1.一種用于將流體、特別是釉料噴墨打印到瓷磚(P)上的裝置(1)，包括：
本體(2)，所述本體包括打印流體的供給通道(3)，所述供給通道(3)由基部(4)關(guān)閉，所述基部包括所述打印流體(S)的至少一個出口噴嘴(5)；
閥(7)，所述閥包括適于產(chǎn)生磁場的電磁致動裝置(8)和阻擋部(11)，所述阻擋部包括至少一個敏感元件(12)，所述敏感元件由適于與所述磁場相互作用以使所述阻擋部自身移動的材料制成，所述閥(7)與所述出口噴嘴(5)操作性地相關(guān)聯(lián)，以確定對應(yīng)于所述阻擋部(11)的打開位置的打開狀態(tài)和對應(yīng)于所述阻擋部(11)的關(guān)閉位置的關(guān)閉狀態(tài)，其中在所述打開位置，所述出口噴嘴(5)布置成與所述供給通道(3)連通，而在所述關(guān)閉位置，所述阻擋部(11)關(guān)閉所述出口噴嘴(5)與所述供給通道(3)之間的連通；
膜(13)，所述膜設(shè)置在所述本體(2)內(nèi)并且對所述供給通道(3)限定界限，其中所述膜(13)置于所述供給通道(3)與所述電磁致動裝置(8)之間，并且其中所述阻擋部(11)被牢固地限制于所述膜(13)上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，所述膜(13)的面向所述出口噴嘴(5)的關(guān)閉部分(14)限定所述阻擋部(11)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的裝置，其中，所述關(guān)閉部分(14)是楔形的，具有朝向所述出口噴嘴(5)布置的下基部(17)或頂點(18)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置，其中，所述關(guān)閉部分(14)適于在所述阻擋部(11)的關(guān)閉位置中至少部分地插入到所述出口噴嘴(5)中。
5.根據(jù)權(quán)利要求2至4中的一項或多項所述的裝置，其中，所述敏感元件(12)布置在所述膜(13)內(nèi)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的裝置，其中，所述膜(13)包括至少兩層(19、20)，并且其中所述敏感元件(12)設(shè)置在所述兩層(19、20)之間。
7.根據(jù)前述權(quán)利要求中的一項或多項所述的裝置，其中，所述膜(13)包括從所述阻擋部(11)的相反兩側(cè)突出的支撐壁(21)，所述支撐壁抵靠所述基部(4)橫向地對所述供給通道(3)進行限界。
8.根據(jù)前述權(quán)利要求中的一項或多項所述的裝置，其中，所述膜(13)至少部分地由硅膠材料制成。
9.根據(jù)前述權(quán)利要求中的一項或多項所述的裝置，其中，所述敏感元件(12)是永磁體，并且其中所述電磁致動裝置(8)被構(gòu)造成產(chǎn)生所述敏感元件(12)的第一吸引磁場和第二排斥磁場，以使所述阻擋部(11)沿兩個方向在關(guān)閉位置與打開位置之間移動。
10.根據(jù)前述權(quán)利要求中的一項或多項所述的裝置，其中，所述敏感元件(12)由鐵磁材料制成，以便被所述電磁致動裝置(8)產(chǎn)生的磁場吸引。
11.根據(jù)前述權(quán)利要求中的一項或多項所述的裝置，包括成直線布置的多個出口噴嘴(5)，每個出口噴嘴與相應(yīng)的閥(7)相關(guān)聯(lián)，其中所述膜(13)包括設(shè)置在兩個連續(xù)的阻擋部(11)之間的加強部分(22)。
12.一種模具(100)，用于產(chǎn)生將流體、特別是釉料噴墨打印到瓷磚(P)上的裝置(1)的膜(13)，所述模具包括相對于所述膜(13)互補地成形的腔(101)并且包括磁性保持裝置(106)，所述磁性保持裝置設(shè)置在所述腔(101)的外部并適于將所述膜(13)的敏感元件(12)保持在所述腔自身內(nèi)的預(yù)定位置。
13.一種制造用于將流體、特別是釉料噴墨打印到瓷磚(P)上的裝置(1)的膜(13)的方法，所述方法包括：提供根據(jù)權(quán)利要求12所述的模具(101)；通過所述磁性保持裝置(106)將所述敏感元件(12)保持在所述腔(101)內(nèi)的預(yù)定位置；將材料注射到所述腔(101)中以形成所述膜(13)的至少一層(19、20)，從而至少部分地包圍所述敏感元件(12)。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，包括：在所述腔(101)內(nèi)提供所述膜(13)的第一層(19)；通過所述磁性保持裝置(106)將所述敏感元件(12)抵靠著所述第一層(19)而保持在所述腔(101)內(nèi)；向所述腔(101)中注入材料，以產(chǎn)生所述膜(13)的至少一個第二層(20)以與所述敏感元件(12)結(jié)合。