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      密封圈和料理機的制作方法_3

      文檔序號:10286610閱讀:來源:國知局
      利于改變聲音的頻率。在其它實施 例中,不同子進氣通道的長度各不相同,如此,可保證不同子進氣通道傳播出來的聲音的頻 率均不同,從而更有利于發(fā)生干涉現(xiàn)象,以減弱聲音能量。
      [0050] 請參照圖12,進一步地,密封圈2的第二端面202上設有若干個沿周向分布的第一 定位凸臺261,第一定位凸臺261的外周壁與杯體13的內(nèi)壁接觸。具體地,第一定位凸臺261 設置多個,如四個,多個第一定位凸臺261均勻分布于第二端面202上。第一定位凸臺261的 設置限定杯體13在密封圈2的徑向方向上的移動,有利于定位。當然,若干個第一定位凸臺 261也可為沿密封圈2的周向依次連接在一起而形成凸環(huán)。
      [0051 ]進一步地,密封圈2的第二端面202設有若干個沿周向分布的第二定位凸臺262,第 二定位凸臺262位于第一定位凸臺261的內(nèi)側(cè),并與第一定位凸臺261徑向相對,當?shù)谝欢ㄎ?凸臺261被擠壓時,第二定位凸臺262與第一定位凸臺261抵頂,以限制第一定位凸臺261的 徑向位移。具體地,密封圈2具有套設于機頭組件上的通孔,第二端面202上設有沿通孔的周 緣布設的環(huán)形凸圈263,環(huán)形凸圈263用于延長通孔孔壁軸向方向的長度,增大機頭組件與 通孔孔壁的接觸面積,從而更有利于安裝。第二定位凸臺262設置在環(huán)形凸圈263的周壁上, 并向遠離環(huán)形凸圈263的中心的方向延伸。安裝時,由于杯體13的內(nèi)壁對第一定位凸臺261 會造成徑向擠壓,因此在鄰近第一定位凸臺261的位置設置第二定位凸臺262以在第一定位 凸臺261發(fā)生較大變形時進行抵頂,防止第一定位凸臺2611彎曲過大。
      [0052]本實用新型還提出一種料理機,請再次參考圖1和圖2,該料理機包括杯體13和扣 合在杯體13上的機頭組件,杯體13和機頭組件之間設有如上的密封圈2。密封圈2的具體結(jié) 構(gòu)請參照上述實施例,由于本料理機采用了上述所有實施例的全部技術(shù)方案,因此至少具 有上述實施例的技術(shù)方案所帶來的所有有益效果,在此不再一一贅述。其中,該料理機具體 可以是料理機、榨汁機等,本實施例僅以豆?jié){機為例進行說明,但不限于此。
      [0053] 上述豆?jié){機的機頭組件包括位于杯體13外的蓋體11,以及設置在蓋體11一端面上 的并收容于杯體13內(nèi)的電機殼體12。電機殼體12內(nèi)安裝有電機,該電機連接有一轉(zhuǎn)軸14,且 該轉(zhuǎn)軸14凸伸出電機殼體12背離蓋體11的一端,凸伸出電機殼體12的一端轉(zhuǎn)軸14上安裝有 粉碎件15。當機頭組件蓋合在杯體13上時,凸伸出電機殼體12的轉(zhuǎn)軸14位于杯體13內(nèi)。該電 機上電后,可帶動轉(zhuǎn)軸14轉(zhuǎn)動,進而帶動粉碎件15對杯體13內(nèi)的食物進行粉碎。
      [0054] 該密封圈2套設于電機殼體12上,具有與機頭組件軸向相對的第一端面201以及與 杯體13軸向相對的第二端面202,第一端面201與杯體13和電機殼體12的連接處貼合,第二 端面202與杯體13的端面貼合。優(yōu)選地,本實施例中,密封圈2與電機殼體12采用過盈配合。 通過采用過盈配合的方式,使密封圈2卡緊在電機殼體12上,防止滑落,并且該直接套接卡 緊的安裝方式更加簡單。密封圈的厚度優(yōu)選在Imm至3mm之間,硬度值優(yōu)選為洛氏40度至60 度。
      [0055] 請參照圖11,當豆?jié){機內(nèi)氣壓增大時,高壓氣體撐開第一進氣縫隙241和第二進氣 縫隙242排出,此時聲音也跟隨氣體排出。聲音在進氣通道22與消音腔21的連接處分流,形 成三部分,其中一部分聲音,即中心聲音直接從排氣通道23傳至杯體13外部,另外兩部分聲 音,即邊緣聲音,分別傳播至兩消音腔21內(nèi)。由于消音腔21的頂壁211傾斜設置,因此對邊緣 聲音具有引導作用,使得邊緣聲音沿著頂壁211的傾斜方向朝側(cè)壁212方向傳播,并順著側(cè) 壁212朝底壁213方向回旋,如此而在消音腔21內(nèi)形成渦旋,此時,聲音的傳播速度大大下 降,且聲音的頻率和幅值也被不斷改變,不同頻率和幅值的聲音在消音腔21內(nèi)相互干涉,使 得聲音的能量大大減弱。最終邊緣聲音沿著底壁213傳播至與中心聲音匯合。由于邊緣聲音 在與中心聲音匯合時的傳播方向是與中心聲音的傳播方向垂直,或朝進氣通道22方向傾斜 的,因此邊緣聲音對中心聲音具有擠壓作用。當邊緣聲音傳播方向與中心聲音傳播方向垂 直時,兩邊緣聲音同時擠壓中心聲音,且兩邊緣聲音之間也相互擠壓,并相互干涉,使得最 終匯合后的聲音的速度下降,能量得到減弱。當邊緣聲音傳播方向朝中心聲音傳播方向的 相反方向傾斜時,兩邊緣聲音同時朝進氣通道22方向擠壓中心聲音,使得中心聲音的傳播 速度下降,且匯合后的聲音的速度大大下降。該豆?jié){機通過利用密封圈消音腔21使聲音形 成渦旋的消音原理,使得傳至杯體外的聲音的速度較低,能量也被大大消耗,如此而達到降 噪目的。
      [0056] 以上僅為本實用新型的優(yōu)選實施例,并非因此限制本實用新型的專利范圍,凡是 在本實用新型的發(fā)明構(gòu)思下,利用本實用新型說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)變換,或 直接/間接運用在其他相關(guān)的技術(shù)領域均包括在本實用新型的專利保護范圍內(nèi)。
      【主權(quán)項】
      1. 一種密封圈,設置在料理機的杯體和機頭組件之間,具有與所述機頭組件軸向相對 的第一端面以及與所述杯體軸向相對的第二端面,其特征在于,所述第一端面上設有至少 一個沿所述密封圈周向分布的消音機構(gòu)和連通所述杯體內(nèi)部的進氣結(jié)構(gòu); 所述消音機構(gòu)具有至少一消音腔,連通所述消音腔和所述進氣機構(gòu)的進氣通道、連通 所述消音腔與所述杯體外部的排氣通道,所述消音腔具有開設所述進氣通道的底壁、與所 述底壁相對并開設所述排氣通道的頂壁、以及連接所述底壁和所述頂壁的側(cè)壁,從所述進 氣通道進入的氣流沿頂壁、側(cè)壁和底壁產(chǎn)生渦旋。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的密封圈,其特征在于,所述消音腔的頂壁具有與所述進氣通道 的噴氣方向相對的反射段,所述反射段傾斜設置,且所述反射段與所述底壁之間的距離自 所述側(cè)壁朝所述進氣通道的方向上逐漸減小。3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的密封圈,其特征在于,所述消音腔的頂壁具有與所述進氣通道 的噴氣方向相對的反射段,所述反射段朝遠離所述底壁的方向凹陷成圓弧狀,且所述頂壁 與所述底壁之間的距離自所述側(cè)壁朝所述進氣通道的方向上逐漸減小。4. 根據(jù)權(quán)利要求1至3任意一項所述的密封圈,其特征在于,所述消音機構(gòu)包括至少一 對消音腔,所述每對消音腔對稱設置在所述進氣通道的兩側(cè)。5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的密封圈,其特征在于,所述進氣通道和所述排氣通道沿所述密 封圈的徑向設置,每對所述消音腔沿所述密封圈的周向設置。6. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的密封圈,其特征在于,所述進氣通道和所述排氣通道沿所述密 封圈的周向設置,每對所述消音腔沿所述密封圈的徑向設置。7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的密封圈,其特征在于,所述消音機構(gòu)具有兩個消音腔,兩個所 述消音腔對稱設置在所述進氣通道的兩側(cè),所述消音腔的頂壁傾斜設置,且所述頂壁與所 述底壁之間的距離自所述側(cè)壁朝所述進氣通道的方向上逐漸減小;兩個所述消音腔的頂壁 之間形成夾角,所述夾角的范圍為110度至130度。8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的密封圈,其特征在于,兩所述消音腔側(cè)壁之間的距離與所述進 氣通道的寬度的比值為5.5至6.5。9. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的密封圈,其特征在于,所述底壁的與所述進氣通道連接的一 端,到所述頂壁的與所述排氣通道連接的一端之間的距離,與所述進氣通道的寬度的比值 為2.3至2.5。10. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的密封圈,其特征在于,所述排氣通道的寬度與所述進氣通道 的寬度的比值為1.2至1.3。11. 一種料理機,包括杯體和扣合在所述杯體上的機頭組件,其特征在于,所述杯體和 機頭組件之間設有如權(quán)利要求1至10任意一項所述的密封圈,所述密封圈套設于所述機頭 組件上,所述密封圈具有與所述機頭組件軸向相對的第一端面以及與所述杯體軸向相對的 第二端面,所述第一端面與所述機頭組件貼合,所述第二端面與所述杯體的端面貼合。
      【專利摘要】本實用新型公開一種密封圈和料理機,其中,所述密封圈設置在料理機的杯體和機頭組件之間,具有與所述機頭組件軸向相對的第一端面以及與所述杯體軸向相對的第二端面,所述第一端面上設有至少一個沿所述密封圈周向分布的消音機構(gòu)和連通所述杯體內(nèi)部的進氣結(jié)構(gòu);所述消音機構(gòu)具有至少一消音腔,連通消音腔和進氣機構(gòu)的進氣通道、連通消音腔與杯體外部的排氣通道;所述消音腔具有開設進氣通道的底壁、與底壁相對并開設排氣通道的頂壁、以及連接底壁和頂壁的側(cè)壁,從所述進氣通道進入的氣流沿頂壁、側(cè)壁和底壁產(chǎn)生渦旋。本實用新型技術(shù)方案能夠有效降低噪音的能量,以對料理機達到降噪目的。
      【IPC分類】A47J43/07
      【公開號】CN205197848
      【申請?zhí)枴緾N201520917453
      【發(fā)明人】梅長云, 常見虎, 潘典國, 伍世潤, 何新華
      【申請人】佛山市順德區(qū)美的電熱電器制造有限公司, 美的集團股份有限公司
      【公開日】2016年5月4日
      【申請日】2015年11月16日
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