本實(shí)用新型涉及了絲印網(wǎng)板技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及了一種絲印網(wǎng)板。

背景技術(shù)：

現(xiàn)有顯示裝置常用的封裝方法是采用點(diǎn)膠或者絲網(wǎng)印刷的方式將環(huán)氧膠等膠料涂布在基板或蓋板上，再將形成有顯示器件的基板與蓋板貼合，然后再進(jìn)行烘干，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)顯示裝置的封裝，但是，使用點(diǎn)膠方式速度慢，且點(diǎn)膠的壓力不易控制，容易造成斷膠或者多涂、少涂膠造成封裝不良的缺點(diǎn)。

如圖1所示，其為現(xiàn)有的用絲網(wǎng)印刷板進(jìn)行涂布環(huán)氧膠的示意圖，所述絲網(wǎng)印刷板由數(shù)根X軸線11’與數(shù)根Y軸線12’張緊形成一張絲網(wǎng)1’，相鄰兩根X軸線11’和Y軸線12’形成一目，目的數(shù)量不等，具體根據(jù)所需要張力不同決定，然后按照所需涂布環(huán)氧膠的位置，將不需要的涂布環(huán)氧膠的部位（非下膠區(qū)2’）用膠水等網(wǎng)漿涂布覆蓋，只留下需要涂布環(huán)氧膠部分的絲網(wǎng)（下膠區(qū)3’）。雖然這種用絲網(wǎng)印刷板進(jìn)行環(huán)氧膠涂布的方式在一定程度上提高了涂膠速度，但是X軸線11’和Y軸線12’相互交叉處會(huì)形成疊層十字型即網(wǎng)結(jié)13’，如圖2所示，高度增加，形成一個(gè)凸起（即使覆蓋膠水后位于非下膠區(qū)的網(wǎng)結(jié)仍然會(huì)凸起），與絲網(wǎng)平面有高度差，當(dāng)印刷環(huán)氧膠時(shí)，刮刀從網(wǎng)上刮過時(shí)，網(wǎng)結(jié)13’會(huì)增大壓傷基板上的PI膜的風(fēng)險(xiǎn)，因?yàn)镻I材料薄很脆弱（40~60nm），很容易被絲網(wǎng)的網(wǎng)結(jié)13’壓傷，即在PI膜表面壓印出若干網(wǎng)結(jié)點(diǎn)（十字型印痕），不僅影響美觀，而且顯示時(shí)就很容易表現(xiàn)出印痕，降低生產(chǎn)的良品率和顯示效果。

現(xiàn)有技術(shù)解決網(wǎng)結(jié)13’壓傷PI膜的方案主要有：增加網(wǎng)板厚度即網(wǎng)漿厚度，雖然緩解了網(wǎng)結(jié)壓傷PI膜的情況，但下膠量會(huì)明顯增多，且開口位置主要靠近網(wǎng)板邊緣增厚網(wǎng)板厚度不利于絲??；也有通過調(diào)整優(yōu)化絲印工藝，但需要進(jìn)行大量的試驗(yàn)以及要求操作人員經(jīng)驗(yàn)豐富，不僅成本較高且針對不同結(jié)構(gòu)的邊框又需要重新優(yōu)化調(diào)整使得工藝變得復(fù)雜，難以統(tǒng)一，不利于提高生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是提供了一種絲印網(wǎng)板，其在原先絲印網(wǎng)板的基礎(chǔ)上環(huán)繞下膠位再加一層網(wǎng)漿以墊高，即下膠區(qū)與非下膠區(qū)有高度差的絲印網(wǎng)板，使得接觸膜特別是PI膜的區(qū)域懸空，減少網(wǎng)結(jié)在PI膜上的壓力，避免網(wǎng)結(jié)壓傷PI膜，不會(huì)留下十字印點(diǎn)，保持美觀；且無需改變絲印工藝，成本低，具有良好的經(jīng)濟(jì)效益。

本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題通過以下技術(shù)方案予以實(shí)現(xiàn)：

一種絲印網(wǎng)板，其包括網(wǎng)框和設(shè)置在所述網(wǎng)框內(nèi)的絲網(wǎng)，所述絲網(wǎng)具有下膠區(qū)和非下膠區(qū)，所述非下膠區(qū)覆蓋有網(wǎng)漿；所述絲網(wǎng)朝向待印刷物料一側(cè)還具有墊高區(qū)，所述墊高區(qū)覆蓋有網(wǎng)漿且環(huán)繞所述下膠區(qū)。

作為本實(shí)用新型提供的絲印網(wǎng)板的一種改進(jìn)，所述下膠區(qū)和非下膠區(qū)通過對網(wǎng)漿進(jìn)行光刻圖案形成。

作為本實(shí)用新型提供的絲印網(wǎng)板的一種改進(jìn)，所述墊高區(qū)通過對網(wǎng)漿進(jìn)行光刻圖案形成。

作為本實(shí)用新型提供的絲印網(wǎng)板的一種改進(jìn)，所述墊高區(qū)的厚度低于10μm。

作為本實(shí)用新型提供的絲印網(wǎng)板的一種改進(jìn)，所述絲網(wǎng)包括相互交叉的若干X軸線和若干Y軸線。

本實(shí)用新型具有如下有益效果：本絲印網(wǎng)板，其在原先絲印網(wǎng)板的基礎(chǔ)上環(huán)繞下膠位再加一層網(wǎng)漿以墊高，即下膠區(qū)與非下膠區(qū)有高度差的絲印網(wǎng)板，使得接觸膜特別是PI膜的區(qū)域懸空，減少網(wǎng)結(jié)在PI膜上的壓力，避免網(wǎng)結(jié)壓傷PI膜，也不會(huì)留下十字印點(diǎn)，保持美觀，更有效地避免了在該工藝環(huán)節(jié)產(chǎn)生制程不良品，提高顯示裝置的質(zhì)量。本制作方法簡單易行，且無需改變絲印工藝，成本低，具有良好的經(jīng)濟(jì)效益。

附圖說明

圖1為現(xiàn)有絲印網(wǎng)板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為圖1中A處的剖視圖；

圖3a~3l為本實(shí)用新型絲印網(wǎng)板的制作方法的流程示意圖；

圖4為本實(shí)用新型絲印網(wǎng)板的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

現(xiàn)有絲印網(wǎng)板的X軸線和Y軸線相互交叉處會(huì)形成疊層十字型即網(wǎng)結(jié)，高度增加，形成一個(gè)凸起（即使覆蓋膠水后位于非下膠區(qū)的網(wǎng)結(jié)仍然會(huì)凸起），與絲網(wǎng)平面有高度差，當(dāng)印刷環(huán)氧膠時(shí)，刮刀從網(wǎng)上刮過時(shí)，網(wǎng)結(jié)會(huì)增大壓傷PI膜的風(fēng)險(xiǎn)，因?yàn)镻I材料很脆弱，很容易被絲網(wǎng)的網(wǎng)結(jié)壓傷，留下十字型印痕，影響美觀，降低生產(chǎn)的良品率和顯示效果。

針對上述現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，本實(shí)用新型提供了一種絲印網(wǎng)板的制作方法，其在原先絲印網(wǎng)板的基礎(chǔ)上環(huán)繞下膠位再加一層網(wǎng)漿以墊高，即下膠區(qū)與非下膠區(qū)有高度差的絲印網(wǎng)板，使得接觸膜特別是PI膜的區(qū)域懸空，減少網(wǎng)結(jié)在PI膜上的壓力，避免網(wǎng)結(jié)壓傷PI膜，也不會(huì)留下十字印點(diǎn)，保持美觀，且無需改變絲印工藝，采用常規(guī)的絲印工藝即可，有效地避免了在該工藝環(huán)節(jié)產(chǎn)生制程不良品，提高顯示裝置的質(zhì)量。

下面結(jié)合實(shí)施例對本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)的說明，實(shí)施例僅是本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式，不是對本實(shí)用新型的限定。

實(shí)施例1

如圖3a~3l所示，本實(shí)施例提供了一種絲印網(wǎng)板的制作方法，該絲印網(wǎng)板用于在具有PI膜的基板上絲印環(huán)氧膠框，其包括以下步驟：

步驟1、提供具有絲網(wǎng)2的網(wǎng)框1，如圖3a所示，所述絲網(wǎng)2為相互交叉的若干X軸線和若干Y軸線，所述X軸線和Y軸線交叉間隔出若干個(gè)網(wǎng)孔3。

步驟2、在所述絲網(wǎng)2上涂布網(wǎng)漿，獲得下膠區(qū)6和非下膠區(qū)7，所述非下膠區(qū)7覆蓋有所述網(wǎng)漿，即所述網(wǎng)漿粘堵在所述非下膠區(qū)7的網(wǎng)孔3內(nèi)。

具體地，優(yōu)選利用菲林掩膜板制作下膠區(qū)6和非下膠區(qū)7，其具體包括以下步驟：

步驟2.1、涂布網(wǎng)漿：如圖3b所示，在干燥的絲網(wǎng)2上涂布感光膠4（即網(wǎng)漿），可以是所述絲網(wǎng)2的一側(cè)或上下兩側(cè)；優(yōu)選通過自動(dòng)涂布機(jī)來實(shí)現(xiàn)，涂布后的膠層平整一致厚度均勻；

步驟2.2、烘干：如圖3c所示，將涂布好感光膠4的絲印網(wǎng)板平放在恒溫的烘箱中干燥，一般溫度控制在39~45℃；

步驟2.3、曝光：如圖3d所示，將按預(yù)設(shè)圖案制作好的第一菲林掩膜板5貼在所述絲印網(wǎng)板的上方，放置在曝光機(jī)上進(jìn)行曝光；

步驟2.4、顯影：如圖3e所示，曝光后，揭去第一菲林掩膜板5，對絲印網(wǎng)板進(jìn)行顯影，即沖洗，使未感光部位的感光膠4遇水膨脹，用水加壓噴顯，將溶解的感光膠4沖洗掉，獲得下膠區(qū)6；感光部位則為非下膠區(qū)7；

步驟2.5、烘干：如圖3f所示，將經(jīng)過顯影處理的絲印網(wǎng)板進(jìn)行干燥處理。

步驟3、在步驟2獲得的絲網(wǎng)2的一側(cè)涂布網(wǎng)漿，獲得環(huán)繞所述下膠區(qū)6的墊高區(qū)9；所述墊高區(qū)9覆蓋有所述網(wǎng)漿。

具體地，優(yōu)選利用菲林掩膜板制作墊高區(qū)9，其具體包括以下步驟：

步驟3.1、涂布網(wǎng)漿：如圖3g所示，在步驟2制得的絲網(wǎng)2上的一側(cè)（朝向具有PI膜的基板的一側(cè)）涂布感光膠4（即網(wǎng)漿），優(yōu)選通過自動(dòng)涂布機(jī)來實(shí)現(xiàn)，涂布后的膠層平整一致厚度均勻；

步驟3.2、烘干：如圖3h所示，將涂布好感光膠4的絲印網(wǎng)板平放在恒溫的烘箱中干燥，一般溫度控制在39~45℃；

步驟3.3、曝光：如圖3i所示，將按預(yù)設(shè)圖案制作好的第二菲林掩膜板8貼在所述絲印網(wǎng)板的上方（涂布有感光膠4的一側(cè)上方），放置在曝光機(jī)上進(jìn)行曝光；

步驟3.4、顯影：如圖3j所示，曝光后，揭去第二菲林掩膜板8，對絲印網(wǎng)板進(jìn)行顯影，即沖洗，使未感光部位的感光膠4遇水膨脹，用水加壓噴濕，將溶解的感光膠4沖洗掉，余下的感光部位則為墊高區(qū)9，其環(huán)繞所述下膠區(qū)6。

步驟3.5、烘干：如圖3k所示，將經(jīng)過顯影處理的絲印網(wǎng)板進(jìn)行干燥處理，完成絲印網(wǎng)板的制作，即如圖3l所示的絲印網(wǎng)板，其仰視圖如圖4所示。

所述墊高區(qū)9的厚度低于10μm，但不局限于此。

需要說明的是，其中，所述感光膠4的成分、涂布感光膠4的方法、干燥的方法和條件、曝光所用方法和條件、顯影所用方法和條件為本領(lǐng)域技術(shù)人員所公知。一般來說，所述感光膠4的主要成分為成膜劑、感光劑和助劑。步驟2的感光膠4的厚度由印刷后環(huán)氧膠層的厚度確定，印刷后環(huán)氧膠層越厚，則感光膠4的厚度越厚。步驟3的感光膠4的厚度可根據(jù)實(shí)際需要來調(diào)整。曝光時(shí)間依據(jù)光源色溫、光源距離、膜版厚度、感光膠4的材料特性來確定。顯影可以通過多種方法實(shí)現(xiàn)，優(yōu)選情況下，將網(wǎng)板印面朝上放置到盛有顯影液的盆中，顯影2~3分鐘，顯影溫度控制在20℃左右。利用預(yù)設(shè)圖案制作第一菲林掩膜板5或第二菲林掩膜板8的方法為本領(lǐng)域技術(shù)人員所公知，一般來說，該方法包括使用菲林輸出設(shè)備，例如菲林輸出器、激光打印機(jī)，將所述預(yù)設(shè)圖案輸出到菲林上。即可根據(jù)需要制作不同的菲林掩膜板，本方法的步驟2、3所使用的菲林掩膜板的預(yù)設(shè)圖案均不同。

實(shí)施例2

如圖3所示，本實(shí)施例提供了一種絲印網(wǎng)板，該絲印網(wǎng)板用于在具有PI膜的基板上絲印環(huán)氧膠框，其包括網(wǎng)框1和設(shè)置在所述網(wǎng)框1內(nèi)的絲網(wǎng)2，所述絲網(wǎng)2包括相互交叉的若干X軸線和若干Y軸線；所述絲網(wǎng)2通過對一次網(wǎng)漿按預(yù)設(shè)圖案進(jìn)行光刻形成下膠區(qū)6和非下膠區(qū)7，所述非下膠區(qū)7覆蓋有網(wǎng)漿；所述絲網(wǎng)2朝向具有PI膜的基板的一側(cè)還通過對二次網(wǎng)漿按預(yù)設(shè)圖案進(jìn)行光刻形成墊高區(qū)9，所述墊高區(qū)9覆蓋有網(wǎng)漿且環(huán)繞所述下膠區(qū)6。

所述墊高區(qū)9的厚度低于10μm。所述網(wǎng)漿為感光膠4。

值得注意的是，圖中并未顯示用于灌入液晶的注入口，其可根據(jù)實(shí)際需要增設(shè)，此為本領(lǐng)域技術(shù)人員公知技術(shù)，在此不再詳述。

本實(shí)用新型制得下膠區(qū)6與非下膠區(qū)7有高度差的絲印網(wǎng)板，使得印刷環(huán)氧膠時(shí)接觸PI膜的區(qū)域懸空，減少網(wǎng)結(jié)在膜上的壓力，避免網(wǎng)結(jié)壓傷PI膜，不會(huì)留下十字印點(diǎn)，保持美觀，更有效地避免了在該工藝環(huán)節(jié)產(chǎn)生制程不良品，提高顯示裝置的質(zhì)量。本制作方法簡單易行，無需改變絲印工藝，降低成本，具有較好的經(jīng)濟(jì)效益。

以上所述實(shí)施例僅表達(dá)了本實(shí)用新型的實(shí)施方式，其描述較為具體和詳細(xì)，但并不能因此而理解為對本實(shí)用新型專利范圍的限制，但凡采用等同替換或等效變換的形式所獲得的技術(shù)方案，均應(yīng)落在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。