]另外，在本發(fā)明中，在設(shè)定向偏振膜FX照射的激光L的每單位面積的能量時，能夠調(diào)整上述的激光L的輸出、或調(diào)整激光L的掃描速度、或組合這些調(diào)整。
[0128]另外，作為針對切斷線C的激光L的掃描方法，能夠列舉出反復(fù)使激光L沿著該切斷線C向一個方向環(huán)繞的方法、反復(fù)使激光L在該切斷線C的始點與終點之間往復(fù)環(huán)繞的方法等。此外，還能夠列舉出使用多個激光加工裝置30，使多個激光L同時沿著切斷線C進行掃描的方法等。
[0129]附圖標(biāo)號說明
[0130]10...輥式輸送機(搬運機構(gòu))；11...第一對準(zhǔn)裝置；12...第一貼合裝置；
13...第一切斷裝置；14...第二對準(zhǔn)裝置；15...第二貼合裝置；16...第二切斷裝置；
17...第三對準(zhǔn)裝置；18...第三貼合裝置；19...第三切斷裝置；20...控制裝置(控制機構(gòu))；30...激光加工裝置；31...激光照射裝置(照射機構(gòu)、照射部)；32...激光掃描裝置(掃描機構(gòu)、掃描部)；33...驅(qū)動控制裝置(驅(qū)動控制機構(gòu)、驅(qū)動部)；34...激光源(光源)；35...聚光透鏡(聚光光學(xué)系統(tǒng))；36Α...第一位置調(diào)整機構(gòu)；36Β...第二位置調(diào)整機構(gòu)；FX...偏振膜；fx...貼合部分；fy...多余部分；S1...粘合層；S2...表面保護膜；
53...第一保護層；S4...第二保護層；S5...偏振層；L...激光；G...玻璃基板；C...切斷線；U...焦點位置；V...切斷槽；F1...第一光學(xué)片；F2...第二光學(xué)片；F3...第三光學(xué)片；F11、FlS...第一光學(xué)膜(偏振膜)；F12...第二光學(xué)膜(增亮膜)；F13...第三光學(xué)膜(偏振膜)；F21...第一貼合體；F22...第二貼合體；F23...第三貼合體；R1...第一原料輥；R2...第二原料輥；R3...第三原料輥；pf...保護膜；Y、Y’、Y”...多余部分；Ρ、ΡΧ...液晶面板；Pl...第一基板；Ρ2...第二基板；Ρ3...液晶層；Ρ4...顯示區(qū)域；Ρ5...部件安裝部；Ρ11...第一貼合面板；Ρ12...第二貼合面板；Ρ13...雙面貼合面板。
【主權(quán)項】
1.一種光學(xué)顯示設(shè)備的生產(chǎn)方法，其是在光學(xué)顯示面板上貼合有光學(xué)膜的光學(xué)顯示設(shè)備的生產(chǎn)方法， 其特征在于，包括如下工序: 貼合工序，在該貼合工序中，將比所述光學(xué)顯示面板大的光學(xué)膜貼合于所述光學(xué)顯示面板；以及 切斷工序，在該切斷工序中，沿著貼合在所述光學(xué)顯示面板上的所述光學(xué)膜的貼合部分與從所述貼合部分向外側(cè)伸出的所述光學(xué)膜的多余部分之間的切斷線，將所述光學(xué)膜切斷， 在所述切斷工序中，在切斷所述光學(xué)膜時使用激光，通過多次利用激光對所述光學(xué)膜的切斷線進行掃描而切斷所述光學(xué)膜，并且， 至少在針對所述切斷線的第一次的激光掃描中，將向所述光學(xué)膜照射的激光的每單位面積的能量設(shè)定為未切斷所述光學(xué)膜的第一能量， 在針對所述切斷線的第二次以后的激光掃描中，將在至少切斷所述光學(xué)膜時向所述光學(xué)膜照射的激光的每單位面積的能量設(shè)定為比所述第一能量小的第二能量。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)顯示設(shè)備的生產(chǎn)方法，其特征在于， 在所述切斷工序中，通過可變地調(diào)整所述激光的輸出，從而每次掃描時都設(shè)定向所述光學(xué)膜照射的激光的每單位面積的能量。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光學(xué)顯示設(shè)備的生產(chǎn)方法，其特征在于， 在所述切斷工序中，通過可變地調(diào)整所述激光的掃描速度，從而每次掃描時都設(shè)定向所述光學(xué)膜照射的激光的每單位面積的能量。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的光學(xué)顯示設(shè)備的生產(chǎn)方法，其特征在于， 在針對所述切斷線的第一次的激光掃描中，通過使所述激光的焦點位置位于所述光學(xué)膜的厚度方向上的中間部，從而在所述光學(xué)膜上形成沿著所述切斷線的切斷槽， 在針對所述切斷線的第二次以后的激光掃描中，每次掃描時都使所述激光的焦點位置在所述切斷槽的深度方向上移位。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光學(xué)顯示設(shè)備的生產(chǎn)方法，其特征在于， 所述光學(xué)膜具有至少在厚度方向上的中間部包括偏振層的層疊構(gòu)造， 在針對所述切斷線的第一次的激光掃描中，通過將所述激光的焦點位置設(shè)定在比所述偏振層深的位置，從而形成至少將所述偏振層截斷的切斷槽。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項所述的光學(xué)顯示設(shè)備的生產(chǎn)方法，其特征在于， 在針對所述切斷線的第二次以后的激光掃描中，在使所述激光位于所述切斷槽的內(nèi)側(cè)的狀態(tài)下，每次掃描時都使所述激光的焦點位置向比所述切斷槽的最深部靠外側(cè)的位置移位。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項所述的光學(xué)顯示設(shè)備的生產(chǎn)方法，其特征在于， 該光學(xué)顯示設(shè)備的生產(chǎn)方法包括整形程序，該整形程序在所述切斷工序之后，通過對所述光學(xué)膜的切斷面照射激光來修整所述切斷面的形狀。
8.一種光學(xué)顯示設(shè)備的生產(chǎn)系統(tǒng)，其是在光學(xué)顯示面板上貼合有光學(xué)膜的光學(xué)顯示設(shè)備的生產(chǎn)系統(tǒng)， 其特征在于，具備: 貼合裝置，其將比所述光學(xué)顯示面板大的光學(xué)膜貼合于所述光學(xué)顯示面板；以及切斷裝置，其沿著貼合在所述光學(xué)顯示面板上的所述光學(xué)膜的貼合部分與從所述貼合部分向外側(cè)伸出的所述光學(xué)膜的多余部分之間的切斷線，將所述光學(xué)膜切斷， 所述切斷裝置具有: 照射部，其向所述光學(xué)膜照射激光；以及 掃描部，其使所述激光沿著所述光學(xué)膜的切斷線進行掃描， 所述掃描部通過多次利用激光對所述光學(xué)膜的切斷線進行掃描而切斷所述光學(xué)膜，并且， 所述照射部至少在針對所述切斷線的第一次的激光掃描中，將向所述光學(xué)膜照射的激光的每單位面積的能量設(shè)定為未切斷所述光學(xué)膜的第一能量， 所述照射部在針對所述切斷線的第二次以后的激光掃描中，將在至少切斷所述光學(xué)膜時向所述光學(xué)膜照射的激光的每單位面積的能量設(shè)定為比所述第一能量小的第二能量。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光學(xué)顯示設(shè)備的生產(chǎn)系統(tǒng)，其特征在于， 所述照射部通過可變地調(diào)整所述激光的輸出，從而每次掃描時都設(shè)定向所述光學(xué)膜照射的激光的每單位面積的能量。
10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的光學(xué)顯示設(shè)備的生產(chǎn)系統(tǒng)，其特征在于， 所述掃描部通過可變地調(diào)整所述激光的掃描速度，從而每次掃描時都設(shè)定向所述光學(xué)膜照射的激光的每單位面積的能量。
11.根據(jù)權(quán)利要求8至10中任一項所述的光學(xué)顯示設(shè)備的生產(chǎn)系統(tǒng)，其特征在于， 所述照射部在針對所述切斷線的第一次的激光掃描中，通過使所述激光的焦點位置位于所述光學(xué)膜的厚度方向上的中間部，從而在所述光學(xué)膜上形成沿著所述切斷線的切斷槽， 所述照射部在針對所述切斷線的第二次以后的激光掃描中，每次掃描時都使所述激光的焦點位置在所述切斷槽的深度方向上移位。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的光學(xué)顯示設(shè)備的生產(chǎn)系統(tǒng)，其特征在于， 所述光學(xué)膜具有至少在厚度方向上的中間部包括偏振層的層疊構(gòu)造， 所述照射部在針對所述切斷線的第一次的激光掃描中，通過將所述激光的焦點位置設(shè)定在比所述偏振層深的位置，從而形成至少將所述偏振層截斷的切斷槽。
13.根據(jù)權(quán)利要求8至12中任一項所述的光學(xué)顯示設(shè)備的生產(chǎn)系統(tǒng)，其特征在于， 所述掃描部在針對所述切斷線的第二次以后的激光掃描中，在使所述激光位于所述切斷槽的內(nèi)側(cè)的狀態(tài)下，每次掃描時都使所述激光的焦點位置向比所述切斷槽的最深部靠外側(cè)的位置移位。
14.根據(jù)權(quán)利要求8至13中任一項所述的光學(xué)顯示設(shè)備的生產(chǎn)系統(tǒng)，其特征在于， 所述照射部通過對所述光學(xué)膜的切斷面照射激光來修整所述切斷面的形狀。
【專利摘要】在光學(xué)顯示設(shè)備的生產(chǎn)方法中，至少在針對切斷線(C)的第一次的激光(L)掃描中，將向光學(xué)膜(FX)照射的激光(L)的每單位面積的能量設(shè)定為未切斷光學(xué)膜(FX)的第一能量，在針對切斷線(C)的第二次以后的激光(L)掃描中，將在至少切斷光學(xué)膜(FX)時向光學(xué)膜(FX)照射的激光(L)的每單位面積的能量設(shè)定為比第一能量小的第二能量。
【IPC分類】H05B33-02, G02F1-1335, G02B5-30, G09F9-00, B23K26-04, B23K26-046, G02F1-13, H01L51-50, B23K26-00, H05B33-10, B23K26-38
【公開號】CN104854645
【申請?zhí)枴緾N201380065541
【發(fā)明人】田中大充, 藤井干士
【申請人】住友化學(xué)株式會社
【公開日】2015年8月19日
【申請日】2013年12月4日
【公告號】WO2014097885A1