心幀34為不同的顏色。在一個實施例中，圖3的顯示可以包括正方形點陣納米孔陣列，其中， 幀31包括周期率為450nm、相對點陣旋轉角為零度的納米孔陣列;幀32包括周期率為470nm、 相對點陣旋轉角為10度的納米孔陣列;幀33包括周期率為480nm、相對點陣旋轉角為20度的 納米孔陣列；幀34包括周期率為500nm、相對點陣旋轉角為30度的納米孔陣列。
[0034] 現(xiàn)在參考圖4,示出了根據(jù)本發(fā)明一個實施例的、示例性雙幀動畫或運動顯示的平 面圖，其包括多個重疊的圖像幀，每一幀包括多個設置為相對其他幀一預定旋轉朝向的納 米結構陣列。在一個實施例中，所述雙幀動畫或運動顯示包括一示為黑色圈的第一幀41和 一示為標記或標志(例如數(shù)字7)第二幀42。在一個這樣的實施例中，所述幀的所述相對旋轉 角可以選擇使得它們吸收光并呈現(xiàn)為黑色，除了第二幀42代表的有限的理想視角。在一個 這樣的實施例中，在包括所述顯示的所述基體旋轉或傾斜至一預定角度時，所述顯示的所 述納米孔陣列會反射衍射的入射光，以顯示理想的隱藏圖像或標記，例如第二幀42的標記。 在另一個實施例中，選擇所述納米孔陣列的適當周期率還可以允許這樣的雙幀顯示照亮一 陰影圖像或對陰影圖像著色。在一特定實施例中，圖4的顯示可以包括多個納米孔陣列，其 中，幀41包括周期率為600nm、相對點陣旋轉角為45度的納米孔陣列，幀42包括周期率為 450nm、相對點陣旋轉角為45度的納米孔陣列。
[0035] 現(xiàn)在參考圖5,示出了根據(jù)本發(fā)明一個實施例的、示例性正方形點陣納米結構陣列 的示意圖，用于提供在不同旋轉角對入射光的選擇性衍射。在所示的示例性實施例中，所述 正方形點陣納米結構陣列可以包括正方形點陣納米孔陣列51、52、53，其中，陣列51以相對 點陣旋轉角零度朝向，陣列52以相對點陣旋轉角10度朝向，陣列53以相對點陣旋轉角45度 朝向。
[0036] 現(xiàn)在參考圖6,示出了根據(jù)本發(fā)明一個實施例的、示例性六邊形點陣納米結構陣列 的示意圖，用于提供在不同旋轉角對入射光的選擇性衍射。在所示的示例性實施例中，所述 六邊形點陣納米結構陣列可以包括六邊形點陣納米孔陣列61、62、63、64，其中，陣列61以相 對點陣旋轉角零度朝向；陣列62以相對點陣旋轉角10度朝向；陣列63以相對點陣旋轉角45 度朝向；陣列64以相對點陣旋轉角90度朝向。
[0037] 在本發(fā)明的一個實施例中，運動或動畫顯示可以包括多個具有點陣設置的納米結 構陣列，所述點陣設置包括以下至少一個：正方形、六邊形、八邊形、五邊形或彭羅斯 (penrose)半有序點陣幾何形狀。在另一個實施例中，所述納米結構陣列可以設置為一種或 多種適當?shù)狞c陣幾何形狀。
[0038]在本發(fā)明的又一個實施例中，運動或動畫顯示可以包括多個包含納米孔的納米結 構陣列，其中，所述納米孔的幾何形狀選自以下一個或多個：圓形、基本上圓形、橢圓形、矩 形、三角形或正方形孔幾何形狀。在另一個實施例中，所述納米結構陣列的所述納米孔可以 成型為一種或多種其他適當?shù)目讕缀涡螤睢?br>[0039]現(xiàn)在參考圖7,示出了根據(jù)本發(fā)明一個實施例的、具有不同納米結構大小和周期率 的示例性正方形點陣納米結構陣列的示意圖。在一個實施例中，根據(jù)本發(fā)明的運動或動畫 顯示可以包括一種或多種示例性納米結構設置，例如示例性的正方形點陣納米孔陣列71、 72、73、74。在一個實施例中，陣列71可以包括通常平均間隔或尺寸的正方形點陣納米孔陣 列；陣列72可以包括較寬間隔的正方形點陣納米孔陣列；陣列73可以包括較窄間隔或密集 排列的正方形點陣納米孔陣列；陣列74可以包括平均間隔的、具有更小尺寸的正方形點陣 納米孔陣列。在一個實施例中，納米孔陣列的所述間隔或周期率可以選擇，以確定所述納米 孔陣列優(yōu)選地反射和/或傳輸?shù)墓獾闹鞑ㄩL。在另一個實施例中，陣列中的納米孔的尺寸可 以選擇，以確定所述納米孔陣列優(yōu)選地反射和/或傳輸?shù)墓獾南鄬α炼?，?或所述納米孔 陣列優(yōu)選地反射和/或傳輸?shù)膸捇虿ㄩL范圍。
[0040]在本發(fā)明的又一個實施例中，提供一種光學安全裝置，其包括一單層基體，所述基 體印制或浮雕有多個亞波長納米孔陣列，以通過反射或透射的入射光的衍射來產生運動或 動畫效果，其可以用于視覺驗證分別的、包含所述基體的物品。在又一個實施例中，光學安 全裝置還可以包括至少兩組納米孔陣列，每一組納米孔陣列呈現(xiàn)繞同一軸的、不同的相對 點陣旋轉角和在所述陣列的多個孔之間的至少一預定周期性間隔（周期率）。在又一個實施 例中，光學安全裝置還可以包括至少兩組納米孔陣列，所述納米孔陣列呈現(xiàn)至少兩個不同 的周期率，以產生至少兩個相應的一級衍射色。在又一個實施例中，光學安全裝置還可以包 括多個納米孔陣列，所述納米孔陣列呈現(xiàn)選自下組的至少一種周期性陣列點陣:正方形、六 邊形、八邊形和潘羅斯半有序點陣。在又一個這樣的實施例中，光學安全裝置還可以包括多 個納米孔陣列，所述納米孔陣列帶有選自下組的特定孔幾何形狀:圓形、橢圓形、矩形、正方 形和三角形。
[0041] 在本發(fā)明的一個實施例中，可以提供一種光學安全裝置，其包括至少兩個交疊和/ 或交錯的圖像(例如如圖1所示），以產生多幀動畫或類似運動的顯示或效果。在一個這樣的 實施例中，每一幀可以包括一組納米孔陣列，所述納米孔陣列對于每幀圖像以至少一獨特 的點陣旋轉角朝向。
[0042] 在本發(fā)明的一個實施例中，可以提供一種光學安全裝置，其包括至少兩個分開的 且彼此基本上不重疊和/或交錯的圖像(例如如圖3所示），以產生至少兩個分別幀的多幀動 畫或類似運動的顯示或效果。在一個這樣的實施例中，每一圖像幀可以包括一組納米孔陣 列，所述納米孔陣列對于每一圖像幀以至少一獨特的點陣旋轉角朝向。
[0043] 在本發(fā)明的一個實施例中，可以提供一種光學安全裝置，其包括至少兩個的圖像 (例如如圖4所示），以產生多幀動畫或類似運動的顯示或效果，所述顯示或效果依觀看者的 視角顯示隱藏圖像或標記。在一個這樣的實施例中，每一圖像幀可以包括具有基本上類似 或相同的點陣旋轉角而不同周期率的多個納米孔陣列，使得這兩個圖像幀可以區(qū)分。在又 一個這樣的實施例中，所述光學安全裝置還可以包括至少兩組納米孔陣列，所述納米孔陣 列包括多個納米孔結構，其根據(jù)衍射特性或特定規(guī)則理想地吸收入射光，從而在特定組的 視角隱藏至少一個圖像。
[0044] 在根據(jù)本發(fā)明的又一實施例中，提供一種生成光學安全裝置的方法，其中所述方 法包括:在一墊片或主基體表面寫入、控制或生成多個亞波長納米孔陣列，所述亞波長納米 孔陣列包括至少兩個納米孔陣列，所述納米孔陣列具有適于提供可選擇性觀看的圖像幀作 為運動或動畫顯示或效果的、不同的相對點陣旋轉角。在一個實施例中，所述納米孔陣列可 以使用電子束蝕刻、或其他適當?shù)募{米級寫入技術和/或裝置產生。在另一個實施例中，所 述方法還包括通過印刷、印制、浮雕、壓花、模制或其他成型方式將至少兩個形成圖像幀的 納米孔陣列成型到適當?shù)膯螌踊w上，以形成所述光學安全裝置。
[0045] 在此描述了本發(fā)明的示例性實施例（包括在摘要中所描述)并不意在窮舉或限制 本發(fā)明的精確形式。它們選來解釋本發(fā)明的原理、使用和實際應用，以幫助本領域技術人員 理解本發(fā)明的教導。
[0046]根據(jù)上面公開的內容，本領域技術人員顯然可以理解，可以進行多種等同變動、變 化和替代而不背離本發(fā)明范圍。
[0047] 在本說明書中，參考"一實施例"、"一個實施例"或類似用語是指結合該實施例描 述的特定特征、結構或特點包括在本公開的至少一個實施例中。因此，在整個說明書中，術 語"在一實施