本發(fā)明涉及一種撞擊裝置，并且更特別地涉及一種撞擊液壓裝置。

背景技術(shù)：

文獻fr2595972公開了一種撞擊裝置，其包括：

-本體，其限定活塞缸，

-打擊活塞，其在活塞缸內(nèi)交替地移動，并且布置成在撞擊裝置的每個操作循環(huán)期間擊打工具，

-控制分配器，其布置成控制打擊活塞在活塞缸內(nèi)往復地沿擊打沖程和返回沖程的往復移動，

-控制裝置，其布置成根據(jù)由工具所碰到的地面硬度來改變打擊活塞的擊打沖程，該控制裝置包括：

-控制缸，

-多個控制通道，其每個通向控制缸，每個控制通道也通向活塞缸且適于在打擊活塞往復移動的至少一部分期間與高壓流體供應回路相通，

-控制通道，其連接到控制分配器上且通向控制缸，

-控制滑塊，其可移動地安裝在位于多個控制位置之間的控制缸上，該控制滑塊配置成在每個控制位置中將控制通道與多個控制通道中的至少一個流體地連接，

-第一控制室，其由控制滑塊和控制缸來限定，控制滑塊的第一面位于第一控制室中，和

-第二控制室，其由控制滑塊和控制缸來限定且永久地連接到低壓返回回路，控制滑塊的第二面，與第一面相反，位于第二控制室中。

控制裝置進一步包括流量調(diào)節(jié)部件，流量調(diào)節(jié)部件由容積泵形成并與打擊活塞同步驅(qū)動。流量調(diào)節(jié)部件被成形以確保在撞擊裝置的每個操作循環(huán)期間在第一控制室中進入預定量流體。

控制裝置還包括排放通道和連接通道，所述排放通道分別通向活塞缸和第一控制室，所述排放通道配置成經(jīng)由設(shè)置在打擊活塞的周向槽而與低壓返回回路相通；當打擊活塞處于和/或靠近理論上的打擊位置時連接通道永久地連接到低壓返回回路且通向活塞缸。

排放通道配置成在撞擊裝置的每個操作循環(huán)期間排放從第一控制室流出的一定量的流體，這取決于處于和/或靠近其理論上的打擊位置的打擊活塞的停留時間，且因此取決于由工具所碰到的地面硬度。這些配置根據(jù)工具所碰到的地面硬度而允許調(diào)整控制滑塊的位置，并相應地調(diào)整打擊活塞的擊打沖程的長度。

此類撞擊裝置的缺點在于容積泵生產(chǎn)的復雜性。事實上，此類容積泵需要生產(chǎn)植入在一個或多個沉重且昂貴部件中的整流滑塊和孔。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明旨在克服這些缺點。

因此，本發(fā)明的技術(shù)問題在于提供包括簡單和經(jīng)濟的結(jié)構(gòu)的控制裝置的撞擊裝置，同時根據(jù)產(chǎn)生撞擊力的地面硬度而允許自動地調(diào)整打擊活塞的擊打沖程的長度。

為此，本發(fā)明涉及一種撞擊裝置，其包括：

-本體，其限定活塞缸，

-打擊活塞，其以往復的方式移動地安裝在活塞缸內(nèi)，并且布置成在撞擊裝置的每個操作循環(huán)期間擊打工具，

-控制分配器，其布置成控制打擊活塞在活塞缸內(nèi)往復地沿擊打沖程和返回沖程的往復移動，

-控制裝置，其布置成根據(jù)工具所碰到的地面硬度來改變打擊活塞的擊打沖程，該控制裝置包括：

-控制缸，

-多個控制通道，其每個通向控制缸，每個控制通道也通向活塞缸且適于在打擊活塞往復移動的至少一部分期間與高壓流體供應回路相通，

-控制通道，其連接到控制分配器且通向控制缸，

-控制滑塊，其在多個控制位置之間可移動地安裝在控制缸中，該控制滑塊配置成在每個控制位置中將控制通道與多個控制通道中的至少一個流體地連接，

-第一控制室，其由控制滑塊和控制缸來限定，控制滑塊的第一面位于第一控制室中，和

-第二控制室，其由控制滑塊和控制缸來限定，控制滑塊的第二面與第一面相反，位于第二控制室中，

控制滑塊限定容納殼體，特征在于控制裝置進一步包括安裝在容納殼體中的調(diào)整滑塊，控制滑塊和調(diào)整滑塊限定永久流體地連接到控制通道的第一調(diào)整室和永久流體地連接到高壓流體供應回路的第二調(diào)整室，并且，調(diào)整滑塊在第一位置和第二位置之間可移動地安裝在容納殼體上，在該第一位置調(diào)整滑塊配置成流體地連接第一控制室和第二調(diào)整室，在該第二位置調(diào)整滑塊配置成流體地隔離第一控制室和第二調(diào)整室，控制裝置配置成這樣：當控制通道經(jīng)由多個控制通道中的至少一個流體地連接到高壓流體供應回路時調(diào)整滑塊朝向其第一位置移動。

因此，在不需要復雜的流量調(diào)節(jié)部件(諸如容積泵)的情況下，調(diào)整滑塊配置成在撞擊裝置的每個操作循環(huán)期間向第一控制室提供預定量的高壓流體。

此外，因為第一調(diào)整室永久流體地連接到控制通道，則控制裝置配置成這樣：調(diào)整滑塊與控制分配器被同步驅(qū)動。因此，調(diào)整滑塊配置成在與打擊活塞相同頻率下運行。

撞擊裝置可進一步具有一個或多個以下特征，其單獨或者組合使用。

根據(jù)本發(fā)明的實施例，控制滑塊和調(diào)整滑塊限定永久流體地連接到高壓流體供應回路的第二調(diào)整室，調(diào)整滑塊配置成當調(diào)整滑塊處于其第二位置時流體地隔離第一控制室和第二調(diào)整室，并且當調(diào)整滑塊處于其第一位置時流體地連接第一控制室和第二調(diào)整室。

根據(jù)本發(fā)明的實施例，調(diào)整滑塊可滑動地安裝在容納殼體中。

根據(jù)本發(fā)明的實施例，調(diào)整滑塊包括位于第一調(diào)整室中的端面。

根據(jù)本發(fā)明的實施例，控制缸和控制滑塊限定環(huán)形外部室，該環(huán)形外部室永久地連接到高壓流體供應回路，控制滑塊包括連接通路，連接通路配置成流體地連接環(huán)形外部室和第二調(diào)整室。

根據(jù)本發(fā)明的實施例，每個控制通道包括通向活塞缸的第一端和通向控制缸的第二端，控制通道的第一端沿打擊活塞的延伸方向移動，以及控制通道的第二端沿控制滑塊的延伸方向移動。

根據(jù)本發(fā)明的實施例，控制裝置配置成這樣：當控制通道與高壓流體供應回路流體地隔離時調(diào)整滑塊朝向其第二位置移動。

根據(jù)本發(fā)明的實施例，調(diào)整滑塊包括流體地連接到第一控制室的供應通路，調(diào)整滑塊配置成這樣：當調(diào)整滑塊處于其第二位置時供應通路與第二調(diào)整室流體地隔離，以及當調(diào)整滑塊處于其第一位置時供應通路流體地連接到第二調(diào)整室。

根據(jù)本發(fā)明的實施例，控制通道也通向活塞缸，并配置成在打擊活塞往復移動的至少一部分期間與低壓返回回路相通。

根據(jù)本發(fā)明的實施例，控制裝置配置成這樣：當控制通道流體地連接到低壓返回回路時調(diào)整滑塊朝向其第二位置移動。

根據(jù)本發(fā)明的實施例，控制通道配置成在打擊活塞的擊打沖程的至少一部分期間或者當打擊活塞處于和/或靠近理論上的打擊位置時與低壓返回回路相通。

根據(jù)本發(fā)明的實施例，撞擊裝置包括永久地連接到低壓返回回路并通向活塞缸的連接通道，打擊活塞包括周向槽，所述周向槽配置成在打擊活塞的擊打沖程的至少一部分期間、和例如在擊打沖程結(jié)束時、或當打擊活塞處于和/或靠近理論上的打擊位置時流體地連接所述連接通道和控制通道。

根據(jù)本發(fā)明的實施例，控制滑塊包括周向控制槽，周向控制槽和控制缸限定環(huán)形連接室，所述控制通道通向環(huán)形連接室，環(huán)形連接室配置成根據(jù)控制滑塊所占據(jù)的控制位置將控制通道與多個控制通道中的至少一個流體地連接。

根據(jù)本發(fā)明的實施例，控制滑塊包括配置成流體地連接環(huán)形連接室和第一調(diào)整室的連接孔。

根據(jù)本發(fā)明的實施例，連接孔分別地通向第一調(diào)整室和周向控制槽的底部。

根據(jù)本發(fā)明的實施例，每個控制通道適于在打擊活塞的返回沖程的至少一部分期間與高壓流體供應回路相通。

根據(jù)本發(fā)明的實施例，控制裝置包括分別地通向活塞缸和第一控制室的排放通道，排放通道配置成當打擊活塞處于和/或靠近理論上的打擊位置時與低壓返回回路相通。

因此，排放通道配置成在撞擊裝置的每個操作循環(huán)期間排放從第一控制室流出的一定量的流體。

根據(jù)本發(fā)明的實施例，撞擊裝置包括連接通道永久地連接到低壓返回回路并通向活塞缸的連接通道，打擊活塞包括配置成當打擊活塞處于和/或靠近理論上的打擊位置時流體地連接連接通道和排放通道的周向槽。

根據(jù)本發(fā)明的實施例，排放通道設(shè)置有校準孔。

根據(jù)本發(fā)明的實施例，打擊活塞和活塞缸限定第二控制室和永久地連接到高壓流體供應回路的第一控制室，控制分配器配置成將第二控制室與高壓流體供應回路和低壓返回回路交替地連接。

根據(jù)本發(fā)明的實施例，每個控制通道配置成在打擊活塞往復移動的至少一部分期間、和例如在打擊活塞的返回沖程的至少一部分期間與第一控制室相通。

根據(jù)本發(fā)明的實施例，第二控制室永久地連接到低壓返回回路上。

根據(jù)本發(fā)明的實施例，控制裝置包括連接通道，連接通道永久地連接到低壓返回回路上并通向第二控制室。

根據(jù)本發(fā)明的實施例，控制滑塊包括保持部件，保持部件配置成將調(diào)整滑塊保持在容納殼體中。

根據(jù)本發(fā)明的實施例，保持部件至少部分地限定第一控制室并配置成限制調(diào)整滑塊朝向第一控制室的位移沖程。

根據(jù)本發(fā)明的實施例，調(diào)整滑塊包括至少部分地限定供應通路的管狀部分，保持部件圍繞管狀部分延伸。

根據(jù)本發(fā)明的實施例，保持部件包括止動表面，調(diào)整滑塊適于在其第一位置抵靠該止動表面。

根據(jù)本發(fā)明的實施例，控制通道連接到控制分配器的控制室。

附圖說明

在任何情況下，將通過以下描述并參照所附示意圖，通過非限制性實施例、該撞擊裝置的實施例來很好地理解本發(fā)明。

圖1是根據(jù)本發(fā)明的撞擊裝置的縱向剖面示意圖。

圖2和3是在兩個不同操作位置上圖1的撞擊裝置的控制裝置的縱向剖面示意圖。

具體實施方式

在圖1至3中所示出的撞擊裝置2包括限定活塞缸4的本體3、和以往復方式滑動地安裝在活塞缸4內(nèi)的階梯式打擊活塞5。在每個操作循環(huán)期間，打擊活塞5用來打擊與活塞缸4同軸的的上端，該工具6可滑動地安裝在形成于本體3中的孔7中。

打擊活塞5和活塞缸4限定布置在打擊活塞5上面較大區(qū)域的第一環(huán)形控制室8(稱為下室)和第二控制室9(稱為上室)。

撞擊裝置2進一步包括控制分配器11，控制分配器11布置成控制打擊活塞5在活塞缸4內(nèi)往復地沿擊打沖程和返回沖程的往復移動?？刂品峙淦?1配置成在打擊活塞5的擊打沖程期間將第二控制室9與高壓流體供應回路12、以及在打擊活塞5的返回沖程期間將第二控制室9與低壓返回回路13交替地連接。

控制分配器11在第一位置和第二位置之間更特別地可移動地安裝在形成于主體3中的孔中，在第一位置控制分配器11配置成將第二控制室9與低壓返回回路13的連接(見圖1)，在第二位置控制分配器11配置成將第二控制室9與高壓流體供應回路12的連接。

第一控制室8由連接通道14永久地供給高壓流體，使得控制分配器11的每個位置引起打擊活塞5的擊打沖程，然后引起打擊活塞5的返回沖程。連接通道14可有利地連接到蓄電器。

撞擊裝置2還包括控制裝置15，控制裝置15布置成根據(jù)工具6所碰到的硬度在短擊打沖程和長擊打沖程之間改變打擊活塞5的擊打沖程，反之亦然。

控制裝置15包括安裝在形成于主體3中的控制缸17的控制滑塊16?？刂聘?7是階梯式，并包括第一部分17a和第二部分17b，該第二部分17b具有的區(qū)域比第一部分17a的區(qū)域更大。

控制裝置15進一步包括多個控制通道18a、18b、18c，多個控制通道18a、18b、18c布置成驅(qū)動擊打沖程的不同長度。每個控制通道18a、18b、18c分別地通向控制缸17和活塞缸4。通向活塞缸4的控制通道18a、18b、18c的端部沿打擊活塞5的延伸方向移動，然而通向控制缸17的控制通道18a、18b、18c的端部沿控制滑塊16的延伸方向移動。如在圖1中所示，控制裝置15例如可包括四個控制通道，并因此允許調(diào)整擊打沖程的四個不同長度。然而，控制裝置15可包括小于四個或多于四個控制通道。例如，如在圖2和3中所示，控制裝置15例如可包括三個控制通道。

每個控制通道18a、18b、18c在打擊活塞5返回沖程的至少一部分期間能夠與第一控制室8相通，并因此與高壓流體供應回路12相通。

控制裝置15還包括控制通道19，控制通道19流體地連接到控制分配器11的控制室21。一方面，控制通道19通向控制缸17，另一方面，通向活塞缸4。

控制滑塊16在多個控制位置之間可滑動地安裝在控制缸17中，該控制滑塊16配置成在每個控制位置中將控制通道19與多個控制通道18a、18b、18c中的至少一個流體地連接。

根據(jù)在圖中所示出的實施例，控制滑塊16包括周向控制槽22。周向控制槽22和控制缸17限定環(huán)形連接室23，控制通道19通向環(huán)形連接室23。連接室23更特別地配置成根據(jù)控制滑塊16所占據(jù)的控制位置將控制通道19與多個控制通道18a、18b、18c中的至少一個流體地連接。因此，控制通道19配置成在打擊活塞返回沖程的至少一部分期間經(jīng)由多個控制通道18a、18b、18c中的至少一個與高壓流體供應回路12相通。

控制通道19也配置成當打擊活塞5處于和/或靠近理論上的打擊位置時與低壓返回回路13相通。

根據(jù)在圖中所示出的實施例，撞擊裝置2包括連接通道24，連接通道24永久地連接到低壓返回回路13并通向活塞缸4，打擊活塞5包括周向槽25，周向槽25配置成當打擊活塞5處于和/或靠近理論上的打擊位置時流體地連接連接通道24和控制通道19。

撞擊裝置2配置成這樣：當控制室21和控制通道19連接到低壓返回回路13時控制分配器11朝向其第一位置移動，以及當控制室21和控制通道19連接到高壓流體供應回路12時控制分配器11朝向其第二位置移動。

控制滑塊16和控制缸17限定第一控制室26和第二控制室27，控制滑塊16的第一面16a位于第一控制室26，控制滑塊16的第二面16b位于第二控制室27，與第一面16a相反。第二控制室27通過連接通道28永久地連接到低壓返回回路13。

控制裝置15進一步包括設(shè)置有校準孔31的排放通道29。排放通道29分別地通向活塞缸4和第一控制室26，并配置成當打擊活塞5處于和/或靠近其理論上的打擊位置時與低壓返回回路13相通。為此，撞擊裝置2包括連接通道32，連接通道32永久地連接到低壓返回回路13并通向活塞缸4，和打擊活塞5包括周向槽33，周向槽33配置成當打擊活塞5處于和/或靠近理論上的打擊位置時、尤其是當打擊活塞5抵靠在工具6時流體地連接連接通道32和排放通道29。根據(jù)在圖中所示出的實施例，通向活塞缸4的排放通道29的端部配置成當所述打擊活塞定位在距離其理論上的打擊位置一定距離時由打擊活塞5的外壁封閉。

控制裝置15還包括調(diào)整滑塊34，調(diào)整滑塊34可滑動地安裝在縱向容納殼體35上并由控制滑塊16有利地軸向限定?？刂苹瑝K16和調(diào)整滑塊34限定第一調(diào)整室36，第一調(diào)整室36永久流體地連接到控制通道19且調(diào)整滑塊34的端面34a位于第一調(diào)整室36中?？刂苹瑝K16和調(diào)整滑塊34進一步限定第二調(diào)整室37，第二調(diào)整室37永久流體地連接到高壓流體供應回路12上。根據(jù)在圖中所示出的實施例，第二調(diào)整室37是環(huán)形的。

根據(jù)在圖中所示出的實施例，控制滑塊16包括配置成流體地連接連接室23和第一調(diào)整室36的連接孔38。連接孔38有利地分別通向第一調(diào)整室36和周向控制槽22的底部。

根據(jù)在圖中所示出的實施例，控制缸17的第二部分17b和控制滑塊16限定外部環(huán)形室39，外部環(huán)形室39通過連接通道41永久地連接到高壓流體供應回路12，以及控制滑塊16包括配置成流體地連接環(huán)形外部室39和第二調(diào)整室37的連接通路42。連接通路42例如包括通向第二調(diào)整室37的第一端和通向環(huán)形外部室39的第二端。

外部室39由控制缸17的較大區(qū)域第二部分17b所限定，由高壓流體施加在控制滑塊16上的力用于使所述控制滑塊沿第一調(diào)整室26體積減少的方向移動。

調(diào)整滑塊34進一步包括流體地連接到第一控制室26上的供應通路43。根據(jù)在圖中所示出的實施例，供應通路43包括第一端和第二端，第一端軸向通向面向第一控制室26的調(diào)整滑塊34的端面34b，第二端徑向通向調(diào)整滑塊34的側(cè)壁。

根據(jù)在圖中所示出的實施例，調(diào)整滑塊34包括部分地限定供應通路43的管狀部分44，控制滑塊16包括保持部分45，保持部分45圍繞管狀部分44延伸并配置成將調(diào)整滑塊34保持在容納殼體35上。保持環(huán)45配置成限制調(diào)整滑塊34朝向第一控制室26的位移沖程，例如包括止動表面45a，調(diào)整滑塊34能夠在其第一位置抵靠該止動表面45a。

調(diào)整滑塊34在第一位置和第二位置之間可滑動地安裝在容納殼體35中，在第一位置供應通路43流體地連接到第二調(diào)整室37(見圖3)，在第二位置供應通路43與第二調(diào)整室37流體隔離(見圖2)。在調(diào)整滑塊34的第二位置上，供應通路43的第二端由部分地限定容納殼體35的控制滑塊16的內(nèi)壁所封閉。

調(diào)整滑塊34更特別地配置成當控制通道19經(jīng)由多個控制通道18a、18b、18c中的至少一個流體地連接到高壓流體供應回路12時朝向其第一位置移動，并當控制通道19經(jīng)由周向槽25和連接通道24流體地連接到低壓返回回路13時朝向其第二位置移動。

當每個周期通過排放通道29從第一調(diào)整室26提取流體的量等于每個周期通過供應通路43注入第一調(diào)整室26流體的量時，控制滑塊16具有基本上穩(wěn)定位置。

如果由工具6所碰到的地面變得較軟，則處于和/或靠近其理論上的打擊位置的打擊活塞5的停留時間增加，以及第一調(diào)整室26經(jīng)由排放通道29和周向槽33與低壓返回回路13相通的時間也會增加。因此，從第一調(diào)整室26提取的流體量變得大于由供應通路43注入第一調(diào)整室26中的流體量。這在外部室39上的供應壓力的作用下致使控制滑塊16沿著第一調(diào)整室26體積減少的方向移動，這反映在控制分配器11的作用中，該控制分配器11減少了打擊活塞5的擊打沖程。

相反地，如果地面變得較硬，考慮到打擊活塞5與工具6接觸的停留時間短，則從第一調(diào)整室26提取的流體量變得小于由供應通路43注入第一調(diào)整室26中的流體量。因此控制滑塊16沿著第一調(diào)整室26體積增加的方向移動，這反映在控制分配器11的作用中，使得所述控制分配器增加打擊活塞5的擊打沖程。

值得注意的是，在一方面第一調(diào)整室26內(nèi)的流體壓力和另一方面外部室39內(nèi)的供應壓力的作用下、無彈簧的情況下獲得控制滑塊16的平衡。

當然，本發(fā)明不限于通過上述例子描述的撞擊裝置的單獨實施例，相反，它包括其各種變型。