器14發(fā)送信號(hào)。在進(jìn)行注漿時(shí)，干燥后的石膏模被轉(zhuǎn)移至旋轉(zhuǎn)臺(tái)11上的注漿工位111中，并隨旋轉(zhuǎn)臺(tái)11轉(zhuǎn)動(dòng)，第一探測(cè)頭15對(duì)旋轉(zhuǎn)至注漿機(jī)構(gòu)13正下方的注漿工位111進(jìn)行檢測(cè)，當(dāng)檢測(cè)到注漿機(jī)構(gòu)13正下方的注漿工位13上有石膏模時(shí)，向中央控制器14發(fā)送信號(hào)，通過(guò)驅(qū)動(dòng)裝置12使旋轉(zhuǎn)臺(tái)11停止轉(zhuǎn)動(dòng)，此時(shí)，啟動(dòng)注漿機(jī)構(gòu)13，對(duì)石膏模進(jìn)行注漿，注漿完成后，再次啟動(dòng)驅(qū)動(dòng)裝置12，旋轉(zhuǎn)臺(tái)繼續(xù)轉(zhuǎn)動(dòng)，第一探測(cè)頭15對(duì)下一注漿工位111進(jìn)行檢測(cè)。利用轉(zhuǎn)動(dòng)的旋轉(zhuǎn)臺(tái)11，使得待注漿的石膏模隨旋轉(zhuǎn)臺(tái)11不斷轉(zhuǎn)動(dòng)，當(dāng)經(jīng)過(guò)注漿機(jī)構(gòu)13下方時(shí)被檢測(cè)到并進(jìn)行自動(dòng)注漿，無(wú)需對(duì)位于注漿工作臺(tái)1上不同位置的石膏模進(jìn)行人工移動(dòng)注漿，進(jìn)一步提高本生產(chǎn)線的自動(dòng)化程度。

作為優(yōu)選的實(shí)施方式，如圖1所示，所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)11上的注漿工位111沿著旋轉(zhuǎn)臺(tái)11半徑方向成排分布，所述注漿機(jī)構(gòu)13包括設(shè)有多個(gè)與中央控制器14連接的升降裝置131，和分別與多個(gè)升降裝置131連接的多個(gè)注漿槍132，所述注漿槍132與旋轉(zhuǎn)臺(tái)11上每排中多個(gè)注漿工位111的位置相對(duì)應(yīng)。當(dāng)一排注漿工位111轉(zhuǎn)動(dòng)至注漿機(jī)構(gòu)13正下方時(shí)，如上所述，第一探測(cè)頭15對(duì)其進(jìn)行檢測(cè)，并向中央控制器14發(fā)送信號(hào)，如果此排注漿工位111上一個(gè)以上的石膏模，則旋轉(zhuǎn)臺(tái)11停止轉(zhuǎn)動(dòng)，通過(guò)升降裝置131控制與該排注漿工位中各個(gè)石膏模相對(duì)應(yīng)的注漿槍132降落，對(duì)其對(duì)應(yīng)的石膏模進(jìn)行注漿，實(shí)現(xiàn)多個(gè)石膏模同時(shí)注漿，進(jìn)一步提高生產(chǎn)效率。

進(jìn)一步優(yōu)選的，如圖2，所述每個(gè)注漿槍132的底端均設(shè)有第二探測(cè)頭16，用于探測(cè)注漿槍對(duì)應(yīng)的注漿工位111上是否有石膏模，并發(fā)送信號(hào)給中央控制器14，如果注漿槍132對(duì)應(yīng)的注漿工位111上有石膏模，則中央控制器14發(fā)出命令，利用升降裝置131使該注漿槍132下降并對(duì)其下方的石膏模進(jìn)行注漿?？梢宰詣?dòng)判斷停留于注漿機(jī)構(gòu)13正下方的一排注漿工位111中，哪些工位放置有石膏模，然后自動(dòng)選擇啟動(dòng)對(duì)應(yīng)的注漿槍132，無(wú)需人工選擇啟動(dòng)哪個(gè)注漿槍。

本實(shí)施例中，所述注漿槍132與中央控制器14連接，中央控制器14根據(jù)第二探測(cè)頭16反饋的信號(hào)，獲取注漿槍132對(duì)應(yīng)固定工位上石膏模的高度，并根據(jù)石膏模的高度自動(dòng)控制注漿槍132的注漿量。提高效率的同時(shí)，確保注漿量的準(zhǔn)確性。

本實(shí)施例還公開(kāi)了利用上述生產(chǎn)線的陶瓷注漿成形生產(chǎn)工藝，其中，包括以下步驟：

步驟100：干燥后的石膏模通過(guò)傳送裝置6，從第二干燥室4的輸出端輸出，轉(zhuǎn)移至注漿工作臺(tái)1上，并于注漿工作臺(tái)1上完成注漿過(guò)程。

步驟200：將注漿后的石膏模轉(zhuǎn)移至倒?jié){工作臺(tái)2上，并將石膏模中多余的泥漿倒出。

步驟300：將倒?jié){后帶有柸泥層石膏模轉(zhuǎn)移至干第一干燥室3中傳送裝置6的傳送工位61上，傳送至第一干燥室3進(jìn)行干燥，使得柸泥層縮水與石膏模脫離，經(jīng)第一干燥室3輸出端輸出后，取出柸體，同時(shí)將石膏模清理干凈；

步驟400：將取出的柸體轉(zhuǎn)移至第三干燥室5輸入端的傳送工位61上，傳送至第三干燥室5干燥后即得成品；同時(shí)將清理干凈的石膏模轉(zhuǎn)移至第二干燥室4輸入端的傳送工位61上，傳送至第二干燥室4中完成干燥，并從第二干燥室4輸出端輸出，用于下一循環(huán)中。

上述步驟110可以利用傳動(dòng)注漿方法完成，本實(shí)施例優(yōu)選通過(guò)以下步驟實(shí)現(xiàn)：

步驟110：干燥后的石膏模被轉(zhuǎn)移至注漿工作臺(tái)1中的旋轉(zhuǎn)臺(tái)11上的注漿工位111中，并隨旋轉(zhuǎn)臺(tái)1轉(zhuǎn)動(dòng)；

步驟120：利用旋轉(zhuǎn)臺(tái)1中心的第一探測(cè)頭15對(duì)旋轉(zhuǎn)至注漿機(jī)構(gòu)13正下方的注漿工位111進(jìn)行檢測(cè)，當(dāng)檢測(cè)到注漿機(jī)構(gòu)13正下方的注漿工位上有石膏模時(shí)，向中央控制器14發(fā)送信號(hào)，通過(guò)驅(qū)動(dòng)裝置12使旋轉(zhuǎn)臺(tái)11停止旋轉(zhuǎn)；

步驟130：?jiǎn)?dòng)注漿機(jī)構(gòu)13，對(duì)其正下方的石膏模進(jìn)行注漿，注漿完成后，再次啟動(dòng)驅(qū)動(dòng)裝置12，旋轉(zhuǎn)臺(tái)11繼續(xù)轉(zhuǎn)動(dòng)，第一探測(cè)頭15對(duì)下一注漿工位11進(jìn)行檢測(cè)。

作為優(yōu)選的實(shí)施方式，上述步驟130中，啟動(dòng)注漿機(jī)構(gòu)13后，所述注漿槍132底端的第二探測(cè)頭16對(duì)注漿槍132對(duì)應(yīng)的注漿工位111進(jìn)行檢測(cè)，并發(fā)送信號(hào)給中央控制器14，如果注漿槍132對(duì)應(yīng)的固定工位111上有石膏模，則中央控制器14發(fā)出命令，使該注漿槍132降落并對(duì)相應(yīng)的石膏模進(jìn)行注漿。

進(jìn)一步的，所述中央控制器14根據(jù)第二探測(cè)頭16反饋的信號(hào)，獲取注漿槍132對(duì)應(yīng)注漿工位上石膏模的高度，并根據(jù)石膏模的高度自動(dòng)控制注漿槍132的注漿量。

以上對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了詳細(xì)的介紹，對(duì)本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，可以根據(jù)上述說(shuō)明加以改進(jìn)或變換，而所有這些改進(jìn)和變換都應(yīng)屬于本發(fā)明所附權(quán)利要求的保護(hù)范圍。