本實(shí)用新型涉及建筑裝飾技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種瓷磚定位固定架。

背景技術(shù)：

瓷磚，磁磚，是以耐火的金屬氧化物及半金屬氧化物，經(jīng)由研磨、混合、壓制、施釉、燒結(jié)之過程，而形成的一種耐酸堿的瓷質(zhì)或石質(zhì)等，建筑或裝飾材料，稱之為瓷磚。其原材料多由粘土、石英砂等等混合而成。實(shí)際過程中，瓷磚的接縫很影響美觀性，也相當(dāng)考驗(yàn)建筑師傅的手藝，并且費(fèi)時(shí)費(fèi)力。如何做到快速美觀，成為了影響建筑裝修成本的主要問題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型的目的在于針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的缺陷和不足，提供一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，設(shè)計(jì)合理、使用方便的一種瓷磚定位固定架，它采用方形截面的固定卡塊形成的方形結(jié)構(gòu)，設(shè)置上隔板能夠起到良好的表面平整效果，從而達(dá)到瓷磚定位平整的效果，且它具有使用方便，操作簡(jiǎn)單，實(shí)用性好，成本低廉等特點(diǎn)。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是：

本實(shí)用新型所述的一種瓷磚定位固定架，包括固定卡塊，所述固定卡塊截面呈方形，所述固定卡塊上表面設(shè)置有凹槽，所述固定卡塊圍成方形結(jié)構(gòu)，所述凹槽呈半圓槽，所述固定卡塊下端設(shè)置有支架，所述固定卡塊內(nèi)側(cè)設(shè)置有上層的上隔板和底座板。

所述固定卡塊采用聚乙烯材料，所述支架采用不銹鋼螺絲，固定卡塊采用聚乙烯材料，能夠充分利用聚乙烯材料的防腐性與化學(xué)穩(wěn)定性，能夠保證其使用壽命，采用不銹鋼螺絲作為支架，能夠通過支架來達(dá)到固定卡塊的穩(wěn)定與水平。

所述上隔板采用金屬過濾板，所述上隔板采用40ppi的金屬網(wǎng)孔結(jié)構(gòu)，金屬過濾板的設(shè)置具有良好的過濾效果，能夠?qū)λ嗥鸬搅己玫暮Y濾效果，具有良好的快速凝固效果，同時(shí)也保證固定架表面的平穩(wěn)，便于瓷磚的固定。

采用上述結(jié)構(gòu)后，本實(shí)用新型有益效果為：本實(shí)用新型它采用方形截面的固定卡塊形成的方形結(jié)構(gòu)，設(shè)置上隔板能夠起到良好的表面平整效果，從而達(dá)到瓷磚定位平整的效果；采用支架作為支撐桿，形成良好的支撐效果，同時(shí)支架之間空隙能夠采用水泥填補(bǔ)，防止漏縫出現(xiàn)；且它具有使用方便，操作簡(jiǎn)單，實(shí)用性好，成本低廉等特點(diǎn)。

附圖說明

圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是本實(shí)用新型的截面示意圖

附圖標(biāo)記說明：

1、固定卡塊；2、支架；3、凹槽；4、上隔板；5、底座板。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的說明。

如圖1和圖2所示，本實(shí)用新型所述的一種瓷磚定位固定架，包括固定卡塊1，所述固定卡塊1截面呈方形，所述固定卡塊1上表面設(shè)置有凹槽3，所述固定卡塊1圍成方形結(jié)構(gòu)，所述凹槽3呈半圓槽，所述固定卡塊1下端設(shè)置有支架2，所述固定卡塊1內(nèi)側(cè)設(shè)置有上層的上隔板4和底座板5。

所述固定卡塊1采用聚乙烯材料，所述支架2采用不銹鋼螺絲，固定卡塊采用聚乙烯材料，能夠充分利用聚乙烯材料的防腐性與化學(xué)穩(wěn)定性，能夠保證其使用壽命，采用不銹鋼螺絲作為支架，能夠通過支架來達(dá)到固定卡塊的穩(wěn)定與水平。

所述上隔板4采用金屬過濾板，所述上隔板4采用40ppi的金屬網(wǎng)孔結(jié)構(gòu)，金屬過濾板的設(shè)置具有良好的過濾效果，能夠?qū)λ嗥鸬搅己玫暮Y濾效果，具有良好的快速凝固效果，同時(shí)也保證固定架表面的平穩(wěn)，便于瓷磚的固定。

本實(shí)用新型它采用方形截面的固定卡塊形成的方形結(jié)構(gòu)，設(shè)置上隔板能夠起到良好的表面平整效果，從而達(dá)到瓷磚定位平整的效果；采用支架作為支撐桿，形成良好的支撐效果，同時(shí)支架之間空隙能夠采用水泥填補(bǔ)，防止漏縫出現(xiàn)；且它具有使用方便，操作簡(jiǎn)單，實(shí)用性好，成本低廉等特點(diǎn)。

以上所述僅是本實(shí)用新型的較佳實(shí)施方式，故凡依本實(shí)用新型專利申請(qǐng)范圍所述的構(gòu)造、特征及原理所做的等效變化或修飾，均包括于本實(shí)用新型專利申請(qǐng)范圍內(nèi)。