多層體及其生產(chǎn)方法本發(fā)明涉及具有兩層或?qū)酉到y(tǒng)的多層體，及其生產(chǎn)方法。多層體作為防偽元件是本領(lǐng)域已知的，并且被廣泛地用于保護鈔票、證券和身份證件免受偽造或者用于產(chǎn)品鑒定。它們是基于數(shù)層功能層的組合，例如，其可以包括光學可變元素(OVD＝光學可變裝置)、衍射元素、部分金屬化層或印刷特征。已知通過如下方式來生產(chǎn)此類多層體：依次施加單獨層，裝配所需的層序列。為了獲得特定防偽能力的多層體，希望將單層的特征進行無縫相互混合。換言之，層應(yīng)該盡可能精確地相互配準排列。但是，當多層體是依次裝配的情況下，無法總是實現(xiàn)該情形，因為用于生產(chǎn)各單層的方法在層相對位置方面存在容差。作為結(jié)果，無法可靠地實現(xiàn)特征之間所需的無縫過渡，這對于防偽保護和此類多層體的光學外觀具有負面影響。配準或配準精確地指的是疊加層的相互精確位置排列，維持所需的位置容差。因此，本發(fā)明的目的是提供生產(chǎn)多層體的方法，其使得可以生產(chǎn)具有改善的防偽安全的多層體。本發(fā)明的另一個目的是提供具體的防偽多層體。通過具有權(quán)利要求1的特征的方法以及通過具有權(quán)利要求26的特征的多層體，實現(xiàn)該目的。用于生產(chǎn)多層體，具體地，用于生產(chǎn)防偽元件，的此類方法包括如下步驟：a)在基材上生產(chǎn)部分化第一層或者部分化第一層系統(tǒng)，其中，所述部分化第一層或者部分化第一層系統(tǒng)存在于第一部分化區(qū)域中而不存在于第二部分化區(qū)域中；b)生產(chǎn)部分化第二層或部分化第二層系統(tǒng)，其中，所述部分化第二層或部分化第二層系統(tǒng)存在于第三部分化區(qū)域中而不存在于第四部分化區(qū)域中，以及其中，所述第三部分化區(qū)域與所述第一和第二部分化區(qū)域交疊；c)采用所述部分化第二層或部分化第二層系統(tǒng)作為掩蔽，構(gòu)建所述部分化第一層或者部分化第一層系統(tǒng)。以這種方法，獲得了多層體，具體地，防偽元件，其包括：基材，部分化第一層或者部分化第一層系統(tǒng)以及部分化第二層或者部分化第二層系統(tǒng)，其中，采用所述部分化第二層或者部分化第二層系統(tǒng)作為掩蔽，將所述部分化第一層或者部分化第一層系統(tǒng)精確地構(gòu)建成與所述部分化第二層或者部分化第二層系統(tǒng)配準，以及其中，所述部分化第一層或者部分化第一層系統(tǒng)存在于第一部分化區(qū)域中而不存在于第二部分化區(qū)域中，以及其中，所述部分化第二層或部分化第二層系統(tǒng)存在于第三部分化區(qū)域中而不存在于第四部分化區(qū)域中，以及其中，所述第三部分化區(qū)域與所述第一和第二部分化區(qū)域交疊。通過使用所述部分化第二層或部分化第二層系統(tǒng)作為掩蔽來構(gòu)建所述部分化第一層或者部分化第一層系統(tǒng)，可以將這兩層或?qū)酉到y(tǒng)準確地相互配準排列。特別重要的是，所述第二部分化層或第二部分化層系統(tǒng)不僅延伸進入被所述第一部分化層或第一部分化層系統(tǒng)覆蓋的那些區(qū)域，即所述第一部分化區(qū)域，還延伸進入未被所述第一部分化層或第一部分化層系統(tǒng)覆蓋的區(qū)域，即所述第二部分化區(qū)域。通過使用所述第二部分化層或第二部分化層系統(tǒng)作為掩蔽在這里指的是，在構(gòu)建所述第一部分化層或第一部分化層系統(tǒng)期間，后者選擇性保留在所述第二部分化層或第二部分化層系統(tǒng)覆蓋的那些區(qū)域中或者從所述第二部分化層或第二部分化層系統(tǒng)覆蓋的那些區(qū)域中選擇性去除。因此，在構(gòu)建期間，獲得了這兩層或?qū)酉到y(tǒng)之間的限定位置關(guān)系，從而使得它們相互精確地配準排列，例如相互無縫地毗鄰。層系統(tǒng)在這里指的是數(shù)層的任意排列。層可以是以層系統(tǒng)的表面法線的方向一個在另一個頂部排列，或者也是在平面中彼此相鄰。層以這種方式水平和垂直地排列的組合也是可能的。交疊指的是各個部分化區(qū)域以跨越第一或第二層的平面的表面法線的方向至少部分地是一個位于另一個頂部，即以多層體的堆疊方向觀察。兩層或兩層系統(tǒng)的生產(chǎn)不需要是以特定順序進行，即，也可以是在所述第一部分化層或第一部分化層系統(tǒng)之前生產(chǎn)所述第二部分化層或者第二部分化層系統(tǒng)?？梢灾苯釉诨纳仙a(chǎn)層或?qū)酉到y(tǒng)，直接一個在另一個的頂上生產(chǎn)層系統(tǒng)，或者可以生產(chǎn)任意中間層。步驟c)中的所述部分化第一層或部分化第一層系統(tǒng)的構(gòu)建優(yōu)選通過蝕刻進行。如果所述部分化第二層或者部分化第二層系統(tǒng)是抗蝕刻物質(zhì)或者包含抗蝕刻物質(zhì)的話，則是有利的?？刮g刻物質(zhì)指的是這樣的物質(zhì)，其對于蝕刻劑具有抗性并且在抗蝕刻物質(zhì)覆蓋保護對于蝕刻劑敏感的物質(zhì)的地方，能夠保護該物質(zhì)免受蝕刻劑的侵襲。在該實施方式中，因此，在生產(chǎn)了兩層或兩層系統(tǒng)之后，向得到的層堆疊施加蝕刻劑，該蝕刻劑去除了未被所述第二部分化層或者第二部分化層系統(tǒng)覆蓋的地方的所述第一部分化層或第一部分化層系統(tǒng)?？刮g刻物質(zhì)優(yōu)選是漆，其可以具體包括粘結(jié)劑、染料、顏料(具體來說，有色或無色顏料)、特殊作用顏料、薄膜體系、膽甾醇型液晶和/或金屬或非金屬納米顆粒。因此，所述第二部分化層或第二部分化層系統(tǒng)不僅在所述第一部分化層或第一部分化層系統(tǒng)的構(gòu)建中起了保護功能，其自身還會產(chǎn)生裝飾作用。還可能的情況是，對于所述第二部分化層或者第二部分化層系統(tǒng)，可以使用數(shù)種不同抗蝕刻物質(zhì)(例如，具有不同著色的抗蝕刻漆)來產(chǎn)生進一步的視覺效果。用于構(gòu)建所述第一部分化層或者第一部分化層系統(tǒng)的蝕刻劑取決于該層或者層系統(tǒng)的組成。具體來說，對于大部分的不透明金屬層，或者透明或半透明HRI層(HRI＝高折射率)，具體例如，氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、氫氧化四甲基銨或鈉-乙二胺四乙酸酯是合適的。對于此類蝕刻劑，合適的抗蝕刻物質(zhì)是基于例如PVC(聚氯乙烯)、聚酯樹脂或丙烯酸酯，其中，通?？梢越Y(jié)合其他成膜物質(zhì)，例如硝化纖維素?？梢酝ㄟ^機械振動，例如通過刷拭、移動蝕刻浴或者超聲處理，來支撐蝕刻。蝕刻操作的常規(guī)溫度優(yōu)選是15-75℃。步驟c)中的所述部分化第一層或部分化第一層系統(tǒng)的構(gòu)建還可優(yōu)選通過剝離方法(lift-offmethod)的方式進行。如果所述部分化第二層或者部分化第二層系統(tǒng)是修補基面涂層(washcoat)或者包含修補基面涂層(washcoat)的話，則是有利的。在剝離方法中，通過溶劑去除修補基面涂層。因此，修補基面涂層必須在溶劑中是可溶的。出于環(huán)保原因，優(yōu)選使用水作為溶劑。合適的修補基面涂層包括例如，基于聚乙烯醇(PVA)或者聚乙烯吡咯烷酮(PVP)，并且可額外地含有有助于后續(xù)去除修補基面涂層的填料。修補基面涂層的去除是在溶劑浴中進行，或者通過噴灑溶劑進行，優(yōu)選溫度是15-65℃。在蝕刻的情況下，也可以通過機械振動，例如通過刷拭、振動溶劑浴、噴灑或者超聲處理，來支撐修補基面涂層的去除。在將所述部分化第一層或部分化第一層系統(tǒng)施加到修補基面涂層的區(qū)域中，將所述部分化第一層或部分化第一層系統(tǒng)與修補基面涂層一起去除。因此，所述部分化第一層或部分化第一層系統(tǒng)僅留在沒有與所述部分化第二層或部分化第二層系統(tǒng)交疊的區(qū)域中。因此，形成交疊區(qū)域的陰模。當修補基面涂層是層系統(tǒng)的組分時，這是特別有用的，使得層系統(tǒng)中沒有與修補基面涂層一起去除的余下組分與所述第一層或第一層系統(tǒng)的余下部分精確配準。步驟c)中的所述部分化第一層或部分化第一層系統(tǒng)的構(gòu)建還可優(yōu)選通過掩蔽暴露進行。因此，所述部分化第二層或部分化第二層系統(tǒng)自身在這里作為暴露掩蔽，或者其采用分開的暴露掩蔽進行構(gòu)建。如果所述部分化第二層或者部分化第二層系統(tǒng)是保護漆或者包含保護漆的話，則是有利的。保護漆指的是這樣的物質(zhì)，其在用于使得所述部分化第一層或部分化第一層系統(tǒng)發(fā)生暴露的波長范圍內(nèi)進行吸收。在暴露過程中，在整個表面上，用該波長范圍內(nèi)的光來輻射所述部分層或者層系統(tǒng)，優(yōu)選是垂直于層平面。常規(guī)用于進行曝光的波長是例如250-420nm。進行曝光的劑量優(yōu)選是10-500mJ/cm2。從所使用的材料的靈敏度和可用光源的輸出，來獲得曝光時間。因此，當存在所述部分化第二層或者部分化第二層系統(tǒng)時，較少的該波長的光到達所述部分化第一層或部分化第一層系統(tǒng)。還可以結(jié)合抗蝕刻物質(zhì)和保護漆，例如，通過向抗蝕刻漆中添加吸收性物質(zhì)，例如，所述的UV吸收劑、染料、有色顏料或散射物質(zhì)(如，二氧化鈦)。保護漆優(yōu)選是這樣的漆，其具體地包含粘結(jié)劑、染料、顏料(具體來說，有色或無色顏料)、特殊作用顏料、薄膜體系、膽甾醇型液晶和/或金屬或非金屬納米顆粒?；诶鏟VC、聚酯或者丙烯酸酯來配制合適的保護漆。因此，所述第二部分化層或第二部分化層系統(tǒng)不僅在所述第一部分化層或第一部分化層系統(tǒng)的構(gòu)建中起了保護功能，其自身還會產(chǎn)生裝飾作用。還可能的情況是，對于所述第二部分化層或者第二部分化層系統(tǒng)，使用數(shù)種不同保護漆(例如，具有不同著色)來產(chǎn)生進一步的視覺效果。為了實現(xiàn)所需的構(gòu)建，如果所述部分化第一層或者部分化第一層系統(tǒng)是光刻膠或者包含光刻膠的話，則是有利的。在暴露于特定波長范圍期間，光刻膠改變其化學和/或物理性質(zhì)，從而使得發(fā)生曝光和未發(fā)生曝光區(qū)域的不同性質(zhì)可以被用于選擇性地去除一個區(qū)域中的光刻膠。例如，當光刻膠發(fā)生曝光時，其對于溶劑的溶解度發(fā)生變化，所述溶劑可用于在曝光之后對光刻膠進行顯影。在正性光刻膠的情況下，在曝光之后的顯影步驟期間，選擇性地去除了發(fā)生曝光的區(qū)域，以及在負性光刻膠的情況下，選擇性地去除了未發(fā)生曝光的區(qū)域。因此，光刻膠可作為修補基面涂層。合適的正性光刻膠是例如購自AZ電子材料公司(AZElectronicMaterials)的基于酚樹脂/偶重氮醌(diazoquinone)的AZ1518或AZ4562。合適的負性光刻膠是例如購自微抗蝕刻技術(shù)公司(microresisttechnologyGmbH)的基于例如肉桂酸衍生物的AZnLOF2000或ma-N1420。優(yōu)選地，可以用波長范圍為250-440nm的光對它們進行輻射曝光。所需的劑量取決于相應(yīng)的層厚度、曝光的波長和光刻膠的靈敏度。為了使得這些光刻膠顯影，例如氫氧化四甲基銨是合適的。顯影優(yōu)選在15-65℃的溫度下進行，優(yōu)選的顯影時間為2秒至數(shù)分鐘。此處，同樣地，也可以通過機械振動，例如通過刷拭、擦拭、暴露于顯影介質(zhì)流或者超聲處理，來支撐顯影操作和相關(guān)的光刻膠的局部去除。具體地，光刻膠還可包含粘結(jié)劑、染料、顏料(具體來說，有色顏料)、特殊作用顏料、薄膜體系、膽甾醇型液晶和/或金屬或非金屬納米顆粒，從而產(chǎn)生額外的裝飾效果。如果在步驟a)或b)中，所述部分化第一層或部分化第一層系統(tǒng)和/或所述部分化第二層或部分化第二層系統(tǒng)初始是在整個表面上產(chǎn)生或者至少在表面的大面積上產(chǎn)生，然后構(gòu)建的話，則也是有利的?？梢酝ㄟ^印刷或者氣相沉積，在整個表面上或者在大的表面區(qū)域上進行生產(chǎn)。然后，優(yōu)選通過蝕刻、剝離或掩蔽曝光，來進行步驟a)或b)中的所述部分化第一層或部分化第一層系統(tǒng)和/或所述部分化第二層或部分化第二層系統(tǒng)的構(gòu)建。這與上文所述的步驟c)中的所述部分化第一層或部分化第一層系統(tǒng)的構(gòu)建是類似地進行。這進而要求抗蝕刻物質(zhì)、保護漆或者修補基面涂層可以是層系統(tǒng)的一個或兩個中的組分，或者可以作為額外層施涂。這些層進而可以保留作為層系統(tǒng)的組分或者也可以在其他步驟中再次去除。在掩蔽曝光的情況下，也可以使用外部曝光掩蔽，將其放置在相應(yīng)層或?qū)酉到y(tǒng)上。但是，其中部分地去除所述第一層或第一層系統(tǒng)的特定區(qū)域的方法也是可以的，例如采用激光。此類方法尤其適用于防偽元件的單獨標記。還可以的是，在步驟b)的所述部分化第二層或部分化第二層系統(tǒng)的構(gòu)建期間，根據(jù)步驟c)的所述部分化第一層或部分化第一層系統(tǒng)的構(gòu)建同時進行。這產(chǎn)生了特別簡單且快速進行的方法?；蛘撸€可以的是，在步驟a)和/或步驟b)中，所述部分化第一層或部分化第一層系統(tǒng)和/或所述部分化第二層或部分化第二層系統(tǒng)以結(jié)構(gòu)化形式產(chǎn)生。為此，優(yōu)選使用印刷方法，具體來說，凹板印刷、柔版印刷、膠印、絲網(wǎng)印刷或數(shù)字印刷，具體地，噴墨印刷。優(yōu)選地，所述部分化第一層或部分化第一層系統(tǒng)是如下情況或者包括如下情況：具體的不透明金屬和/或具體的透明或半透明材料的反射層，具有高折射率(意味著復折射率的高實部)，和/或至少一層單色或多色漆層和/或法布里-珀羅(Fabry-Perot)層系統(tǒng)。如果所述部分化第二層或部分化第二層系統(tǒng)是如下情況或者包括如下情況的話，也是優(yōu)選的：至少一層透明、半透明或者大部分不透明單色或多色漆層，具體來說，蝕刻和/或保護漆，和/或法布里-珀羅層系統(tǒng)。通過對于所述部分第一和第二層或部分第一和第二層系統(tǒng)使用此類層組合，可以產(chǎn)生各種光學效應(yīng)，其對于防偽安全具有進一步的貢獻并提供特別誘人的光學外觀。優(yōu)選地，所述部分化第一層或部分化第一層系統(tǒng)和/或所述部分化第二層或部分化第二層系統(tǒng)在這里用作如下至少一種的形式：圖形、圖案、符號、圖像、標識或文字數(shù)字式字符，具體來說，數(shù)字或字母。可以在所述部分化第一層或部分化第一層系統(tǒng)的構(gòu)建之前或者僅在構(gòu)建之后，使得層或?qū)酉到y(tǒng)補足，以形成此類圖形、圖案、符號、圖像、標識或文字數(shù)字式字符，具體來說，數(shù)字或字母。通過數(shù)層的相互作用這種方式形成的圖形元素是特別難以復制的，因而是特別防偽的。如果所述部分化第一層或部分化第一層系統(tǒng)和/或所述部分化第二層或部分化第二層系統(tǒng)是以一維或二維線和/或點格形式施加的話，是更為有利的。這里，變化的線格也是可以的，例如，波狀線，其還可具有變化的線寬。點格中的點可具有任意幾何形狀和/或尺寸，并且不一定是圓碟形狀。例如，三角形、矩形、任意類型的多邊形或星狀點或者符號形式的點設(shè)計的點格也是可以的。點格也可以由不同尺寸和/或不同形狀的點構(gòu)成。準確來說，當此類格與其他層中或者其他層系統(tǒng)中的圖形元素相互作用時，會產(chǎn)生其他圖形效應(yīng)，例如半色調(diào)圖像。優(yōu)選地，此處的線和/或點格的格間距小于300um，優(yōu)選小于200um且大于25um，以及優(yōu)選大于50um。柵格上的格間距也可發(fā)生變化。線厚度或者點直徑優(yōu)選為25-150um，并且也可發(fā)生變化。此類柵格對于其上交疊了格的其他圖形元素具有影響，但是它們自身不再被例如人類裸眼所感知到。如果基材包括運載層(具體來說，由塑料，優(yōu)選是聚酯，具體地，PET(聚對苯二甲酸乙二醇酯)和/或釋放層，例如聚合物漆的釋放層，例如PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)或蠟物質(zhì)制得)，則也是有利的。此類運載層在多層體的生產(chǎn)和后續(xù)處理過程中賦予其穩(wěn)定性，并保護其免受損壞。釋放層促進了防偽元件從不需要的層(例如，運載層)的釋放，從而其可以被應(yīng)用到所需的文件或物體，特別是熱印膜的形式，運載層作為運載膜，防偽元件作為轉(zhuǎn)移層，從運載膜轉(zhuǎn)移到基材上。基材優(yōu)選包括復印層，所述復印層具有衍射表面浮雕。復印層可以由熱塑性(即熱固化或干燥)、復印漆或UV固化復印漆或此類漆的混合物構(gòu)成。如果引入復印層的表面浮雕形成光學變化的元素(具體來說，全息圖，或優(yōu)選正弦曲線衍射柵，不對稱浮雕結(jié)構(gòu)，炫耀光柵，優(yōu)選的各向同性或各向異性消光結(jié)構(gòu)或者光衍射和/或光折射和/或聚光微結(jié)構(gòu)或納米結(jié)構(gòu)，二元或連續(xù)菲涅耳透鏡，微棱鏡結(jié)構(gòu)，微透鏡結(jié)構(gòu)，或其組合結(jié)構(gòu))的話，則是有利的。使用此類結(jié)構(gòu)或其組合的話，可以實現(xiàn)各種光學效應(yīng)，這除了難以仿造并且無法復印或者使用常規(guī)光學復印方法會是難以復印的，從而獲得了特別的防偽多層體。如果在進一步的步驟d)中，施加第三層或者第三層系統(tǒng)也是更為有利的，所述第三層或第三層系統(tǒng)具體來說，是HRI層和/或粘合層，或者包括HRI層和/或粘合層。粘合層可用于將多層體與基材(例如，待保護的文件)固定。HRI層對于連接廣闊平坦浮雕結(jié)構(gòu)是特別有利的，所述廣闊平坦浮雕結(jié)構(gòu)通過透明HRI層是可見的，包含在所述第一和/或第二層或者第一和/或第二層系統(tǒng)不提供不透明金屬化層的區(qū)域中。用于HRI層的合適材料是例如，硫化鋅或者還有二氧化鈦或二氧化鋯。以這種方式獲得的多層體可用于防偽元件，特別是用于防偽文件，具體來說，鈔票、證券、身份證件、護照或信用卡。在附圖的幫助下，基于數(shù)個實施方式例子，下文更清楚地闡述了本發(fā)明。如所示：圖1A-C：多層體以及具有金屬層和單色漆層的多層體的生產(chǎn)步驟；圖2A-C：多層體以及具有金屬層和雙色漆層的多層體的生產(chǎn)步驟；圖3：根據(jù)圖2的多層體的生產(chǎn)中的第一中間產(chǎn)物的截面圖；圖4：根據(jù)圖2的多層體的生產(chǎn)中的第二中間產(chǎn)物的截面圖；圖5：根據(jù)圖2的多層體的生產(chǎn)中的第三中間產(chǎn)物的截面圖；圖6：具有金屬層、單色漆層、衍射結(jié)構(gòu)和HRI層的多層體；圖7A-C：多層體以及具有兩層金屬層和單色漆層的多層體的生產(chǎn)步驟；圖8A-C：多層體以及具有金屬層、HRI層和單色漆層的多層體的生產(chǎn)步驟；圖9A-C：多層體以及具有精細結(jié)構(gòu)化金屬層和單色漆層的多層體的生產(chǎn)步驟；圖10：根據(jù)圖9的多層體的生產(chǎn)中的第一中間產(chǎn)物的截面圖；圖11：根據(jù)圖9的多層體的生產(chǎn)中的第二中間產(chǎn)物的截面圖；圖12：根據(jù)圖9的多層體的生產(chǎn)中的第三中間產(chǎn)物的截面圖；圖13：根據(jù)圖9的完成的多層體的截面圖；圖14：根據(jù)圖9的多層體的金屬和漆層的詳細結(jié)構(gòu)圖；圖15A-C：多層體以及具有金屬層和前面的漆層的多層體的生產(chǎn)步驟；圖16A-C：多層體以及具有柵格狀金屬層和漆層的多層體的生產(chǎn)步驟；圖17A-C：多層體以及具有精細結(jié)構(gòu)化金屬層和多色漆層的多層體的生產(chǎn)步驟；圖18A-E：多層體以及具有精細結(jié)構(gòu)化金屬層和單色漆層的多層體的生產(chǎn)步驟。圖1顯示多層體10的第一實施方式例子，其可以用作鈔票、證券、身份證件、票據(jù)或保護的產(chǎn)品封裝的防偽元件。多層體10包括：第一層11(其是，金屬層，例如鋁的形式)以及第二層12(其是有色的抗蝕刻漆的形式)。除了鋁之外，銅、銀或鉻或者寬范圍的金屬合金也是合適的。如圖1a所示，為了生產(chǎn)多層體10，第一層11是首先生產(chǎn)的，其可以通過例如氣相沉積在(未示出的)基材上來進行。氣相沉積優(yōu)選是在真空中通過熱氣相沉積、電子束氣相沉積或者通過噴濺進行的。第一層11的層厚度優(yōu)選為5-100nm，更優(yōu)選為15-40nm。然后可以通過已知方法來部分地去除氣相沉積的第一層，例如，通過在氣相沉積之后部分施加抗蝕刻物質(zhì)以及后續(xù)進行蝕刻，包括去除抗蝕刻物質(zhì)；通過在氣相沉積之前部分施加修補基面涂層以及在氣相沉積之后洗去(剝離)或者通過在氣相沉積之后部分施加光刻膠，后續(xù)進行暴露，之后去除光刻膠的經(jīng)曝光或者未經(jīng)曝光組分，這取決于光刻膠的類型(正性或負性)。或者，基材沒有在整個表面上進行氣相涂覆；而是部分地產(chǎn)生層11，從而其存在于第一區(qū)域111中沒有存在于第二區(qū)域112中。實現(xiàn)這種情況的各種方法是已知的，例如，采用旋轉(zhuǎn)掩蔽的篩印(screening)，或者油印，這防止了金屬層在氣相沉積過程中發(fā)生沉積?？赡芤呀?jīng)事先向基材施加了復印衍射結(jié)構(gòu)，例如光學變化元素(OVD＝光學變化裝置)具體來說，全息圖，或優(yōu)選正弦曲線衍射柵，不對稱浮雕結(jié)構(gòu)，炫耀光柵，優(yōu)選的各向同性或各向異性消光結(jié)構(gòu)或者光衍射和/或光折射和/或聚光微結(jié)構(gòu)或納米結(jié)構(gòu)，二元或連續(xù)菲涅耳透鏡，微棱鏡結(jié)構(gòu)，微透鏡結(jié)構(gòu)，或其組合結(jié)構(gòu)的形式。但是，這不是一定要存在的。第一層11也不一定是要連續(xù)的，如所示，而是可以具有任意結(jié)構(gòu)和任意形狀。在下一個步驟中，將第二層12(此處為徑向圖案的形式)印刷到第一層上。優(yōu)選使用凹板印刷、柔版印刷、膠印、絲網(wǎng)印刷或數(shù)字印刷，具體地，噴墨印刷來作為印刷技術(shù)。此處，第二層12延伸同時進入被第一層11覆蓋但是沒有完全覆蓋其的區(qū)域111中以及進入未被第一層11覆蓋的區(qū)域112中。當存在復印衍射結(jié)構(gòu)時，優(yōu)選與該結(jié)構(gòu)配準進行印刷，目標容差為+/-1mm，優(yōu)選為+/-0.5mm，這取決于印刷方法。用于印刷第二層12的漆是抗蝕刻物質(zhì)，即對于能夠溶解第一層11的金屬的蝕刻劑具有抗性。如果第一層使用鋁的話，則該蝕刻劑可以是例如氫氧化鈉溶液。則基于PVC/PVAc(聚乙酸乙烯酯)共聚物的漆適合用作抗蝕刻物質(zhì)。漆還含有染料、顏料(具體來說，有色或無色顏料)或者特殊效果顏料、薄膜體系或者膽甾醇型液晶或納米顆粒，從而其產(chǎn)生光學可見效果。在印刷了第二層12之后，對圖1b所示的中間產(chǎn)物用所述的蝕刻劑進行處理。然后進行蝕刻的濃度優(yōu)選為0.1-5％，蝕刻劑的溫度為15-75℃，持續(xù)5-100秒的時間。合適的抗蝕刻物質(zhì)是例如基于PVC/PVAc(聚乙酸乙烯酯)共聚物的漆，其印刷的層厚度優(yōu)選為0.1-10um。在未被第二層覆蓋的區(qū)域中，第一層11溶解。蝕刻之后可以跟著清洗操作(例如用水進行)以及干燥步驟。圖1c顯示從與印刷側(cè)相對的側(cè)的所得到的多層體10。可以看出，第一層11和第二層12的結(jié)構(gòu)相互無縫混合，即精確配置排列。該側(cè)也是通常對多層體10進行觀察的側(cè)。如果存在復印衍射結(jié)構(gòu)的話，則第一層11作為反射層，使得衍射結(jié)構(gòu)在第一層11的區(qū)域是特別清楚可見的。通過粘合層的額外涂層(未示出)的方式，衍射結(jié)構(gòu)可以在未被第一層11覆蓋的區(qū)域111中是完全消失的，如果粘合劑與復印層具有相似折射率(例如，約為1.5)的話，因此，在粘合層與復印層之間沒有形成光學活性的阻隔層。兩層相鄰層的相互折射率差異應(yīng)該不超過0.1。粘合層同時適用于將多層體10施加到基材(例如鈔票)。顏色可以設(shè)計成基本上透明或半透明的，從而使得下方基材是可見的，但是基本上不透明的設(shè)計也是可以的。作為將金屬層用作第一層11的替代，也可以使用數(shù)層毗鄰有色層，將它們印刷到基材上。對于該目的，合適的漆是例如光刻膠，例如購自AZ電子材料公司的AZ1518。則第二層12優(yōu)選是保護漆，例如，具有UV阻斷劑的透明或不透明漆。苯酮衍生物或者高度分散的二氧化鈦特別適用于該目的。然后優(yōu)選將第二層12與第一層11的有色層的邊界區(qū)域交疊印刷。在將整個表面暴露于320-430nm的優(yōu)選波長范圍、10-500mJ/cm2的優(yōu)選曝光劑量以及在約50℃的優(yōu)選溫度用例如0.3％的NaOH蝕刻持續(xù)優(yōu)選10-30秒的時間段之后，則僅第一層11的有色組分保留在它們被第二層12覆蓋的地方，從而形成多色裝飾。如果，例如第二層12以扭索線的形式存在，則因此完成的多層體10顯示出其中可以看出顏色過渡的扭索線，即，所謂的彩虹印刷。類似于圖1來生產(chǎn)圖2所述的多層體10。僅在根據(jù)圖2b的第二生產(chǎn)步驟中，通過印刷兩種不同顏色的漆121、122，來形成作為層系統(tǒng)的第二層12。兩種漆121、122可以適當?shù)亟化B，并且優(yōu)選地以小于0.5mm，特別優(yōu)選小于0.2mm的容差配準印刷。在蝕刻之后(其如圖1所述進行)，獲得根據(jù)圖2c的多層體10。由第二層12形成的所示的星形圖形的射線現(xiàn)在看上去是以漆121、122的顏色交替的。對于可見光范圍內(nèi)可見的印刷顏色，此處作為所示的其他實施方式例子，也可以使用是UV活性或者能夠被IR輻射激發(fā)或者顯示光學變化效果的漆，例如，墨，或者其是可以以電或磁方式被檢測到，例如通過添加合適的金屬納米顆粒。同樣，此處參見圖1的解釋，也可以獲得彩虹印刷效果。圖3-5顯示替代性多層體10的生產(chǎn)步驟，但是，其基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)對應(yīng)于如圖2所示?；静町愒谟谌缦率聦崳涸谠撉闆r下的第二層12在印刷時尚未構(gòu)建，但是首先施涂在整個表面上或者至少施涂到大面積的表面上，然后進行構(gòu)建。為此，首先將釋放層14和例如熱塑性材料或者輻射固化或熱固化復印漆的復印層15施加到聚酯(具體來說PET)的運載層13，其中，這些層可以進而由數(shù)層構(gòu)成。在復印層15中，然后形成衍射結(jié)構(gòu)151，例如通過用金屬沖壓工具沖壓形成。然后將例如硫化鋅或二氧化鈦的第一層11(其在該情況下形成為透明高度折射材料(HRI＝高折射率)的層)，施加到復印層15。然后在整個表面上或者至少在大面積的表面上，將第二層12(其同樣是由兩種不同的有色漆121、122構(gòu)成的，相互毗鄰)施涂到第一層11。漆121、122是UV敏感光刻膠，例如，購自AZ電子材料公司的基于酚樹脂/偶重氮醌的AZ1518。然后將掩蔽層16部分地印刷到第二層12上。掩蔽層16同時作為蝕刻漆和保護漆。為此，可以為抗蝕刻漆(例如，基于PVC/PVAc(聚乙酸乙烯酯)共聚物)提供UV吸收二氧化鈦顆?；蛘咂渌鸘V阻斷劑。這之后從掩蔽層16那側(cè)暴露于UV光。優(yōu)選進行曝光的波長為365nm，劑量是25-500mJ/cm2。然后將圖3所示的中間產(chǎn)物暴露于堿性浴，其同時起了顯影和蝕刻浴的作用。為此，例如，優(yōu)選濃度為0.05-2.5％的NaOH(其優(yōu)選作用在中間產(chǎn)物上持續(xù)2-60秒的時間段，溫度為20-65℃)是合適的。在沒有得到掩蔽層16保護的區(qū)域中，層12的光刻膠121、122在UV輻射過程中曝光，因而現(xiàn)在溶解在顯影浴中。獲得圖4所表示的中間產(chǎn)物。然而，這并非孤立的。相反地，繼續(xù)蝕刻操作，其中，HRI層11現(xiàn)在在沒有被余下層12保護的地方受到侵襲。因此，漆121、122在這里同時作為抗蝕刻物質(zhì)。在蝕刻操作之后，獲得如圖5所示的完成的多層體10。還可以向其施涂粘合層，其填充在經(jīng)曝光的衍射結(jié)構(gòu)151未被第一層11覆蓋的那些地方中。則衍射結(jié)構(gòu)151僅在第一層11的HRI材料作為反射層的地方是可見的。在圖6中，顯示另一種多層體10。層11和12的施加的進行方式與圖1所示的實施方式例子相似。然后將另一透明HRI層17施加在整個表面上，從而未被第一層11覆蓋的衍射元件18變得可見。因而，衍射結(jié)構(gòu)在第一層11的不透明金屬區(qū)域中以及透明HRI層17的區(qū)域中是可見的，但是通常在第二層12的印刷區(qū)域中是不可見的，因為直接印刷到衍射結(jié)構(gòu)上的第二層12的有色漆消除了衍射結(jié)構(gòu)，這是因為有色漆優(yōu)選具有與復印層相似的折射率(約為1.5)，因而在有色漆和復印層之間沒有形成光學活性的邊界層。兩層相鄰層的相互折射率差異應(yīng)該優(yōu)選不超過0.1。根據(jù)圖7a-c的實施方式例子也對應(yīng)于根據(jù)圖1的實施方式例子。僅有的差別在于如下事實：對于第一層11，使用兩種不同金屬113、114，例如Al和Cu。兩種不同金屬113、114可以是空間上分開的，相鄰的或者也可以是部分交疊的。圖7b再次顯示如何將第二層12印刷到第一層11上，從印刷側(cè)進行觀察。圖7c顯示從金屬側(cè)觀察的完成的多層體。由于不透明金屬側(cè)，層12的印刷在層11的金屬區(qū)域下方是不可見的。第一層11的構(gòu)建可以在兩個步驟中進行，例如，對于所使用的兩種金屬或金屬合金，需要采用不同蝕刻劑。當Al和Cu用于第一層11時，它們是例如NaOH和FeCl3。但是，由于構(gòu)建使用相同的印刷掩蔽(即第二層12)，所以第一層11的兩種金屬113、114的轉(zhuǎn)變完美配準進行，換言之，對于第二層12的印刷具有精確的相對位置。根據(jù)圖8的實施方式例子也對應(yīng)于根據(jù)圖1的實施方式例子。此外，僅施加了另一透明HRI層17。為此，在第一步驟中，以已經(jīng)描述過的方式來施加不透明金屬113(例如，鋁)。在另一步驟中，施加ZnS或TiO2的HRI層17，這也可以通過氣相沉積或噴濺進行，從而存在根據(jù)圖8a的層排列。類似地，HRI層17可以僅部分地存在，可以與金屬層113毗鄰，或者也可以至少部分地與其發(fā)生交疊。金屬層113和HRI層17一起形成第一層11。然后用例如紅色的層作為第二層12，來進行加印(overprint)，從而獲得根據(jù)圖8b的情形。視圖是從印刷側(cè)觀察的。在另一個加工步驟中，去除未被加印的兩個反射層113、17的區(qū)域，任選地，也是在兩個加工步驟中，用對應(yīng)于待去除的層的化學品(例如兩種不同堿性溶液)進行。雖然NaOH可用于在所述條件下去除鋁部分，為了去除ZnS的HRI層，NaOH或還有Na2CO3優(yōu)選同樣適用在20-60℃的溫度，持續(xù)5-60秒的時間段。完成的多層體見圖8c所示，是從第一層11那側(cè)進行觀察的。相比于圖1，基材中的衍射結(jié)構(gòu)的效果在存在HRI層17的非金屬區(qū)域中也是可見的，與此同時，第二層12的有色印刷是可見的，因為在印刷和衍射結(jié)構(gòu)之間，HRI層17也排列成光學邊界層。有色漆在這里可以是透明、半透明或者也可以是基本不透明的。根據(jù)圖9的實施方式也對應(yīng)于根據(jù)圖1的情況。不同之處僅在于如下事實：第一層11以精細結(jié)構(gòu)形式存在，此處作為重復的數(shù)字“50”。生產(chǎn)過程包括：第一步驟，其中，根據(jù)圖9a生產(chǎn)精細結(jié)構(gòu)的第一層11。對應(yīng)地，可以以例如如下方式來生產(chǎn)精細結(jié)構(gòu)的金屬層：通過高分辨率掩蔽曝光的方式來構(gòu)建光刻膠層，進而將該層用于構(gòu)建金屬層，或者通過使用經(jīng)由例如WO2006/084685A2已知的不含容差部分金屬化的方法進行。層11由細網(wǎng)格構(gòu)成，所述細網(wǎng)格由例如顯微鏡下的細文本構(gòu)成。然后根據(jù)圖9b進行第二層12的有色印刷。在該例子中，第二層12是大的數(shù)字“50”的形式的相當粗糙的結(jié)構(gòu)圖形。但是，第二層12也可以是非常精細的結(jié)構(gòu)。在最后的步驟中，層12的有色印刷作為以配準方式去除第一層11的掩蔽，從而獲得圖9c所示的多層體10。其進行的方式與已經(jīng)描述過的蝕刻方法相似。例如，如果第一層11和第二層12是精細結(jié)構(gòu)的線格的話，取決于它們的相互相對位置關(guān)系，存在交疊作用，以及最終形成的結(jié)構(gòu)是第一層11和第二層12的精細構(gòu)建的交疊結(jié)構(gòu)。交疊結(jié)構(gòu)可以產(chǎn)生例如所需的波紋狀效果。第一層11的精細構(gòu)建可以設(shè)計成例如作為大量細線的扭索線，優(yōu)選是金屬反射層結(jié)合光學衍射結(jié)構(gòu)，例如，結(jié)合如圖17A所示。然后根據(jù)圖17B進行第二層12的有色印刷。有色印刷可以展現(xiàn)出數(shù)個不同顏色的區(qū)域，例如，(這里所示的)國旗形式和/或國家的地理輪廓或者盾形紋章的形式或者另一多色圖形。在最后的步驟中，層12的有色印刷作為以配準方式去除第一層11的掩蔽，從而獲得圖17C所示的多層體10。其進行的方式與已經(jīng)描述過的蝕刻方法相似。在圖17所示的實施方式中，觀察者承認防偽和獨立特征的事實是，精細構(gòu)建的線僅存在于有色區(qū)域中，并且，在一個有色區(qū)域中可見的精細構(gòu)建的線在另一個相鄰有色區(qū)域中繼續(xù)配準。如圖18所示是具有精細構(gòu)建的第一層11的另一個實施方式。此處同樣地，第一層11的精細構(gòu)建可以設(shè)計成例如包括大量細線的扭索線，優(yōu)選是金屬反射層結(jié)合光學衍射結(jié)構(gòu)，例如，結(jié)合如圖18A所示。然后根據(jù)圖18B進行第二層12的印刷。采用具有UV吸收劑的無色(優(yōu)選透明)的抗蝕刻物質(zhì)。然后將該抗蝕刻物質(zhì)旨在用于進行兩種功能：在一方面，抗蝕刻物質(zhì)的作用是通過蝕刻的方式對精細構(gòu)建的第一層11進行進一步子構(gòu)建，以及在另一個方面，作為對有色區(qū)域進行構(gòu)建的曝光掩蔽。對應(yīng)于涂覆有抗蝕刻物質(zhì)的第一層11的表面，在未提供抗蝕刻物質(zhì)的區(qū)域中，通過蝕刻的方式去除第一層11的精細結(jié)構(gòu)。然后將有色光刻膠印刷到至少包括未被無色抗蝕刻物質(zhì)覆蓋的區(qū)域上。但是，光刻膠也可以與抗蝕刻物質(zhì)交疊。通過采用具有UV吸收劑的無色抗蝕刻物質(zhì)作為曝光掩蔽來對有色光刻膠進行曝光，在不具有任意透明抗蝕刻物質(zhì)的那些區(qū)域中，無色光刻膠固化，并且在與抗蝕刻物質(zhì)精確配準和與被抗蝕刻物質(zhì)保護和限定的那些精細構(gòu)建的第一層11的區(qū)域精確配準的其他區(qū)域中，可以去除無色光刻膠。在圖18所示的實施方式中，觀察者承認防偽和獨立特征的事實是，第一層11的精細結(jié)構(gòu)僅存在于無色區(qū)域中并且以與光刻膠的無色區(qū)域精確配準的方式終止，以及第一層11的精細結(jié)構(gòu)實際上在持續(xù)“穿過有色區(qū)域”在相鄰的透明區(qū)域中，同時保持配準。圖10-13顯示替代性多層體10的生產(chǎn)步驟，但是，其基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)對應(yīng)于如圖9所示?；静町愒谟谌缦率聦崳涸谠撉闆r下的第二層12在印刷時尚未構(gòu)建，但是首先施涂在整個區(qū)域上或者至少施涂到大面積上，然后進行構(gòu)建。為此，初始將釋放層14和復印層15施加到聚酯或PET的運載層13。然后在復印層15中形成衍射結(jié)構(gòu)151。然后將第一層11(在這種情況下，其作為精細構(gòu)建的金屬層存在，例如柵格的形式)施加到復印層15。如圖11所示，然后在整個表面上，將第二層12(其同樣是由兩種不同的有色漆121、122構(gòu)成的，相互毗鄰)施涂到第一層11。漆121、122是UV敏感的有色光刻膠。然后將掩蔽層16部分地印刷到第二層12上，從而獲得圖12所示的中間產(chǎn)物。掩蔽層16可具有另一種柵格的形式。掩蔽層16同時作為蝕刻漆和保護漆。為此，可以為抗蝕刻漆提供UV吸收二氧化鈦顆?；蛘咂渌鸘V阻斷劑。這之后從掩蔽層16那側(cè)暴露于UV光。所使用的曝光參數(shù)和漆對應(yīng)于上文所述的那些。作為掩蔽層16的替代，也可以使用掩膜，其僅在曝光過程中與層121和122接觸，然后再次去除。然后將圖12所示的中間產(chǎn)物暴露于堿性浴(例如，0.3％的NaOH，50℃)，其同時起了顯影和蝕刻浴的作用。在沒有得到掩蔽層16保護的區(qū)域中，層12的光刻膠121、122在UV輻射過程中曝光，因而現(xiàn)在其溶解在顯影浴中。在蝕刻操作的進一步過程中，第一層11在沒有被余下層12保護的地方受到侵襲。因此，漆121、122在這里同時作為抗蝕刻物質(zhì)。在蝕刻操作之后，獲得如圖13所示的完成的多層體10。如圖14所示是第一層11和第二層12的可能的柵格形式的例子。除了所示的線條和圖形柵格之外，其他結(jié)構(gòu)，例如點格當然也是可以的。此外，第一層11和/或第二層12可在第一層和/或第二層的相應(yīng)復印層上提供有其他衍射結(jié)構(gòu)的柵格。這不僅會導致穿過第一和第二層11、12的精細格柵的交疊的交疊效果，還會導致與第一和/或第二層的衍射格柵或格柵的進一步、額外交疊，或者它們的光學變化效應(yīng)。取決于交疊區(qū)域中所設(shè)計的格柵的格柵間距和/或格形狀的類似或不同，會證實交疊效應(yīng)是非常不同的。具體來說，衍射格柵的觀察角和/或照射角的依賴性會導致在該復雜交疊中令人驚訝的光學效果。目前為止所討論的實施方式例子是基于如下事實：首先生產(chǎn)不透明金屬或者透明HRI材料的部分反射層(第一層11)，然后施加印刷(第二層12)。第二層12的印刷起了掩蔽層的作用，例如，類似于抗蝕刻印刷，來進一步構(gòu)建部分金屬層11。在根據(jù)圖15的實施方式例子中，印刷(第二層12)首先被引入到輸入材料中，在該材料中不存在的衍射結(jié)構(gòu)然后得以形成(參見圖15a)。在進一步的步驟中，產(chǎn)生第一部分金屬區(qū)域(第一層11)，如圖15b所示。在接下來的步驟中，將已經(jīng)存在于輸入材料中的印刷用作施加在其上的光刻膠層的曝光掩蔽，從而以與第二層12的印刷完美配準的方式來構(gòu)建第一層11。所使用的材料和工藝參數(shù)對應(yīng)于上文所述的那些。因此，在時間和位置方面完全獨立于第一層11來產(chǎn)生第二層12。例如，也可以將第二層12排列在基材的背面(未示出)，第一層11在其正面。出于具體目的，當?shù)诙?2起了其作為第一層11的構(gòu)建輔助的目的時，可任選地去除所述第二層12。因此，在俯視圖中，具有衍射結(jié)構(gòu)的有色金屬區(qū)域和不具有衍射效果的僅僅有色區(qū)域這兩者都可以被辨認出來，其中，這些區(qū)域(對應(yīng)于層11、12)以完美配準的方式相互混合。圖16顯示多層體10的另一個替代性實施方式例子。這里，如圖16a所示，首先生產(chǎn)第一層11作為具有凹陷字母19的金屬層。如圖16b所示，將第二層12作為柵格化波狀漆層印刷到第一層11上，然后作為抗蝕刻掩蔽用于在堿性浴中對第一層11進行進一步構(gòu)建。在蝕刻之后，獲得如圖16c所示的多層體10，其中，在凹陷字母區(qū)域中的第二層12的有色線繼續(xù)與字母19外面的第一層11的余下的金屬線完美配準。線寬不一定是恒定的，而是可以進行額外的調(diào)整，產(chǎn)生不同的柵格局部表面密度，形成額外的信息片。線寬優(yōu)選為25-150um。柵間距也可以進行調(diào)節(jié)，并且優(yōu)選小于300um，優(yōu)選小于200um，以及優(yōu)選大于25um。