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      細(xì)紗自清潔皮圈張力架的制作方法

      文檔序號(hào):11614807閱讀:729來(lái)源:國(guó)知局
      細(xì)紗自清潔皮圈張力架的制造方法與工藝

      本實(shí)用新型涉及細(xì)紗機(jī)張力架領(lǐng)域,具體涉及一種細(xì)紗自清潔皮圈張力架。



      背景技術(shù):

      細(xì)紗機(jī)的下皮圈經(jīng)中羅拉、下銷和張力架不停的回轉(zhuǎn),下皮圈與上述部件的接觸面常帶有短絨,這些短絨會(huì)在下銷的前沿集聚,時(shí)間越長(zhǎng),集聚的短絨越多,當(dāng)形成塊狀時(shí)嚴(yán)重影響下皮圈回轉(zhuǎn)的穩(wěn)定性,使產(chǎn)品質(zhì)量受到較大影響。如公開(kāi)號(hào)為CN203346543U的中國(guó)專利公開(kāi)了一種新型紡紗皮圈張力架,包括支架及設(shè)置在支架一端的定位孔,支架一端設(shè)置固定座,固定座與定位孔及支架采用鋁合金壓鑄成型的一體結(jié)構(gòu),下皮圈在該張力架上回轉(zhuǎn)時(shí),下皮圈表面帶有的短絨會(huì)發(fā)生聚集,影響下皮圈回轉(zhuǎn)的穩(wěn)定性,目前只能采取停機(jī)拆車清潔的方式加以解決,費(fèi)工且影響產(chǎn)量。



      技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

      本實(shí)用新型的目的是提供一種細(xì)紗自清潔皮圈張力架,其優(yōu)點(diǎn)是能夠自動(dòng)清潔下皮圈表面粘附的短絨。

      本實(shí)用新型的上述技術(shù)目的是通過(guò)以下技術(shù)方案得以實(shí)現(xiàn)的:一種細(xì)紗自清潔皮圈張力架,包括固定在固定軸上的基體,所述基體通過(guò)連接體固定連接有接觸體,基體與接觸體之間構(gòu)成下皮圈的皮圈通道,所述接觸體上設(shè)有聚集槽,所述聚集槽位于所述皮圈通道的入口處,所述聚集槽的槽口朝向所述下皮圈設(shè)置,所述接觸體上還固定有高彈刮片,所述高彈刮片固定在所述聚集槽出口處的槽邊上,所述高彈刮片與所述下皮圈抵觸。

      通過(guò)上述技術(shù)方案,當(dāng)下皮圈從皮圈通道內(nèi)通過(guò)時(shí),下皮圈的下表面與高彈刮片的邊緣接觸,高彈刮片可以將下皮圈下表面附著的短絨進(jìn)行刮除,并且刮除后的短絨會(huì)掉入槽口朝上的聚集槽內(nèi)進(jìn)行收集,而不會(huì)被帶入下銷處,在下皮圈轉(zhuǎn)動(dòng)過(guò)程中張力架可以自動(dòng)清除短絨,而不需要停機(jī)拆車加以清潔,提高了張力架的清潔程度并且提高了工作效率。

      本實(shí)用新型進(jìn)一步設(shè)置為:所述接觸體朝向所述皮圈通道的表面設(shè)有若干圓槽,所述圓槽為條狀,所述圓槽的長(zhǎng)度方向與所述下皮圈的回轉(zhuǎn)方向垂直。

      通過(guò)上述技術(shù)方案,圓槽可以減小接觸體與下皮圈之間的接觸面積,從而減小接觸體對(duì)下皮圈的回轉(zhuǎn)阻尼,更加方便下皮圈進(jìn)行回轉(zhuǎn)。

      本實(shí)用新型進(jìn)一步設(shè)置為:所述高彈刮片與所述接觸體表面之間的角度設(shè)置為30°至60°。

      通過(guò)上述技術(shù)方案,高彈刮片與接觸體表面之間的角度既不太大也不太小,角度太小,則高彈刮片與下皮圈之間過(guò)于平行,高彈刮片對(duì)下皮圈表面之間的作用力太小,刮除效果不高;角度太大,則高彈刮片與下片圈表面相對(duì)垂直,作用里較大,長(zhǎng)時(shí)間作用有可能對(duì)下皮圈表面產(chǎn)生較大磨損,或者高彈刮片被折斷。

      本實(shí)用新型進(jìn)一步設(shè)置為:所述槽邊設(shè)為圓弧形。

      通過(guò)上述技術(shù)方案,圓弧形的槽邊便于高彈刮片所刮下的短絨滑落,掉入到聚集槽內(nèi),便于對(duì)刮落的短絨進(jìn)行收集。

      本實(shí)用新型進(jìn)一步設(shè)置為:所述接觸體的側(cè)面設(shè)有防止下皮圈滑落的擋邊。

      通過(guò)上述技術(shù)方案,擋邊可以在側(cè)面對(duì)下皮圈進(jìn)行防護(hù),防止下皮圈在回轉(zhuǎn)過(guò)程中從張力架上滑落。

      綜上所述,本實(shí)用新型具有以下有益效果:

      1、通過(guò)高彈刮片對(duì)下皮圈下表面粘附的短絨進(jìn)行刮除,提高了工作時(shí)的清潔程度;

      2、不需要停機(jī)就能對(duì)下皮圈進(jìn)行清潔,提高了生產(chǎn)的效率。

      附圖說(shuō)明

      圖1是本實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖;

      圖2是本實(shí)施例中體現(xiàn)聚集槽結(jié)構(gòu)的示意圖;

      圖3是本實(shí)施例中體現(xiàn)圓槽結(jié)構(gòu)的示意圖;

      圖4是本實(shí)施例中體現(xiàn)下皮圈與張力架安裝時(shí)的示意圖;

      圖5是圖4中A處的放大圖。

      圖中,1、固定軸;2、轉(zhuǎn)動(dòng)軸;3、下皮圈;4、基體;41、通孔;5、連接體;6、接觸體;61、聚集槽;611、槽口;612、槽邊;62、擋邊;63、圓槽;7、高彈刮片;8、皮圈通道。

      具體實(shí)施方式

      以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。

      實(shí)施例:細(xì)紗自清潔皮圈張力架,如圖1和圖5所示,包括基體4,基體4上設(shè)有通孔41,基體4通過(guò)通孔41插接固定在固定軸1上,基體4通過(guò)連接體5固定連接有接觸體6,基體4與接觸體6之間構(gòu)成下皮圈3的皮圈通道8,下皮圈3一端套接在轉(zhuǎn)動(dòng)軸2上,另一端套接在接觸體6上,下皮圈3從接觸體6的上表面進(jìn)入皮圈通道8,并從接觸體6的下表面回轉(zhuǎn)離開(kāi)皮圈通道8。

      如圖1所示,接觸體6的兩個(gè)側(cè)面固定有豎直設(shè)置的擋邊62,用于防止下皮圈3在回轉(zhuǎn)過(guò)程中從接觸體6上打滑脫落。

      如圖1和圖2所示,接觸體6上設(shè)有聚集槽61,聚集槽61位于皮圈通道8的入口處,聚集槽61的槽邊612為圓弧形,聚集槽61的槽口611朝向下皮圈3設(shè)置。

      如圖4和圖5所示,接觸體6上傾斜固定有高彈刮片7,高彈刮片7固定在聚集槽61出口處的槽邊612上,高彈刮片7與接觸體6表面之間的角度設(shè)置為30°,高彈刮片7與下皮圈3的下表面抵觸。

      如圖3所示,接觸體6朝向皮圈通道8的表面設(shè)有若干條狀的圓槽63,圓槽63的長(zhǎng)度方向與下皮圈3的回轉(zhuǎn)方向垂直。

      工作過(guò)程:如圖4和圖5所示,下皮圈3從接觸體6的上表面轉(zhuǎn)動(dòng)進(jìn)入皮圈通道8,高彈刮片7與下皮圈3的下表面接觸時(shí),可以將下皮圈3下表面附著的短絨進(jìn)行刮除,刮落的短絨會(huì)沿著圓弧形的槽邊612向聚集槽61內(nèi)滑落,堆積在聚集槽61內(nèi)進(jìn)行收集;清除短絨后的下皮圈3從接觸體6的下表面回轉(zhuǎn)離開(kāi)皮圈通道8。

      本具體實(shí)施例僅僅是對(duì)本實(shí)用新型的解釋,其并不是對(duì)本實(shí)用新型的限制,本領(lǐng)域技術(shù)人員在閱讀完本說(shuō)明書(shū)后可以根據(jù)需要對(duì)本實(shí)施例做出沒(méi)有創(chuàng)造性貢獻(xiàn)的修改,但只要在本實(shí)用新型的權(quán)利要求范圍內(nèi)都受到專利法的保護(hù)。

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