本發(fā)明涉及廚具領(lǐng)域，具體而言，涉及一種微弧氧化不粘鍋及其制備方法。

背景技術(shù)：

市面上的不粘鍋多是在基體上噴涂聚四氟乙烯(ptfe)涂料和/或陶瓷涂料(硅溶膠凝膠)，從而在基體上形成一層不粘涂層。這種涂料形成的涂層強(qiáng)度不高，不能使用硬度較高的工具例如鐵鏟來烹飪，而且使用一段時間后，涂層也容易出現(xiàn)劃傷和脫落，影響產(chǎn)品性能。

現(xiàn)有技術(shù)中也有通過在鍋體底部設(shè)置凹凸紋路，以減少食物與鍋底的接觸來實(shí)現(xiàn)不粘的效果。由于這種方式的鍋具沒有涂層，因此可以使用鐵鏟。但是，這種使用凹凸紋路吸油性能有限，且凹凸紋里容易殘留食物殘?jiān)?，不易清洗?/p>

總體來說，目前的不粘鍋普通存在不粘層硬度和耐磨性不好，或不符合食品安全需求的缺陷，現(xiàn)有技術(shù)中缺乏硬度和耐磨性好、膜層成分結(jié)構(gòu)簡單、安全無毒的不粘涂層。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的主要目的在于提供一種微弧氧化不粘鍋及其制備方法，以解決現(xiàn)有技術(shù)中不粘鍋的不粘性能不足的問題。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，根據(jù)本發(fā)明的一個方面，提供了一種微弧氧化不粘鍋，包括：鍋體基材層；微弧氧化膜層，設(shè)置在鍋體基材層上，微弧氧化膜層中設(shè)置有固體潤滑顆粒。

進(jìn)一步地，上述固體潤滑顆粒為石墨顆粒，優(yōu)選石墨顆粒的粒徑為0.5～0.9μm。

進(jìn)一步地，上述微弧氧化膜層的遠(yuǎn)離鍋體基材層的部分為第一微弧氧化膜層，第一微弧氧化膜層的孔隙率為5～30％，優(yōu)選第一微弧氧化膜層的微孔孔徑在3～10μm之間。

進(jìn)一步地，上述微弧氧化膜層的厚度為30～100μm，優(yōu)選第一微弧氧化膜層的厚度為微弧氧化膜層厚度的20～40％。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，根據(jù)本發(fā)明的一個方面，提供了一種微弧氧化不粘鍋的制備方法，該制備方法包括：提供具有固體潤滑顆粒的電解液；利用電解液對鍋體基材層進(jìn)行微弧氧化，在鍋體基材層上形成具有固體潤滑顆粒的微弧氧化膜層。

進(jìn)一步地，上述固體潤滑顆粒為石墨顆粒，優(yōu)選石墨顆粒的粒徑為0.5～0.9μm，進(jìn)一步優(yōu)選電解液中固體潤滑顆粒的含量為5g/l～25g/l。

進(jìn)一步地，上述微弧氧化過程中，控制電源的正負(fù)脈沖占空比為10～50％。

進(jìn)一步地，上述微弧氧化過程中，控制電源的頻率為200～800hz。

進(jìn)一步地，上述微弧氧化過程中，控制電源的正向脈沖為300～700v，負(fù)向脈沖為80～100v。

進(jìn)一步地，上述微弧氧化過程中，控制電源的電流密度為3～4a/dm²。

應(yīng)用本發(fā)明的技術(shù)方案，通過在微弧氧化膜層中設(shè)置固體潤滑顆粒，使微弧氧化膜層形成自潤滑復(fù)合膜層，基于該固體潤滑顆粒的存在，該膜層不僅具有很好的不粘性能，而且不會隨著膜層的磨損使性能下降，反而具有很好的持久不粘性。同時，由于微弧氧化膜層是在基材原位生長的膜層，膜層與鍋體基材層的結(jié)合屬于冶金結(jié)合，結(jié)合強(qiáng)度高，烹飪過程中不會因外力劃擦而損傷脫落，也不會因?yàn)闊崦浝淇s而引起膜層脫落。

附圖說明

構(gòu)成本申請的一部分的說明書附圖用來提供對本發(fā)明的進(jìn)一步理解，本發(fā)明的示意性實(shí)施例及其說明用于解釋本發(fā)明，并不構(gòu)成對本發(fā)明的不當(dāng)限定。在附圖中：

圖1示出了根據(jù)本發(fā)明一種優(yōu)選實(shí)施方式提供的微弧氧化不粘鍋的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2示出了根據(jù)本發(fā)明一種優(yōu)選實(shí)施方式提供的微弧氧化不粘鍋的部分結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3a示出了根據(jù)本發(fā)明一種優(yōu)選實(shí)施例提供的微弧氧化膜層的致密層的放大8000倍掃描電鏡圖；

圖3b示出了根據(jù)本發(fā)明一種優(yōu)選實(shí)施例提供的微弧氧化膜層的致密層的放大20000倍掃描電鏡圖；

圖4a示出了根據(jù)本發(fā)明一種優(yōu)選實(shí)施例提供的微弧氧化膜層的疏松層的放大8000倍掃描電鏡圖；

圖4b示出了根據(jù)本發(fā)明一種優(yōu)選實(shí)施例提供的微弧氧化膜層的疏松層的放大20000倍掃描電鏡圖；

圖5示出了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例1提供的不粘鍋的掃描電鏡圖；以及

圖6示出了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例22提供的不粘鍋的掃描電鏡圖。

其中，上述附圖包括以下附圖標(biāo)記：

10、鍋體基材層；20、微弧氧化膜層；21、致密層；22、疏松層。

具體實(shí)施方式

需要說明的是，在不沖突的情況下，本申請中的實(shí)施例及實(shí)施例中的特征可以相互組合。下面將參考附圖并結(jié)合實(shí)施例來詳細(xì)說明本發(fā)明。

如本申請背景技術(shù)所分析的，現(xiàn)有技術(shù)的現(xiàn)有技術(shù)的不粘鍋的不粘性能不足，為了解決該問題，本申請?zhí)峁┝艘环N微弧氧化不粘鍋及其制備方法。

在本申請一種典型的實(shí)施方式中，提供了一種微弧氧化不粘鍋，如圖1所示，包括鍋體基材層10和微弧氧化膜層20，微弧氧化膜層20設(shè)置在鍋體基材層10上，微弧氧化膜層20中設(shè)置有固體潤滑顆粒。

通過在微弧氧化膜層20中設(shè)置固體潤滑顆粒，使微弧氧化膜層20形成自潤滑復(fù)合膜層，基于該固體潤滑顆粒的存在，該膜層不僅具有很好的不粘性能，而且不會隨著膜層的磨損使性能下降，反而具有很好的持久不粘性。同時，由于微弧氧化膜層20是在基材原位生長的膜層，膜層與鍋體基材層10的結(jié)合屬于冶金結(jié)合，結(jié)合強(qiáng)度高，烹飪過程中不會因外力劃擦而損傷脫落，也不會因?yàn)闊崦浝淇s而引起膜層脫落。

上述微弧氧化膜層20，可以根據(jù)需要進(jìn)行機(jī)械拋光處理。拋光處理后，光潔度更及觸感好，更能獲得消費(fèi)者的喜愛，且上述不粘鍋，不需要噴涂氟樹脂等不粘涂料進(jìn)行修飾，節(jié)約了成本，并且可以進(jìn)行高溫烹飪而涂層不受破壞，適合很多國人的烹飪習(xí)慣。

上述的固體潤滑顆粒采用現(xiàn)有技術(shù)中的表面粗糙度較小的無機(jī)固體顆粒，比如納米二氧化硅、二氧化鈦溶膠、二硫化鉬和石墨顆粒，優(yōu)選上述固體潤滑顆粒為石墨顆粒，優(yōu)選石墨顆粒的粒徑為0.5～0.9μm。

為了保護(hù)微弧氧化膜層20和鍋體基材層10能保持長久的服役狀態(tài)，優(yōu)選上述微弧氧化膜層20的厚度為30～100μm。該厚度相對于現(xiàn)有技術(shù)中的微弧氧化膜層20的厚度較厚，膜層中的孔隙在生長過程中得到了有效的封閉，無貫穿性微孔，腐蝕性介質(zhì)不能直接接觸鍋體基材層10，避免鍋體基材層10受到侵蝕，從而保護(hù)了膜層與基材能保持長久的服役狀態(tài)。

進(jìn)一步地，如圖2所示，上述微弧氧化膜層20的遠(yuǎn)離鍋體基材層的部分為第一微弧氧化膜層22，且第一微弧氧化膜層22的厚度為微弧氧化膜層20厚度的20～40％。上述第一微弧氧化膜層22相對于靠近鍋體基材層的部分微弧氧化膜層的較為疏松，因此將其稱之為疏松層，其余的微弧氧化膜層稱為致密層21，致密層和疏松層犬牙交錯狀，也不易分開。致密層與鍋體基材層之間界面上無大的孔洞，界面結(jié)合良好，且如圖3a和3b所示，圖3a顯示致密層的組織比較分布均勻而且完整，沒有缺陷，結(jié)構(gòu)相當(dāng)，圖3b顯示，致密致密層實(shí)際上是很細(xì)小的片層結(jié)構(gòu)堆積起來的，這些片層排列相當(dāng)緊湊，以至沒有明顯缺陷和空隙，使得致密層硬度高、機(jī)械性能好和耐腐蝕性好；如圖4a和4b所示，圖4a顯示疏松層的組織雜亂，而且能清楚地看見片層結(jié)構(gòu)的大量不均勻分布，高低不平，有很多明顯的孔洞和缺陷；圖4b很清楚的展現(xiàn)了一個出現(xiàn)在疏松層上的孔洞的形貌，從洞的邊緣可以發(fā)現(xiàn)，疏松層的片層結(jié)構(gòu)不如致密層的片層結(jié)果排列致密、牢固。而且在給疏松層照相的時候，這種孔洞的數(shù)量不少，是一個普遍情況，這更進(jìn)一步說明了疏松層不致密性，進(jìn)而導(dǎo)致了疏松層相對于致密層的硬度低，機(jī)械性能差、耐腐蝕性低。上述致密層21的厚度大于疏松層的厚度，進(jìn)一步有效封閉了孔隙，提升了微弧氧化膜層20的耐磨性。由于固體潤滑顆粒的粒徑較小，在上述各圖中沒有顯示出來。

另外，本申請通孔對孔隙率以及孔隙的孔徑大小控制，來進(jìn)一步優(yōu)化孔隙吸附形成的油膜的均勻性，以提高不粘性，優(yōu)選上述第一微弧氧化膜層22的孔隙率為5～30％，上述第一微弧氧化膜層22的微孔孔徑在3～10μm之間。具有上述孔徑的微孔能充分吸收油分子形成油膜層，阻止了食物殘?jiān)案g性溶液進(jìn)入微孔而影響表面的不粘性能；若孔徑過大的話，食物殘?jiān)蚋g性溶液則可能進(jìn)入孔內(nèi)，清洗時不能有效清除，使疏水不粘的表面效應(yīng)不能發(fā)揮；孔徑過小的話，不利于形成足夠面積的油膜，降低不粘的性能。上述孔隙率保證在烹飪食物時，能有效的減小食物與鍋體的接觸面積，達(dá)到不粘的效果。若孔隙率過大，則微弧氧化膜層20的有效支撐面積減小，硬度下降，抗刮耐磨性減弱，降低了涂層的不粘壽命；若孔隙率過小，形成的有效油膜面積也相對減小，烹飪時食物與鍋體緊密接觸，容易導(dǎo)致粘鍋。

為了進(jìn)一步提高微弧氧化膜層20的耐磨性，優(yōu)選上述微弧氧化膜層20的硬度大于等于1600hv。

在本申請一種優(yōu)選的實(shí)施例中，鍋體基材層的基材為鋁或鋁合金，優(yōu)選上述疏松層的主相為γ-al2o3，致密層21的主相為α-al2o3。即由外表面到膜內(nèi)部，α-al2o3體積分?jǐn)?shù)逐漸增加，γ-al2o3相體積分?jǐn)?shù)逐漸減少。當(dāng)鍋體基材層的基材為鈦或鈦合金時，所形成的微弧氧化膜層的主要組成為各種晶相結(jié)構(gòu)的氧化鈦；當(dāng)鍋體基材層的基材為鎂或鎂合金時，所形成的微弧氧化膜層的主要組成為各種晶相結(jié)構(gòu)的氧化鎂。

在本申請另一種典型的實(shí)施方式中，提供了一種微弧氧化不粘鍋的制備方法，該制備方法包括：提供具有固體潤滑顆粒的電解液；利用電解液對鍋體基材層10進(jìn)行微弧氧化，在鍋體基材層10上形成具有固體潤滑顆粒的微弧氧化膜層20。

上述制備方法通過在電解液中加入固體潤滑顆粒，從而在微弧氧化形成微弧氧化膜層20的過程中，固體潤滑顆粒隨之也沉積在微弧氧化膜層20中，進(jìn)行得到具有固體潤滑顆粒的微弧氧化膜層20。由于微弧氧化膜層20中含有固體潤滑顆粒，使微弧氧化膜層20形成自潤滑復(fù)合膜層，基于該固體潤滑顆粒的存在，該膜層不僅具有很好的不粘性能，而且不會隨著膜層的磨損使性能下降，反而具有很好的持久不粘性。同時，由于微弧氧化膜層20是在基材原位生長的膜層，膜層與鍋體基材層10的結(jié)合屬于冶金結(jié)合，結(jié)合強(qiáng)度高，烹飪過程中不會因外力劃擦而損傷脫落，也不會因?yàn)闊崦浝淇s而引起膜層脫落。

上述的固體潤滑顆粒采用現(xiàn)有技術(shù)中的表面粗糙度較小的無機(jī)固體顆粒，優(yōu)選上述固體潤滑顆粒為石墨顆粒，優(yōu)選石墨顆粒的粒徑為0.5～0.9μm。為了控制所形成的微弧氧化膜層20中固體潤滑顆粒的含量在適當(dāng)范圍內(nèi)，優(yōu)選上述電解液中固體潤滑顆粒的含量為5g/l～25g/l。當(dāng)電解液中固體潤滑顆粒的含量過大時，可能會影響微弧氧化膜層的原位生長，當(dāng)含量過小時，其對不粘性的改善太小。

本申請發(fā)明人在對微弧氧化過程進(jìn)行研究時發(fā)現(xiàn)，電源的正負(fù)脈沖占空比(占空比α＝tw/t，tw表示正負(fù)脈沖在一個脈沖周期內(nèi)所占時間，t為脈沖的周期)會對所形成的微弧氧化膜層20的厚度、孔徑大小、孔隙率產(chǎn)生影響，比如占空比太低時，氧化膜很薄且疏松多孔，硬度較低；占空比升高至一定比例時，膜厚增大、微孔孔徑變小、孔隙率也變小；占空比繼續(xù)升高時，此時孔徑變大、孔隙率變大。優(yōu)選上述微弧氧化過程中，控制電源的正負(fù)脈沖占空比為10～50％。以控制微弧氧化膜層20的厚度、孔徑大小和孔隙率形成合適的匹配。

進(jìn)一步地，電源的頻率也會對微弧氧化膜層20的厚度和孔徑形成一定的影響，優(yōu)選上述微弧氧化過程中，控制電源的頻率為200～800hz。該頻率既能保證微弧氧化過程不會出現(xiàn)工件燒蝕的現(xiàn)象，而且也能保證微弧氧化膜層20的厚度和孔徑在理想的范圍內(nèi)。

如背景技術(shù)所提及的，目前所得到的微弧氧化膜層20的硬度均有不足，為了進(jìn)一步提高微弧氧化膜層20的厚度，優(yōu)選在微弧氧化過程中，控制電源的正向脈沖為300～700v，負(fù)向脈沖為80～100v。上述正向脈沖和負(fù)向脈沖的控制有利于提高微弧氧化膜層20的硬度，當(dāng)上述正向脈沖、負(fù)向脈沖和前述的占空比、頻率進(jìn)行配合時，可以將微弧氧化膜層20的硬度提高至1600hv以上。

進(jìn)一步地，為了提高微弧氧化效率，優(yōu)選在上述微弧氧化過程中，控制電源的電流密度為3～4a/dm²。

上述微弧氧化過程中所采用的電解液的主要組成可以參考現(xiàn)有技術(shù)，優(yōu)選本申請的電解液包括2g/l～20g/l硅酸鈉、0.5g/l～2g/l氫氧化鉀以及2g/l～8g/l鎢酸鈉。其中，硅酸鈉用于降低起弧電壓，氫氧化鉀用于控制電解液為堿性，且硅酸鈉和氫氧化鉀不僅可以提供更多的吸附離子，而且電解液的電導(dǎo)率也將提高，因此將導(dǎo)致臨界放電電壓的降低，提高成膜速度。鎢酸鈉的使用主要是調(diào)節(jié)所形成的微弧氧化膜的顏色，可以使氧化膜表面產(chǎn)生明顯的黑化現(xiàn)象；另外，鎢酸鈉的濃度還在一定程度上影響微弧氧化膜層的厚度，比如增大鎢酸鈉濃度，氧化膜厚度增加并且增厚速度變快，但是其對厚度的影響相對于微弧氧化膜層的本身的厚度是微小的，可以忽略。

以下將結(jié)合實(shí)施例和對比例，進(jìn)一步說明本申請的有益效果。

以下微弧氧化過程采用新型的b系列多功能雙極型脈沖微弧氧化電源：一路由三相變壓器將380v、50hz的電網(wǎng)電壓升壓為580v交流輸出，另一路降壓到160v輸出，之后分別通過兩套獨(dú)立的三相調(diào)壓、整流、濾波電路轉(zhuǎn)換為0～750v和0～200v可調(diào)的兩路直流輸出，再經(jīng)過橋式逆變電路將兩路直流疊加為最終的高頻、高壓、雙級性(雙脈沖)、非對稱、占空比可調(diào)的脈動輸出電壓。

實(shí)施例1

成型：使用3系鋁合金3003鋁合金壓鑄、沖壓成型，形成弧形底鋁合金鍋體基材層。

清洗：將上述成型好的鋁合金鍋體基材層清洗后烘干。

上掛：將烘干后的鋁合金鍋體基材層，用夾具裝夾固定放入微弧氧化槽中，鋁合金鍋體基材層接電源的正極，不銹鋼氧化槽接電源負(fù)極。

配置電解液：提供由10g/l硅酸鈉、1g/l氫氧化鉀、5g/l鎢酸鈉以及去離子水組成的基礎(chǔ)電解液；將平均粒徑0.7μm的石墨微粒，按比例用乙醇潤濕、分散并不斷攪拌形成石墨分散液；在攪拌狀態(tài)下將石墨分散液倒入基礎(chǔ)電解液中并持續(xù)攪拌形成電解液，將電解液至于微弧氧化槽中，所得電解液的ph值為11，石墨的含量為20g/l。

微弧氧化：正向脈沖幅值、負(fù)向脈沖幅值、電流密度、頻率為500hz以及電源正、負(fù)脈沖占空比見表1，溫度控制在20～30℃。

下掛：微弧氧化完成后，下掛并烘干得到不粘鍋，采用掃描電鏡對所得到的不粘鍋的部分結(jié)構(gòu)進(jìn)行檢測，檢測結(jié)果見圖5。由圖5可以看出，致密層與鍋體基材層之間界面上無大的孔洞，界面結(jié)合良好，且致密層的晶粒細(xì)小，硬度和絕緣電阻大；疏松層晶粒較粗大，并存在許多孔洞，孔洞周圍又有許多微裂紋向內(nèi)擴(kuò)展。

實(shí)施例2至13

與實(shí)施例1的區(qū)別在于微弧氧化參數(shù)，具體見表1。

實(shí)施例14

與實(shí)施例1的區(qū)別在于電解液中石墨的含量為5g/l。

實(shí)施例15

與實(shí)施例1的區(qū)別在于電解液中石墨的含量為25g/l。

實(shí)施例16

與實(shí)施例1的區(qū)別在于電解液中石墨的含量為28g/l。

實(shí)施例17

與實(shí)施例1的區(qū)別在于，固體潤滑顆粒為納米二氧化硅，電解液中納米二氧化硅的含量為20g/l。

實(shí)施例18

與實(shí)施例1的區(qū)別在于石墨的平均粒徑為0.5μm。

實(shí)施例19

與實(shí)施例1的區(qū)別在于石墨的平均粒徑為0.9μm。

實(shí)施例20

與實(shí)施例1的區(qū)別在于石墨的平均粒徑為1.1μm。

實(shí)施例21

與實(shí)施例1的區(qū)別在于，提供由20g/l硅酸鈉、0.5g/l氫氧化鉀、2g/l鎢酸鈉以及去離子水組成的基礎(chǔ)電解液，所得電解液的ph值為10。

實(shí)施例22

與實(shí)施例1的區(qū)別在于，提供由2g/l硅酸鈉、2g/l氫氧化鉀、8g/l鎢酸鈉以及去離子水組成的基礎(chǔ)電解液，所得電解液的ph值為12。

實(shí)施例23

與實(shí)施例1的區(qū)別在于，鍋體基材層為tc4鈦合金。采用掃描電鏡對所得到的不粘鍋的部分結(jié)構(gòu)進(jìn)行檢測，檢測結(jié)果見圖6。由圖6可以看出，致密層與鍋體基材層之間界面上無大的孔洞，界面結(jié)合良好，且致密層的晶粒細(xì)小，硬度和絕緣電阻大；疏松層晶粒較粗大，并存在許多孔洞，孔洞周圍又有許多微裂紋向內(nèi)擴(kuò)展。

實(shí)施例24

與實(shí)施例1的區(qū)別在于，鍋體基材層為az91d的鎂合金。

對比例1

與實(shí)施例1的區(qū)別在于沒有使用石墨。

對比例2

與實(shí)施例23的區(qū)別在于沒有使用石墨。

對比例3

與實(shí)施例24的區(qū)別在于沒有使用石墨。表1

對實(shí)施例1至23以及對比例1至3所得到的不粘鍋進(jìn)行檢測，其中采用掃描電鏡檢測微弧氧化膜層的厚度、第一微弧氧化膜層的孔徑，并根據(jù)符合gbt-17720-99中孔隙率計(jì)算方法計(jì)算孔隙率，采用hv-1000型顯微硬度計(jì)計(jì)算微弧氧化膜層的硬度，不粘等級參照gb_t32095.2-2015不粘性及耐磨性測試規(guī)范，檢測結(jié)果見表2。

表2

根據(jù)上述表2中的數(shù)據(jù)可以看出，本申請實(shí)施例1至22的不粘鍋的不粘性能均優(yōu)于對比例1的不粘鍋的不粘性能，實(shí)施例23的不粘鍋的不粘性能優(yōu)于對比例2的不粘鍋的不粘性能，實(shí)施例24的不粘鍋的不粘性能優(yōu)于對比例3的不粘鍋的不粘性能，這說明微弧氧化膜層中的石墨的確改善了微弧氧化膜層的不粘性能。根據(jù)實(shí)施例1至3、實(shí)施例4至6以及實(shí)施例7至9的對比可以看出，占空比為10％時，氧化膜很薄且疏松多孔，硬度較低；占空比升高至30％時，膜厚增大、微孔孔徑變小、孔隙率也變?。徽伎毡壤^續(xù)升高至50％時，此時孔徑變大、孔隙率變大。另外，根據(jù)實(shí)施例6和實(shí)施例10的直接對比可以發(fā)現(xiàn)，當(dāng)電源頻率變化時，孔隙率和孔徑大小也會隨之發(fā)生變化。

從以上的描述中，可以看出，本發(fā)明上述的實(shí)施例實(shí)現(xiàn)了如下技術(shù)效果：

通過在微弧氧化膜層中設(shè)置固體潤滑顆粒，使微弧氧化膜層形成自潤滑復(fù)合膜層，基于該固體潤滑顆粒的存在，該膜層不僅具有很好的不粘性能，而且不會隨著膜層的磨損使性能下降，反而具有很好的持久不粘性。同時，由于微弧氧化膜層是在基材原位生長的膜層，膜層與鍋體基材層的結(jié)合屬于冶金結(jié)合，結(jié)合強(qiáng)度高，烹飪過程中不會因外力劃擦而損傷脫落，也不會因?yàn)闊崦浝淇s而引起膜層脫落。

上述微弧氧化膜層，可以根據(jù)需要進(jìn)行機(jī)械拋光處理。拋光處理后，光潔度更及觸感好，更能獲得消費(fèi)者的喜愛，且上述不粘鍋，不需要噴涂氟樹脂等不粘涂料進(jìn)行修飾，節(jié)約了成本，并且可以進(jìn)行高溫烹飪而涂層不受破壞，適合很多國人的烹飪習(xí)慣。

以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例而已，并不用于限制本發(fā)明，對于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說，本發(fā)明可以有各種更改和變化。凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。