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      一種硅片切割裝置的制造方法

      文檔序號(hào):10452392閱讀:599來(lái)源:國(guó)知局
      一種硅片切割裝置的制造方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001] 本實(shí)用新型涉及硅片加工領(lǐng)域,尤其涉及一種硅片切割裝置。
      【背景技術(shù)】
      [0002] 目前,現(xiàn)有的硅片多線(xiàn)切割方法是指通過(guò)高速運(yùn)動(dòng)的鋼線(xiàn)帶動(dòng)附著在上面的切割 刃料對(duì)硅錠或硅塊進(jìn)行摩擦,從而達(dá)到切割效果。在整個(gè)過(guò)程中,切割鋼線(xiàn)通過(guò)十幾個(gè)導(dǎo)線(xiàn) 輪的引導(dǎo),在導(dǎo)線(xiàn)輪上形成一張切割鋼線(xiàn)網(wǎng),而待加工的硅錠或硅塊通過(guò)工作臺(tái)從上至下 的運(yùn)動(dòng)實(shí)現(xiàn)硅錠或硅塊的進(jìn)給,以將硅錠或硅塊切割成數(shù)以千計(jì)的薄片。
      [0003] 常用的娃片切割裝置一般包括切割室、回流缸系統(tǒng)和砂衆(zhòng)缸,回流缸系統(tǒng)包括回 流缸、熱交換器和電機(jī)等設(shè)備,該硅片切割機(jī)在運(yùn)行時(shí),切割室中的砂漿會(huì)先進(jìn)入回流缸系 統(tǒng)中,然后通過(guò)回流缸系統(tǒng)再進(jìn)入砂漿缸中,技術(shù)人員認(rèn)為回流缸系統(tǒng)可以起到降低砂漿 中雜質(zhì)的作用,但實(shí)際生產(chǎn)過(guò)程中,回流缸系統(tǒng)很難顯著地降低砂漿中的雜質(zhì),另外,由于 使用了回流缸系統(tǒng),會(huì)增加砂漿循環(huán)系統(tǒng)中總的漿料量,導(dǎo)致切割輔料成本的浪費(fèi);同時(shí)由 于回流缸控制系統(tǒng)較為繁雜,增加了切割過(guò)程報(bào)警停機(jī)的幾率,導(dǎo)致硅片切割良品率的下 降。 【實(shí)用新型內(nèi)容】
      [0004] 為解決上述問(wèn)題,本實(shí)用新型旨在提供一種硅片切割裝置,所述硅片切割機(jī)裝置 不包括回流缸系統(tǒng),將切割室與砂漿缸直接連接,切割室中的砂漿直接進(jìn)入回流缸系統(tǒng)中, 大大降低了硅片的切割成本。
      [0005] 本實(shí)用新型提供了一種硅片切割裝置,包括切割室和砂漿缸,所述切割室與所述 砂衆(zhòng)缸通過(guò)管道連接。
      [0006] 優(yōu)選地,所述切割室設(shè)有出口,所述砂漿缸設(shè)有入口,所述管道的一端與所述切割 室的出口連接,所述管道的另一端與所述切割室的入口連接。
      [0007] 更優(yōu)選地,所述切割室出口的高度大于所述砂漿缸的液位高度。
      [0008] 通過(guò)降低所述砂漿缸的高度或者提高所述切割室的高度,以使所述切割室出口的 高度大于所述砂漿缸的液位高度。
      [0009] 當(dāng)所述切割室出口的高度大于所述砂漿缸的液位高度時(shí),所述切割室中的砂漿會(huì) 自動(dòng)從所述切割室流到所述砂漿缸,進(jìn)一步降低了硅片切割成本。
      [0010]在線(xiàn)鋸切割機(jī)的切割過(guò)程中,由于多(單)晶硅為堅(jiān)硬的脆性材料,其難免會(huì)產(chǎn)生 切割碎片,而且也有未清理干凈的被剪斷的碎鋼線(xiàn)留在切割室內(nèi),所以砂漿在經(jīng)過(guò)切割室 時(shí),需要利用過(guò)濾網(wǎng)裝置過(guò)濾掉其攜帶的碎片和碎鋼線(xiàn)。
      [0011]優(yōu)選地,所述切割室中設(shè)有過(guò)濾板,所述過(guò)濾板用于去除從所述切割室輸出的所 述砂衆(zhòng)中的雜質(zhì)。
      [0012]在所述切割室中設(shè)置的過(guò)濾板,減少了砂漿中懸浮雜質(zhì)的量,有利于減小硅塊切 割中雜質(zhì)對(duì)鋼線(xiàn)和硅片質(zhì)量的不利影響,即有利于避免雜質(zhì)引起鋼線(xiàn)網(wǎng)跳線(xiàn),延長(zhǎng)鋼線(xiàn)使 用壽命和提高硅片切割面質(zhì)量。
      [0013] 優(yōu)選地,所述過(guò)濾板包括過(guò)濾網(wǎng)支撐體和過(guò)濾網(wǎng),所述過(guò)濾網(wǎng)支撐體包括中空框 架以及由中空框架一側(cè)延伸而成的平板,所述中空框架中設(shè)有用于容納所述過(guò)濾網(wǎng)的空 間。
      [0014] 優(yōu)選地,所述中空框架包括邊框,所述邊框內(nèi)側(cè)設(shè)有卡邊,所述過(guò)濾網(wǎng)卡設(shè)在所述 卡邊上。
      [0015] 優(yōu)選地,所述中空框架相對(duì)設(shè)置的兩個(gè)所述邊框之間設(shè)有隔板,所述隔板上設(shè)有 用于壓緊所述過(guò)濾網(wǎng)的壓板。
      [0016] 優(yōu)選地,所述壓板的截面為T(mén)形。
      [0017] 優(yōu)選地,所述過(guò)濾板通過(guò)膠與所述切割室的內(nèi)壁固定連接。
      [0018] 優(yōu)選地,所述砂漿缸還設(shè)有出口,所述出口通過(guò)另一管道與所述切割室連接,用于 將砂漿運(yùn)輸?shù)剿銮懈钍抑袑?shí)現(xiàn)砂漿的循環(huán)。
      [0019] 現(xiàn)有技術(shù)由于硅片切割裝置中的切割室的液位高度較低,砂漿無(wú)法自流到砂漿缸 中,因此需要使用回流缸系統(tǒng)。本實(shí)用新型提供的硅片切割裝置不包括現(xiàn)有技術(shù)常用的回 流缸系統(tǒng),通過(guò)將所述切割室與所述砂漿缸直接連接,避免了回流缸系統(tǒng)的各項(xiàng)報(bào)警,減少 了砂漿循環(huán)系統(tǒng)內(nèi)的漿料量,大大降低切割輔料成本。另外,由于本實(shí)用新型取消回流缸系 統(tǒng),杜絕了清洗回流缸系統(tǒng)的砂漿排放、降低了車(chē)間的化學(xué)需氧量(C0D)排放。
      [0020] 綜上,本實(shí)用新型有益效果包括:
      [0021] 本實(shí)用新型提供的硅片切割裝置不用設(shè)置回流缸系統(tǒng),大大降低了切割輔料的成 本,同時(shí),本實(shí)用新型的硅片切割裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,便于制造和使用。
      【附圖說(shuō)明】
      [0022] 圖1為現(xiàn)有技術(shù)的硅片切割裝置示意圖;
      [0023] 圖2為本實(shí)用新型提供的硅片切割裝置示意圖;
      [0024] 圖3為現(xiàn)有技術(shù)的過(guò)濾板的結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0025] 圖4為本實(shí)用新型提供的過(guò)濾板的結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0026] 圖5為本實(shí)用新型提供的過(guò)濾網(wǎng)支撐體的結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0027] 圖6為本實(shí)用新型提供的過(guò)濾網(wǎng)的結(jié)構(gòu)示意圖。
      【具體實(shí)施方式】
      [0028] 以下所述是本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式,應(yīng)當(dāng)指出,對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù) 人員來(lái)說(shuō),在不脫離本實(shí)用新型原理的前提下,還可以做出若干改進(jìn)和潤(rùn)飾,這些改進(jìn)和潤(rùn) 飾也視為本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
      [0029] 圖1為現(xiàn)有技術(shù)的硅片切割裝置;從圖1中可以看出,現(xiàn)有技術(shù)的硅片切割裝置包 括切割室1、回流缸系統(tǒng)2和砂漿缸3,切割室1通過(guò)第一管道4與回流缸系統(tǒng)2連接,回流缸系 統(tǒng)2通過(guò)第二管道5與砂漿缸3連接,回流缸系統(tǒng)2包括回流缸21、熱交換器22和電機(jī)23。
      [0030] 圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的硅片切割裝置,從圖2中可以看出,硅片切割裝置 包括切割室10和砂漿缸20,切割室與砂漿缸通過(guò)管道30連接。
      [0031] 本實(shí)用新型實(shí)施方式中,切割室設(shè)有出口 101,砂漿缸設(shè)有入口 201和出口 202,管 道30的一端連接切割室出口 101,管道30的另一端連接砂漿缸入口 201,砂漿缸出口 202可以 與切割室通過(guò)另一管道連接實(shí)現(xiàn)砂漿的循環(huán)使用,或者砂漿缸出口 202可以與砂漿回收處 理裝置連接用于對(duì)砂漿進(jìn)行回收處理。
      [0032]本實(shí)用新型實(shí)施方式中,砂漿缸出口202還設(shè)有熱交換器,用于控制進(jìn)入切割室的 砂漿溫度。
      [0033] 本實(shí)用新型實(shí)施方式中,切割室出口 101的高度大于砂漿缸的液位高度。
      [0034] 本實(shí)用新型一優(yōu)選實(shí)施方式中,通過(guò)降低砂漿缸的高度或者提高切割室的高度, 以使切割室出口的高度大于砂漿缸的液位高度。
      [0035] 當(dāng)切割室的出口高度大于砂漿缸的液位高度時(shí),切割室中的砂漿會(huì)自動(dòng)從切割室 流到砂漿缸,進(jìn)一步降低了硅片切割成本。
      [0036] 本實(shí)用新型實(shí)施方式中,切割室設(shè)有用于輸出切割室中砂漿的栗組。
      [0037] 當(dāng)切割室中的砂漿不能自流至砂漿缸中時(shí),栗組用于將砂漿從切割室中輸送砂漿 至砂漿缸中。
      [0038] 本實(shí)用新型實(shí)施方式中,切割室包括切割室殼體和置于切割室殼體內(nèi)的導(dǎo)輪、設(shè) 置在導(dǎo)輪上的多條鋼線(xiàn)和硅塊夾。
      [0039] 本實(shí)用新型實(shí)施方式中,切割室中設(shè)有過(guò)濾板,過(guò)濾板用于去除從切割室輸出的 砂漿中的雜質(zhì)。
      [0040] 本實(shí)用新型一優(yōu)選實(shí)施方式中,過(guò)濾板為現(xiàn)有常用的過(guò)濾板。
      [0041] 本實(shí)用新型另一優(yōu)選實(shí)施方式中,過(guò)濾板也可以為改進(jìn)的過(guò)濾板。
      [0042] 如圖3所示,現(xiàn)有技術(shù)采用的過(guò)濾板為通過(guò)兩個(gè)過(guò)濾網(wǎng)1和2通過(guò)鉸鏈3固定連接得 到,且過(guò)濾板四周設(shè)有橡膠,然后將該過(guò)濾板置于切割室中用于過(guò)濾砂漿。在過(guò)濾砂漿過(guò)程 中,由于切割室為不規(guī)則
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