本發(fā)明屬于清潔設(shè)備的，尤其涉及種清潔設(shè)備。

背景技術(shù)：

1、清潔設(shè)備內(nèi)部設(shè)置有水處理部件，以對(duì)流經(jīng)水處理部件的水進(jìn)行處理。例如掃地機(jī)器人內(nèi)部設(shè)置有加熱器，利用加熱后的水對(duì)地面進(jìn)行清潔，以提高清潔效果。由于水中含有鈣離子和鎂離子，這些離子在加熱時(shí)，會(huì)形成水垢，水垢會(huì)附著在加熱器的內(nèi)表面，影響加熱效率。經(jīng)過(guò)長(zhǎng)久的使用，水垢會(huì)脫落并在加熱器的內(nèi)堆積，造成堵塞；或者脫落的水垢隨著熱水或熱蒸汽噴出，造成出水管道或出氣管道堵塞；在發(fā)生堵塞的情況下如果清潔設(shè)備持續(xù)生成蒸汽，可能會(huì)導(dǎo)致清潔設(shè)備內(nèi)部的壓力過(guò)大造成高溫蒸汽泄漏的風(fēng)險(xiǎn)，存在較大的安全隱患。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本發(fā)明旨在至少能夠在一定程度上解決用戶水垢造成清潔設(shè)備內(nèi)部堵塞的技術(shù)問(wèn)題。為此，本發(fā)明提供了一種清潔設(shè)備，可以對(duì)第一水處理部件的水垢及時(shí)進(jìn)行清除，防止清潔設(shè)備內(nèi)部堵塞。

2、本發(fā)明還公開(kāi)了一種清潔基站。

3、本發(fā)明還公開(kāi)了一種清潔系統(tǒng)。

4、本發(fā)明還公開(kāi)了一種清潔設(shè)備的除垢方法。

5、本發(fā)明第一方面實(shí)施例提供的清潔設(shè)備，包括

6、清潔部件；

7、第一水處理部件，適用于對(duì)流經(jīng)所述第一水處理部件中的水進(jìn)行處理；

8、第一清水源，用于容納水，并通過(guò)所述第一水處理部件與所述清潔部件流體連通；

9、除垢裝置，連接于所述第一水處理部件，且適用于將所述第一水處理部件的水垢與所述第一水處理部件脫離；

10、所述第一清水源的水可流入所述第一水處理部件并將含有水垢的水排出所述第一水處理部件。

11、在一些實(shí)施方式中，所述除垢裝置適用于對(duì)所述第一水處理部件的水垢進(jìn)行溶解或破碎。

12、在一些實(shí)施方式中，所述除垢裝置包括輸料部件，所述輸料部件與所述第一水處理部件連通，且適用于向所述第一水處理部件輸送除垢劑以溶解水垢。

13、在一些實(shí)施方式中，所述輸料部件包括儲(chǔ)存容器和輸料泵，所述儲(chǔ)存容器適用于存放所述除垢劑，所述輸料泵適用于將所述除垢劑輸送至所述第一水處理部件。

14、在一些實(shí)施方式中，所述除垢劑包括乙酸、檸檬酸、乙醇酸、甲酸、乳酸、磷酸、氨基磺酸和鹽酸中的至少一種。

15、在一些實(shí)施方式中，所述除垢裝置包括換能器，所述換能器能夠利用聲波破碎或抑制水垢。

16、在一些實(shí)施方式中，所述第一清水源為第一清水箱和/或外界水源。

17、在一些實(shí)施方式中，所述第一水處理部件為加熱器，所述加熱器適用于對(duì)水進(jìn)行加熱。

18、在一些實(shí)施方式中，所述清潔設(shè)備還包括過(guò)濾部件，所述過(guò)濾部件設(shè)置于所述第一水處理部件的出口端，且適用于截留未溶解的水垢。

19、在一些實(shí)施方式中，所述過(guò)濾部件包括過(guò)濾器本體和集污盒，所述集污盒可拆卸安裝于所述過(guò)濾器本體上。

20、在一些實(shí)施方式中，所述過(guò)濾部件可拆卸安裝于所述第一水處理部件的出口端。

21、在一些實(shí)施方式中，所述清潔設(shè)備包括流通管道、吸水泵和污水箱；所述流通管道連通所述第一水處理部件，且適用于將所述第一水處理部件內(nèi)的流體排出至待清潔面；所述吸水泵將待清潔面上的臟污吸至污水箱。

22、在一些實(shí)施方式中，所述清潔設(shè)備還包括第一換向閥、輸送管道和污水箱，所述第一換向閥包括第一進(jìn)口和至少兩個(gè)第一出口，所述第一進(jìn)口連通所述第一水處理部件，其中一個(gè)所述第一出口連通所述輸送管道，另一個(gè)所述第一出口連通所述污水箱；所述輸送管道適用于將所述第一水處理部件產(chǎn)生的氣體或液體輸送至清潔部件。

23、在一些實(shí)施方式中，所述清潔設(shè)備還包括水垢檢測(cè)裝置，所述水垢檢測(cè)裝置適用于檢測(cè)第一水處理部件內(nèi)的水垢含量；在所述水垢含量大于設(shè)定值的情況下，所述除垢裝置對(duì)所述第一水處理部件的水垢進(jìn)行溶解或破碎。

24、在一些實(shí)施方式中，所述清潔設(shè)備還包括水垢檢測(cè)裝置以及位于所述清潔部件附近的流體出口，所述第一水處理部件為加熱器，所述加熱器適用于對(duì)水進(jìn)行加熱；所述水垢檢測(cè)裝置包括溫度傳感器，所述溫度傳感器適用于檢測(cè)所述流體出口處的流體溫度。

25、本發(fā)明第二方面實(shí)施例提供了一種清潔基站，包括：

26、第二清水源，用于容納水；

27、第二水處理部件，適用于對(duì)流經(jīng)所述第二水處理部件中的水進(jìn)行處理；第二水處理部件與第二清水源流體連通；

28、除垢裝置，連接于第二水處理部件，且適用于將所述第二水處理部件的水垢與所述第二水處理部件脫離；

29、所述第二清水源的水可流入所述第二水處理部件并將含有水垢的水排出所述第二水處理部件。

30、在一些實(shí)施方式中，所述清潔基站還包括第二換向閥和回收箱，所述第二換向閥包括第二進(jìn)口和至少兩個(gè)第二出口，所述第二進(jìn)口連通所述第二水處理部件，其中一個(gè)所述第二出口連通清潔設(shè)備，另一個(gè)所述第二出口連通所述回收箱。

31、在一些實(shí)施方式中，所述清潔基站包括排污管道，所述排污管道連通所述第二水處理部件，所述排污管道將所述第二水處理部件中含有水垢的水排至外部。

32、在一些實(shí)施方式中，所述第二清水源為第二清水箱和/或外界水源。

33、本發(fā)明第三方面實(shí)施例提供了一種清潔系統(tǒng)，包括上述第一方面任意實(shí)施例所述的清潔設(shè)備或上述第二方面任意實(shí)施例所述的清潔基站。

34、本發(fā)明第四方面實(shí)施例提供了一種清潔設(shè)備的除垢方法，基于上述第一方面任意實(shí)施例所述的清潔設(shè)備包括：

35、響應(yīng)于工作指令，控制所述除垢裝置使所述第一水處理部件內(nèi)的水垢脫離所述第一水處理部件；

36、控制所述第一清水源向所述第一水處理部件供水，使得脫離的水垢融入水中形成污水；

37、排出所述第一水處理部件內(nèi)的含有水垢的污水。

38、在一些實(shí)施方式中，所述方法還包括：

39、接收用戶的目標(biāo)輸入；

40、響應(yīng)于所述目標(biāo)輸入，觸發(fā)工作指令。

41、在一些實(shí)施方式中，所述方法還包括：

42、獲取所述第一水處理部件內(nèi)的水垢含量，若所述水垢含量大于設(shè)定值，觸發(fā)工作指令。

43、在一些實(shí)施方式中，所述“響應(yīng)于工作指令，控制所述除垢裝置使所述第一水處理部件內(nèi)的水垢脫離所述第一水處理部件”包括：

44、控制所述除垢裝置向所述第一水處理部件添加除垢劑，使得水垢溶解。

45、在一些實(shí)施方式中，所述“響應(yīng)于工作指令，控制所述除垢裝置使所述第一水處理部件內(nèi)的水垢脫離所述第一水處理部件”包括：

46、控制所述除垢裝置通過(guò)超聲波對(duì)所述第一水處理部件的水垢進(jìn)行破碎。

47、在一些實(shí)施方式中，所述清潔設(shè)備還包括第一換向閥、輸送管道和污水箱，所述第一換向閥包括第一進(jìn)口和至少兩個(gè)第一出口，所述第一進(jìn)口連通所述第一水處理部件，其中一個(gè)所述第一出口連通所述輸送管道，另一個(gè)所述第一出口連通所述污水箱；所述輸送管道適用于將所述第一水處理部件產(chǎn)生的氣體或液體輸送至清潔部件；所述“排出所述第一水處理部件內(nèi)的含有水垢的污水”還包括：

48、控制所述第一換向閥導(dǎo)通污水箱和所述第一水處理部件。

49、本發(fā)明實(shí)施例至少具有如下有益效果：

50、第一清水源的水流向第一水處理部件，第一水處理部件對(duì)流經(jīng)所述第一水處理部件中的水進(jìn)行處理后流至清潔部件，清潔部件可以對(duì)待清潔面進(jìn)行清潔；在除垢模式下，除垢裝置將第一水處理部件的水垢與第一水處理部件脫離，第一清水源中的水流向第一水處理部件，以將第一水處理部件中的含有水垢的水排出第一水處理部件。