技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于水利灌溉技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種水利灌溉儲(chǔ)水系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
目前的灌溉方式多以開挖渠道引水為主，但是渠道引水灌溉每年需要花費(fèi)大量的人工物力去清理渠道內(nèi)的垃圾和淤泥，不僅維護(hù)成本高，而且水力資源浪費(fèi)很大，因此出現(xiàn)了采用噴灌方式來澆灌，但是噴灌的方式多少對(duì)農(nóng)作物進(jìn)行大面積噴灑，其灌溉不均勻，導(dǎo)致植物生產(chǎn)參差不齊，且以往的作物灌溉只是進(jìn)行水灌溉，像作物施肥都要人工另外進(jìn)行， 因此傳統(tǒng)的灌溉設(shè)備不僅灌溉效果差，且花費(fèi)成本高，只具有單一的灌溉功能。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
本發(fā)明為了彌補(bǔ)現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，提供了一種水利灌溉儲(chǔ)水系統(tǒng)。
本發(fā)明是通過如下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的：
一種水利灌溉儲(chǔ)水系統(tǒng)，包括儲(chǔ)水井、水泵、井帽和電控箱，所述儲(chǔ)水井位于地表上的一端設(shè)有井帽，井帽上設(shè)有電控箱，所述儲(chǔ)水井內(nèi)設(shè)有水泵，儲(chǔ)水井位于地表上的一側(cè)開有出水窗，所述水泵連通的出水管由出水窗延伸出并位于出水窗外的出水管上設(shè)有出水電磁閥，所述儲(chǔ)水井位于地表上的一側(cè)設(shè)有集水管，集水管上設(shè)有集水電磁閥并延伸至儲(chǔ)水井內(nèi)，所述井帽上設(shè)有電控箱，電控箱內(nèi)設(shè)有控制器，集水井內(nèi)設(shè)有水位傳感器，所述集水電磁閥、出水電磁閥和水泵分別通過控制器進(jìn)行控制。
進(jìn)一步，所述控制器為智能控制器，通過水位傳感器接收的信號(hào)控制集水管上的集水電磁閥進(jìn)行工作。
進(jìn)一步，所述集水管與湖水引流系統(tǒng)連通。
進(jìn)一步，所述儲(chǔ)水井位于地表上的高度為50-80厘米。
進(jìn)一步，所述儲(chǔ)水井內(nèi)壁設(shè)有防滲層。
本發(fā)明的有益效果是：本發(fā)明一種水利灌溉儲(chǔ)水系統(tǒng)結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，造價(jià)成本低廉，實(shí)現(xiàn)了對(duì)灌溉流程的自動(dòng)控制，減少人工成本，作物灌溉均勻且可配合肥料灌溉，引水儲(chǔ)存，減少水資源浪費(fèi)。
附圖說明
下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步的說明。
附圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖中，1儲(chǔ)水井，2水泵，3出水窗，4 集水管，5井帽，6電控箱，7控制器，8水位傳感器，9集水電磁閥，10出水電磁閥，11出水管，12防滲層。
具體實(shí)施方式
附圖1為本發(fā)明的一種具體實(shí)施例。該發(fā)明一種水利灌溉儲(chǔ)水系統(tǒng)，包括儲(chǔ)水井1、水泵2、井帽5和電控箱6，所述儲(chǔ)水井1位于地表上的一端設(shè)有井帽5，井帽5上設(shè)有電控箱6，所述儲(chǔ)水井1內(nèi)設(shè)有水泵2，儲(chǔ)水井1位于地表上的一側(cè)開有出水窗3，所述水泵2連通的出水管11由出水窗3延伸出并位于出水窗3外的出水管11上設(shè)有出水電磁閥10，所述儲(chǔ)水井1位于地表上的一側(cè)設(shè)有集水管4，集水管4上設(shè)有集水電磁閥9并延伸至儲(chǔ)水井1內(nèi)，所述井帽5上設(shè)有電控箱6，電控箱6內(nèi)設(shè)有控制器7，集水井內(nèi)設(shè)有水位傳感器8，所述集水電磁閥9、出水電磁閥10和水泵2分別通過控制器7進(jìn)行控制。
進(jìn)一步，所述控制器7為智能控制器7，通過水位傳感器8接收的信號(hào)控制集水管4上的集水電磁閥9進(jìn)行工作。
進(jìn)一步，所述集水管4與湖水引流系統(tǒng)連通。
進(jìn)一步，所述儲(chǔ)水井1位于地表上的高度為50-80厘米。
進(jìn)一步，所述儲(chǔ)水井1內(nèi)壁設(shè)有防滲層12。
本發(fā)明不局限于上述實(shí)施方式，任何人應(yīng)得知在本發(fā)明的啟示下作出的與本發(fā)明具有相同或相近的技術(shù)方案，均落入本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
本發(fā)明未詳細(xì)描述的技術(shù)、形狀、構(gòu)造部分均為公知技術(shù)。