本發(fā)明涉及防偽技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及防偽材料及其制備方法。

背景技術(shù)：

現(xiàn)有防偽技術(shù)中，大多以水印、有色纖維、熒光油墨印刷、微點或微小記號的形體及隨機分布等作為防偽手段：

比如公告號為CN101673341A、專利名稱為一種微點防偽方法的專利，其公開了一種防偽材料，公開了一種防偽技術(shù)尤其涉及一種微點防偽方法，“該方法包括以下步驟：（1）提供一種防偽點；提供一種膠水，將防偽點混合于膠水之中；（2）想承載物上點混有微點的膠水；（3）固化膠水；（4）拍照膠滴，形成原始對比圖片；（5）原始對比圖片存入后臺數(shù)據(jù)；（6）防偽驗證拍照膠滴，形成被比圖片；（7）讀取后臺數(shù)據(jù)庫原始對比圖片，與被比圖片比較，做出真?zhèn)闻袛啵黄渲?，第?）步所述的拍照膠滴，為放大拍照；第（7）步所述的防偽驗證拍照膠滴，也是放大拍照膠滴，本發(fā)明提供一種不可仿制的微點防偽方法”；

與此相對應(yīng)，公告號為CN102267287A、專利名稱為一種微點防偽印記的制備方法及裝置的專利，其公開了一種類似的微點防偽印記的制備方法及實現(xiàn)該方法的裝置，該“微點防偽印記的制備方法包括一下步驟：S1，提供一種微點標記物，提供一種墨水；S2混墨，即將微點標記物與墨水混合均勻；S3，提供至少二個噴頭，提供目標物；S4噴射，通過噴頭將混有微點標記物的墨水噴向標的物；S5干燥混有微點標記物的墨水；字噴射過程中，混墨步驟連續(xù)的進行，混墨、向噴頭供墨，噴射是全封閉的液路內(nèi)完成的”；

再比如公告號為CN1350274A、專利名稱為含有多數(shù)微小記號或圖案的防偽標記及其形成方法的專利，其公開了一種含有多數(shù)微小記號或圖案的防偽標記及其形成方法，“以含有多數(shù)微小圖案記號的防偽標記，達成簽定物品真?zhèn)渭胺乐箓卧斓膽?yīng)用。物件簽定用方法是根據(jù)在物件中形成的至少一獨特標記，它含有多數(shù)微小圖案或印記，并以隨機組合的方式合于標記內(nèi)，以作為對比、鑒定的方法，而具有防止他人偽造及可輕易達成識別及鑒定和對比的功效”；

再比如公告號為CN105374283A、專利名稱為一種防偽材料及其制備方法的專利，其公開了一種防偽材料及其制備方法，其“通過在玻璃基底上面鍍附著層、犧牲層、鍍無形硅層，涂布光固膠、曝光、顯影、清洗、刻蝕無定形硅層，二次涂膠、曝光、顯影、清洗，鍍金屬模塊，清洗光刻膠，刻蝕犧牲層，清洗過濾；從而提供一種具有多材質(zhì)、立體感的防偽材料及其制備方法”；

再比如公告號為CN105303393A、專利名稱為一種防偽方法的專利，其公開了一種防偽方法，“是用稀土氧化物與光固膠混合填充到無定形硅模上的鏤空區(qū)域，產(chǎn)生兩個模塊顏色作為一道防偽信息，同時不同稀土氧化物在不同紅外線照射下產(chǎn)生不同顏色作為第二道防偽信息”；

再比如公告號為CN105469698A、專利名稱為一種防偽方法的專利，其公開了一種防偽方法，“是用不同稀土氧化物與光固膠混合固化形成稀土氧化物模塊，不同稀土氧化物在紅外線照射下呈現(xiàn)不同的顏色組合，構(gòu)成彩色信息達到防偽的目的”。

諸如以上等等，市場上以復(fù)合纖維、熒光硅納米顆粒、微點或微小記號的形體及隨機分布、多材質(zhì)、立體感的防偽材料等作為防偽手段的的防偽材料及防偽技術(shù)，隨著科學(xué)技術(shù)的進步，都能夠被破解和廉價仿制。公告號為CN101673341A、公告號為CN102267287A和CN1350274A的專利公開的技術(shù)方案能解決大部分的防偽需求，然而其采用單一材質(zhì)構(gòu)成，防偽材料為沒有層次感和立體感的單色結(jié)構(gòu)，這種單一材質(zhì)構(gòu)成的防偽材料容易被仿制；

公告號為CN105374283A的專利公開的技術(shù)方案雖然以多材質(zhì)、立體感的防偽材料來作為防偽手段，但是其僅通過先刻蝕無定形硅再在無定形硅鏤空區(qū)域鍍金屬鑲嵌到無定形硅刻蝕中的鏤空區(qū)域，防偽材料僅由2種材質(zhì)構(gòu)成，也容易被仿制。

公告號為CN105303393A和CN105469698A的專利公開的技術(shù)方案雖然采用稀土氧化物材料與光固膠混合，不同的稀土氧化物組合成不同的稀土氧化物組合模塊，在紅外線入射光照射下不同的稀土氧化物產(chǎn)生不同的顏色，但根據(jù)以上工藝方法制備的防偽材料中所體現(xiàn)的字符、圖案、顏色都是一樣的，而且這種防偽材料中只能有一面是正向的字符和圖案，另一面只能加工反向的字符、圖案采用鍍膜、光固膠來填充鏤空區(qū)域的工藝，其填充后鏤空模塊和填充模塊容易脫落、離散、斷裂，在使用過程中容易出現(xiàn)防偽標識識別錯誤、出現(xiàn)誤判，不利防偽管理與維護。

綜上所述，隨著科技水平的不斷發(fā)展，道高一尺魔高一丈，現(xiàn)有的防偽技術(shù)和防偽材料已存在缺陷，對于防偽性能要求高的場合，現(xiàn)有的防偽技術(shù)和防偽材料不能滿足需求，因而需要不斷推陳出新，不斷改進創(chuàng)造。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

為克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明提供了一種防偽標識立體層次多、防偽標識組合變化多樣、防偽性能好，難以被逆向分析破解的防偽材料及其制備方法。

本發(fā)明為達到上述技術(shù)目的所采用的技術(shù)方案是：一種防偽材料，包括在游離狀態(tài)下相互離散的防偽微納模組，每個所述防偽微納模組中包括第一復(fù)合微納識別層，所述第一復(fù)合微納識別層中包括用于加工第一防偽識別特征層的第一基礎(chǔ)材料層和設(shè)于第一防偽識別特征層上的第一微納結(jié)構(gòu)層，所述第一防偽識別特征層中設(shè)有第一防偽標記圖案；第一復(fù)合微納識別層上設(shè)有第二復(fù)合微納識別層，所述第二復(fù)合微納識別層中包括第二微納結(jié)構(gòu)層和用于加工第二防偽識別特征層的第二基礎(chǔ)材料層，所述第二防偽識別特征層中設(shè)有第二防偽標記圖案；所述第二復(fù)合微納識別層具有與第一復(fù)合微納識別層不同或相同的吸收率、透光率和反射率；外部的不同防偽入射光譜經(jīng)過第一復(fù)合微納識別層或第二復(fù)合微納識別層折射及發(fā)射后的光源與所述第一防偽標記圖案或第二防偽標記圖案相互對照、映襯糅合，使從防偽微納模組反射至防偽識別系統(tǒng)中的光源中包含逆向破解成本高昂的光譜編碼防偽信息。

所述第一微納結(jié)構(gòu)層中包括至少由一種材料構(gòu)成的一個或一個以上的第一微納膜層，第一基礎(chǔ)材料層中包括至少由一種材料構(gòu)成的一個或一個以上的第一基礎(chǔ)膜層。

所述第二微納結(jié)構(gòu)層包括至少由一種材料構(gòu)成的一個或一個以上的第二微納膜層，第二基礎(chǔ)材料層中包括至少由一種材料構(gòu)成的一個或一個以上的第二基礎(chǔ)膜層。

所述第二復(fù)合微納識別層上還設(shè)有第三復(fù)合微納識別層，所述第三復(fù)合微納識別層中也設(shè)有至少一個第三微納結(jié)構(gòu)層和第三防偽識別特征層，第三防偽識別特征層加工于第三基礎(chǔ)材料層中，所述第三防偽識別特征層中設(shè)有第三防偽標記圖案；所述第三微納結(jié)構(gòu)層中包括至少由一種材料構(gòu)成的一個或一個以上的第三微納膜層，所述第三復(fù)合微納識別層具有與第一復(fù)合微納識別層或第二復(fù)合微納識別層不同或相同的吸收率、透光率和反射率。

所述第一復(fù)合微納識別層或第二復(fù)合微納識別層包括有色透明、無色透明或不透明結(jié)構(gòu)，不透明所述第一復(fù)合微納識別層或第二復(fù)合微納識別層包括單色或非單色結(jié)構(gòu)。

所述防偽微納模組的厚度尺寸為100納米至5毫米，所述防偽微納模組的外形尺寸為10微米至5毫米；所述第一復(fù)合微納識別層或第二復(fù)合微納識別層的厚度尺寸為100納米至5毫米，所述第一復(fù)合微納識別層或第二復(fù)合微納識別層的厚度相等或者不等。

所述第一防偽標記圖案或第二防偽標記圖案包括數(shù)字、字符、文字、圖形標識、條形碼、二維碼、三維碼或陣列；所述第一防偽標記圖案或第二防偽標記圖案的形狀包括凹凸的二維平面形狀、三維規(guī)則幾何體形狀或具有立體曲面的不規(guī)則立體形狀。

構(gòu)成所述第一復(fù)合微納識別層、第二復(fù)合微納識別層、第三復(fù)合微納識別層的材料包括金屬、半導(dǎo)體、非金屬材料、復(fù)合材料中的一種或一種以上。

一種制備上述的防偽材料的制備方法，其包括如下步驟：

1）基材制備：采用玻璃、PMMA、PC或不銹鋼板制成待用的基材；

2）第一次覆膜：在基材的表面覆上一層過渡膜層，然后在過渡膜層的表面覆上第一基礎(chǔ)材料層，所述覆膜包括噴涂、旋涂、點涂、刮涂、電鍍、印刷工藝，所述過渡膜層為活性材料膜組成的不透光或部分透光層，所述第一基礎(chǔ)材料層中包括至少由一種不透明或部分透明材料構(gòu)成的一個或一個以上的第一基礎(chǔ)膜層；

3）第一次防偽識別特征層加工：通過掩膜工藝在第一基礎(chǔ)材料層中加工出第一防偽標記圖案使其成為第一防偽識別特征層，其中所述掩膜材料包含正膠、負膠、不透明材料混合膠、透明或部分透明材料混合膠，所述加工方法包括化學(xué)法加工或物理法加工；

4）第二次覆膜：在第一復(fù)合微納識別層中的第一防偽識別特征層上覆上第一微納結(jié)構(gòu)層，第一微納結(jié)構(gòu)層中包括至少由一種不透明或部分透明材料構(gòu)成的一個或一個以 上的第一微納膜層，然后在第一微納結(jié)構(gòu)層上覆上第二復(fù)合微納識別層，所述第二復(fù)合微納識別層中包括不透明或部分透明的第二微納結(jié)構(gòu)層和用于加工第二防偽識別特征層的第二基礎(chǔ)材料層，第二微納結(jié)構(gòu)層包括至少由一種不透明或部分透明材料構(gòu)成的一個或一個以上的第二微納膜層，第二基礎(chǔ)材料層中包括至少由一種不透明或部分透明材料構(gòu)成的一個或一個以上的第二基礎(chǔ)膜層；

5）第二次防偽識別特征層加工：通過掩膜工藝，在第二復(fù)合微納識別層中的第二基礎(chǔ)材料層中加工出第二防偽標記圖案使其成為第二防偽識別特征層，其中所述掩膜材料包含正膠、負膠、不透明材料混合膠、透明或部分透明材料混合膠，所述加工方法包括化學(xué)法加工刻蝕或物理法加工刻蝕；得到密集附著在基材上的所述防偽微納模組；

6）萃取、收集：用萃取液把基材上的過渡膜層溶解，使基材上密集排列的所述防偽微納模組剝離出來，所述防偽微納模組相互離散、游離狀懸浮在萃取液中，收集萃取液中游離狀懸浮的所述防偽微納模組待用。

在步驟5）第二次防偽識別特征層加工后再進行第三次覆膜和第三次防偽識別特征層加工，在第二復(fù)合微納識別層上制備出第三復(fù)合微納識別層；通過如此重復(fù)操作，能夠根據(jù)需要逐層層疊加工。

能夠根據(jù)防偽復(fù)雜程度的需求，在第一微納識別層、第二復(fù)合微納識別層或第三微納識別層中的微納結(jié)構(gòu)層和防偽識別特征層中依照相同或不同的透過率、反射率、吸光率、材料、覆膜膜系、顏色等參數(shù)條件進行設(shè)計，通過復(fù)雜的多層組合結(jié)構(gòu)設(shè)計出具有各種反射效果、吸光反差效果、濾光效果、顏色對比反差效果等逆向破解成本高昂的光譜編碼防偽信息，使微納防偽模組包含的光譜編碼防偽信息達到不可復(fù)制的防偽效果和目的。膜系設(shè)計不受材料、層數(shù)、工藝限制。

本發(fā)明的有益效果是：

1、本發(fā)明制作的防偽微納模組為微納米級尺寸，而且防偽微納模組中微納結(jié)構(gòu)層和防偽識別特征層都具有相同或不同透光率和反射率，入射防偽光譜范圍廣，經(jīng)過防偽微納模組中不同光學(xué)膜層折射、反射后組成的光學(xué)防偽信息編碼復(fù)雜，每一單層膜層之間相互關(guān)聯(lián)、影響、組合成復(fù)合膜層，每復(fù)合膜層之間又相互關(guān)聯(lián)，層層相扣，去除或者減少其中的某一層，就會導(dǎo)致每一膜層之間相互映射、透射、反射、映襯出來的光譜編碼防偽信息的視覺效果和反射信息發(fā)生改變，即達到“不拆解不知道，一拆解就亂套”的破解難度，造假者難以逆向破解分析和仿造。

2、本發(fā)明能夠在防偽微納模組兩面制作由不同字符、圖案、陣列構(gòu)成的防偽標記，這些防偽標記能夠采用各種不同材料、顏色，再結(jié)合多層具有不同透光率和反射率的膜層微納結(jié)構(gòu)層，在不同的防偽光譜入射后經(jīng)反射后包含復(fù)雜組合編碼的光譜編碼防偽信息，在使用時通過將幾個含有這些光譜編碼防偽信息的防偽微納模組再隨機組合，能夠構(gòu)成逆向破解的重復(fù)概率極低的防偽碼，防偽性能好；

3、當(dāng)幾個或多個防偽微納模組隨機組合作為防偽碼附加在需要防偽的物品上使用時，有這些防偽微納模組能夠作為防偽暗碼標記，造假者不容易找到防偽暗碼標記；由于每個物品上的防偽暗碼標記都是由幾個或多個防偽微納模組隨機組合的，使即使造假者找到防偽暗碼標記，仿造復(fù)制防偽暗碼標記難度大，而且造假者無法根據(jù)一個物品上的一個防偽暗碼標記進行批量造假，能夠極大程度上杜絕造假；

4、創(chuàng)造性的利用掩膜工藝、覆膜工藝制備防偽微納模組，把不同材質(zhì)、不同光學(xué)性能的膜層經(jīng)過多次工藝結(jié)合與互補融合加工，把防偽信息和防偽特征逐層植入防偽微納模組中，并通過光學(xué)設(shè)計、色彩搭配、膜層材料互補技術(shù)，把各層防偽信息和防偽特征經(jīng)過掩膜工藝、覆膜工藝來糅合、包裹形成一個內(nèi)部結(jié)構(gòu)復(fù)雜的、并且是相互離散的微納模組，實現(xiàn)不易破解的防偽目的。

綜上所述，本發(fā)明制備的防偽微納模組材料中防偽標識立體層次多、防偽標識組合變化多樣、防偽性能好，難以被逆向分析破解。

附圖說明

下面結(jié)合附圖和實施例對本發(fā)明作進一步說明。其中：

圖1是具有第一、第二復(fù)合微納識別層的防偽微納模組的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是第一微納結(jié)構(gòu)層中設(shè)有兩個第一微納鍍層的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3是第一基礎(chǔ)材料層中設(shè)有兩個第一基礎(chǔ)鍍層的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4是第二微納結(jié)構(gòu)層中設(shè)有兩個第二微納鍍層的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5是第二基礎(chǔ)材料層中設(shè)有兩個第二基礎(chǔ)鍍層的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖6是第一防偽標記圖案或第二防偽標記圖案的組成內(nèi)容示意圖；

圖7是第一防偽標記圖案或第二防偽標記圖案的形狀示意圖；

圖8是具有第一、第二、第三復(fù)合微納識別層的防偽微納模組之一的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖9是具有第一、第二、第三復(fù)合微納識別層的防偽微納模組之二的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖10是防偽微納模組的防偽原理示意圖。

具體實施方式

為詳細說明本發(fā)明的技術(shù)內(nèi)容、構(gòu)造特征、所實現(xiàn)目的及效果，以下結(jié)合實施方式并配合附圖詳細說明。

請參閱圖1所示，本發(fā)明包括在游離狀態(tài)下相互離散的防偽微納模組1，每個所述防偽微納模組1中包括第一復(fù)合微納識別層01，所述第一復(fù)合微納識別層01中包括用于加工第一防偽識別特征層011的第一基礎(chǔ)材料層012和設(shè)于第一防偽識別特征層011上的第一微納結(jié)構(gòu)層013，所述第一防偽識別特征層011中設(shè)有第一防偽標記圖案0111；第一復(fù)合微納識別層01上設(shè)有第二復(fù)合微納識別層02，所述第二復(fù)合微納識別層02中包括第二微納結(jié)構(gòu)層021和用于加工第二防偽識別特征層022的第二基礎(chǔ)材料層023，所述第二防偽識別特征層022中設(shè)有第二防偽標記圖案0221；所述第二復(fù)合微納識別層02具有與第一復(fù)合微納識別層01不同或相同的吸收率、透光率和反射率；外部的不同防偽入射光譜經(jīng)過第一復(fù)合微納識別層01或第二復(fù)合微納識別層02折射及發(fā)射后的光源與所述第一防偽標記圖案0111或第二防偽標記圖案0221相互對照、映襯糅合，使從防偽微納模組1反射至防偽識別系統(tǒng)中的光源中包含逆向破解成本高昂的光譜編碼防偽信息。

所述第一微納結(jié)構(gòu)層013中包括至少由一種材料構(gòu)成的一個或一個以上的第一微納膜層0131，第一基礎(chǔ)材料層012中包括至少由一種材料構(gòu)成的一個或一個以上的第一基礎(chǔ)膜層0121。

所述第二微納結(jié)構(gòu)層021包括至少由一種材料構(gòu)成的一個或一個以上的第二微納膜層0211，第二基礎(chǔ)材料層023中包括至少由一種材料構(gòu)成的一個或一個以上的第二基礎(chǔ)膜層0231。

構(gòu)成所述第一復(fù)合微納識別層01、第二復(fù)合微納識別層02、第三復(fù)合微納識別層03的材料包括金屬、半導(dǎo)體、非金屬材料、復(fù)合材料中的一種或一種以上；例如，第一復(fù)合微納識別層01采用硅或金屬鉻、銅及其它金屬或合金膜層或與其它材料的復(fù)合膜層，是不透明或部分透明狀的膜層，能夠與第二復(fù)合微納識別層02相互對照、映襯糅合產(chǎn)生光學(xué)反差對比；第二復(fù)合微納識別層02采用氧化硅與其它材料的復(fù)合膜層，是不透明、透明或半透明狀的膜層，能夠與第二復(fù)合微納識別層01和第三復(fù)合微納識別層03相互對照、映襯糅合產(chǎn)生光學(xué)反差對比；第三復(fù)合微納識別層03采用硅、金屬鉻、銅及其它金屬或合金膜層，其顏色可以與第一防偽識別特征層01一樣或者不一樣，能夠與第二復(fù)合微納識別層02產(chǎn)生光學(xué)反差對比。

請參閱圖2所示，所述第一微納結(jié)構(gòu)層013中包括由兩種材料構(gòu)成的兩個第一微納膜層0131。

請參閱圖3所示，所述第一基礎(chǔ)材料層012中包括至由兩種材料構(gòu)成的兩個第一基礎(chǔ)膜層0121。

請參閱圖4所示，所述第二微納結(jié)構(gòu)層021中包括由兩種材料構(gòu)成的兩個第二微納膜層0211。

請參閱圖5所示，所述第二基礎(chǔ)材料層023中包括由兩種材料構(gòu)成的兩個第二基礎(chǔ)膜層0231，兩個第二基礎(chǔ)膜層0231中都加工有第二防偽標記圖案0221。

請參閱圖6所示，所述第一防偽標記圖案0111或第二防偽標記圖案0221包括數(shù)字、字符、文字、圖形標識、條形碼、二維碼、三維碼或陣列結(jié)構(gòu)。

請參閱圖7所示，第一防偽標記圖案0111或第二防偽標記圖案0221的形狀包括凹凸的二維平面形狀、三維規(guī)則幾何體形狀或具有立體曲面的不規(guī)則立體形狀。

請參閱圖8所示，所述第二復(fù)合微納識別層02上還設(shè)有第三復(fù)合微納識別層03，所述第三復(fù)合微納識別層03中也設(shè)有至少一個第三微納結(jié)構(gòu)層031和第三防偽識別特征層032，第三防偽識別特征層032加工于第三基礎(chǔ)材料層033中，所述第三防偽識別特征層032中設(shè)有第三防偽標記圖案0321；所述第三微納結(jié)構(gòu)層031中包括至少由一種材料構(gòu)成的一個或一個以上的第三微納膜層0311，所述第三復(fù)合微納識別層03具有與第一復(fù)合微納識別層01或第二復(fù)合微納識別層02不同或相同的吸收率、透光率和反射率。通過如此重復(fù)操作，能夠根據(jù)需要在第三復(fù)合微納識別層03上再進行覆膜和特征加工，能夠逐層層疊，加工出更多復(fù)合微納識別層的防偽微納模組1。

請參閱圖9所示，防偽微納模組1中設(shè)有第一復(fù)合微納識別層01、第二復(fù)合微納識別層02和第三復(fù)合微納識別層03，第一復(fù)合微納識別層01中的第一微納結(jié)構(gòu)層013中包括兩個第一微納鍍層0131，第三復(fù)合微納識別層03中的第三基礎(chǔ)材料層033中兩個第三基礎(chǔ)膜層0331。

請參閱圖10所示，本發(fā)明的工作原理是：當(dāng)一束防偽入射光照射到防偽微納模組1中透過率是20%的第二防偽識別特征層022（即光從圖10所示左側(cè)第一層照入）時，20%的光線進入到第二微納結(jié)構(gòu)層021，80%的光被反射至防偽識別系統(tǒng)中；20%的光線經(jīng)過第二防偽識別特征層022到第二微納結(jié)構(gòu)層021后，剩下14%的光進入到第一微納結(jié)構(gòu)層013表面，然后有4%的光被反射回第二防偽識別特征層022后又有0.8%的光再被折射出防偽微納模組1、與80%的反射光混合成新的反射光；

從經(jīng)過第二微納結(jié)構(gòu)層021的光照射到不透明的第一微納結(jié)構(gòu)層013時（第一微納結(jié)構(gòu)層013可以為透明或不透明層），其中10%的光被反射后經(jīng)過第二微納結(jié)構(gòu)層021再回到第二防偽識別特征層022中，有7%的光經(jīng)過第二微納結(jié)構(gòu)層021后再有1.4%的光折射出防偽微納模組1，1.4%的折射光再與80%的反射光、0.8%的折射光再混合一個新的反射光，構(gòu)成編碼復(fù)雜的光學(xué)防偽信息；

光從圖10所示防偽微納模組1右側(cè)第一層照入時也是同樣工作原理，即防偽微納模組1雙面都能起到防偽作用；而現(xiàn)有技術(shù)中的防偽材料通常都只能一面設(shè)有起到防偽作用的防偽特征面，現(xiàn)有技術(shù)中的防偽材料的特征面貼在需要防偽的物品上使用時有一半的概率朝下、特征面被擋住，特征面被擋住時其防偽作用失效，致使現(xiàn)有技術(shù)中的防偽材料需要更多的組合使用才能具有更好的防偽作用，而本發(fā)明中的防偽微納模組1雙面防偽，而且能夠相互對照、映襯糅合更加復(fù)雜的圖案、光譜編碼，防偽性能卓越，不易被破解仿造。

隨著第一復(fù)合微納識別層01和第二復(fù)合微納識別層02中的第一、第二防偽識別特征層011、022和第一、第二微納結(jié)構(gòu)層013、021的增加，經(jīng)過多層次的透射、反射后，從防偽微納模組1反射至防偽識別系統(tǒng)中的光源中包含編碼及其復(fù)雜的光譜編碼防偽信息，以現(xiàn)有的技術(shù)手段破解難度極大，造假者逆向破解分析和仿造不了。

圖1至圖7所示的防偽微納模組1的制備方法，其包括如下步驟：

1）基材制備：采用玻璃、PMMA、PC或不銹鋼板制成待用的基材；

2）第一次覆膜：在基材的表面覆上一層過渡膜層，然后在過渡膜層的表面覆上第一基礎(chǔ)材料層012，所述覆膜包括噴涂、旋涂、點涂、刮涂、電鍍、印刷工藝，所述過渡膜層為活性材料膜組成的不透光或部分透光層，所述第一基礎(chǔ)材料層012中包括至少由一種不透明或部分透明材料構(gòu)成的一個或一個以上的第一基礎(chǔ)膜層0121；

3）第一次防偽識別特征層加工：通過掩膜工藝在第一基礎(chǔ)材料層012中加工出第一防偽標記圖案0111使其成為第一防偽識別特征層011，其中所述掩膜材料包含正膠、負膠、不透明材料混合膠、透明或部分透明材料混合膠，所述加工方法包括化學(xué)法加工或物理法加工；

4）第二次覆膜：在第一復(fù)合微納識別層01中的第一防偽識別特征層011上覆上第一微納結(jié)構(gòu)層013，第一微納結(jié)構(gòu)層013中包括至少由一種不透明或部分透明材料構(gòu)成的一個或一個以上的第一微納膜層0131，然后在第一微納結(jié)構(gòu)層013上覆上第二復(fù)合微納識別層02，所述第二復(fù)合微納識別層02中包括不透明或部分透明的第二微納結(jié)構(gòu)層021和用于加工第二防偽識別特征層022的第二基礎(chǔ)材料層023，第二微納結(jié)構(gòu)層021包括至少由一種不透明或部分透明材料構(gòu)成的一個或一個以上的第二微納膜層0211，第二基礎(chǔ)材料層023中包括至少由一種不透明或部分透明材料構(gòu)成的一個或一個以上的第二基礎(chǔ)膜層0231；

5）第二次防偽識別特征層加工：通過掩膜工藝在第二復(fù)合微納識別層02中的第二基礎(chǔ)材料層023中加工出第二防偽標記圖案0221使其成為第二防偽識別特征層022，其中所述掩膜材料包含正膠、負膠、不透明材料混合膠、透明或部分透明材料混合膠，所述加工方法包括化學(xué)法加工或物理法加工，得到密集附著在基材上的所述防偽微納模組1；

6）萃取、收集：用萃取液把基材上的過渡膜層溶解，使基材上密集排列的所述防偽微納模組1剝離出來，一個個所述防偽微納模組1相互離散、游離狀懸浮在萃取液中，收集萃取液中游離狀懸浮的所述防偽微納模組1待用。

根據(jù)需要，在上述步驟5）第二次防偽識別特征層加工后再進行第三次覆膜和第三次防偽識別特征層加工，在第二復(fù)合微納識別層02上制備出第三復(fù)合微納識別層03；通過如此重復(fù)操作，能夠逐層層疊加工出如圖8及圖9所示的防偽微納模組1。

以上所述僅為本發(fā)明的實施例，并非因此限制本發(fā)明的專利范圍，凡是利用本發(fā)明說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)變換，或直接或間接運用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本發(fā)明的專利保護范圍內(nèi)。